[發(fā)明專利]一種碳化硅陶瓷及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810449414.0 | 申請日: | 2018-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN108455988B | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭偉明;曾令勇;牛文彬;林華泰 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東工業(yè)大學 |
| 主分類號: | C04B35/565 | 分類號: | C04B35/565;C04B35/622;C04B35/645 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 張春水;唐京橋 |
| 地址: | 510060 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 碳化硅 陶瓷 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及陶瓷材料領(lǐng)域,尤其涉及一種碳化硅陶瓷及其制備方法。本發(fā)明提供的碳化硅陶瓷的制備方法,包括以下步驟:步驟1:將碳化硅粉體、氧化鋁粉體、Re2O3粉體混合得到碳化硅?氧化鋁?Re2O3混合粉體;步驟2:將所述碳化硅?氧化鋁?Re2O3混合粉體和二硼化鉭粉體經(jīng)混料后得到碳化硅?氧化鋁?Re2O3?二硼化鉭混合粉體;步驟3:將所述碳化硅?氧化鋁?Re2O3?二硼化鉭混合粉體通過造粒、燒結(jié)得到所述碳化硅陶瓷。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中液相燒結(jié)碳化硅陶瓷氧化后生成的二氧化硅保護膜被破壞,導致其抗氧化性能降低的技術(shù)問題。由該方法制得的碳化硅陶瓷致密性高且抗氧化性能良好,可廣泛應(yīng)用于機械、化工、微電子、汽車、石油及加工等領(lǐng)域。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及陶瓷材料領(lǐng)域,尤其涉及一種碳化硅陶瓷及其制備方法。
背景技術(shù)
碳化硅陶瓷具有耐高溫、耐腐蝕、抗熱震、耐磨及良好的熱傳導性能等優(yōu)點。大量應(yīng)用在航空航天、核能、機械、化工、微電子、汽車、石油及加工等領(lǐng)域。
碳化硅陶瓷能在惡劣的高溫環(huán)境下應(yīng)用,主要由于在其表面可以生成一層致密的二氧化硅膜,從而具有良好的抗氧化性能。然而,由于碳化硅是一種強共價鍵化合物,其在高溫下的自擴散系數(shù)非常低,導致其在不添加燒劑助劑甚至固相燒結(jié)中都很難燒結(jié)致密。因此,現(xiàn)有的方法通常在碳化硅中引入氧化物燒結(jié)助劑后實現(xiàn)液相燒結(jié),燒結(jié)過程中生產(chǎn)多元低共熔物,可以在溫度更低的情況下燒結(jié)致密。但是,由于氧化物燒結(jié)助劑為達到化學勢的平衡,會在高溫氧化過程中穿過二氧化硅保護膜發(fā)生再分布,破壞氧化后生成的二氧化硅保護膜并降低了粘度,無法阻止氧向內(nèi)擴散,最終導致碳化硅陶瓷的抗氧化性能降低。因此如何提高液相燒結(jié)碳化硅陶瓷的抗氧化性能成為了本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種碳化硅陶瓷的制備方法,解決了現(xiàn)有技術(shù)中液相燒結(jié)碳化硅陶瓷氧化后生成的二氧化硅保護膜被破壞,導致其抗氧化性能降低的技術(shù)問題。由該方法制得的碳化硅陶瓷致密性高且抗氧化性能良好,可廣泛應(yīng)用于機械、化工、微電子、汽車、石油及加工等領(lǐng)域。
本發(fā)明提供了一種碳化硅陶瓷的制備方法,包括以下步驟:
步驟1:將碳化硅粉體、氧化鋁粉體、Re2O3粉體混合得到碳化硅-氧化鋁-Re2O3混合粉體,其中,Re為釔元素、鑭元素、鈰元素、鐠元素、釹元素、钷元素、釤元素、銪元素、釓元素、鋱元素、鏑元素、鈥元素、鉺元素、銩元素、鐿元素或镥元素;
步驟2:將所述碳化硅-氧化鋁-Re2O3混合粉體和二硼化鉭粉體經(jīng)混料后得到碳化硅-氧化鋁-Re2O3-二硼化鉭混合粉體;
步驟3:將所述碳化硅-氧化鋁-Re2O3-二硼化鉭混合粉體通過造粒、燒結(jié)得到所述碳化硅陶瓷。
優(yōu)選的,步驟1中所述碳化硅粉體、所述氧化鋁粉體和所述Re2O3粉體的質(zhì)量比為90:6:4。
優(yōu)選的,步驟2中所述碳化硅-氧化鋁-Re2O3混合粉體與所述二硼化鉭粉體的體積比為(80~100):(0.01~20)。
更優(yōu)選的,步驟2中所述碳化硅-氧化鋁-Re2O3混合粉體與所述二硼化鉭粉體的體積分數(shù)比為95:5或90:10或80:20或85:15。
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