[發(fā)明專利]一種反射型光束分割等比遞減器及其制作裝置、制作方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201810449894.0
• 申請日: 2018-05-11
• 公開（公告）號: CN108692920A
• 公開（公告）日: 2018-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳冰靜;張敏;齊文博;薛艷博;李奇;何俊華
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機械研究所
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02;G02B5/08
• 代理公司: 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211
• 代理人: 楊引雪

1.一種反射型光束分割等比遞減器，其特征在于：包括基體(11)；

所述基體(11)的一面為反射面(12)，所述反射面(12)上鍍有等間距分布、反射率等比遞減的多種反射膜(13)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射型光束分割等比遞減器，其特征在于：所述反射膜(13)為六種。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反射型光束分割等比遞減器，其特征在于：第一種反射膜的反射率大于95％，其余五種反射膜的反射率按40％依次遞減。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的反射型光束分割等比遞減器，其特征在于：所述基體(11)采用玻璃或金屬材料制作。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的反射型光束分割等比遞減器，其特征在于：所述基體(11)為立方體。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的反射型光束分割等比遞減器，其特征在于：所述基體(11)除反射面(12)外的其他表面均為毛面或帶有楔角的面。

7.制作如權(quán)利要求1至6任一所述反射型光束分割等比遞減器的裝置，其特征在于：包括壓板(2)、固定底座(3)、多孔光闌(4)和單孔光闌(5)；

所述固定底座(3)上設(shè)置有安裝反射型光束分割等比遞減器(1)的卡槽(31)，所述壓板(2)設(shè)置在固定底座(3)的上端，用于壓緊反射型光束分割等比遞減器(1)；

所述多孔光闌(4)設(shè)置在卡槽(31)的前端，用于設(shè)置反射型光束分割等比遞減器(1)的鍍膜區(qū)域；

所述單孔光闌(5)設(shè)置在多孔光闌(4)的前端，用于不同光闌孔的鍍膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制作反射型光束分割等比遞減器的裝置，其特征在于：所述單孔光闌(5)兩側(cè)設(shè)有腰型槽(51)，用于單孔光闌(5)的平移。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制作反射型光束分割等比遞減器的裝置，其特征在于：所述多孔光闌(4)通過螺釘固定設(shè)置在固定底座(3)上。

10.利用權(quán)利要求7至9任一所述的裝置制作反射型光束分割等比遞減器的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)將基體(11)安裝在固定底座(3)的卡槽(31)中，上方用壓板(2)壓緊；

2)在基體反射面(12)的前端固定多孔光闌(4)，確保多個鍍膜區(qū)域所鍍反射膜的相對位置保持不變；

3)在多孔光闌(4)前安裝單孔光闌(5)，移動單孔光闌(5)實現(xiàn)不同光闌孔的鍍膜。