[發(fā)明專利]大尺寸合成石英玻璃襯底、評(píng)價(jià)方法、和制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810428812.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-05-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108873599A | 公開(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 石塚洋行;渡部厚;原田大實(shí);竹內(nèi)正樹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03F1/60 | 分類號(hào): | G03F1/60;G03F1/36 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 李躍龍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 石英玻璃 襯底 評(píng)價(jià)區(qū)域 襯底表面 有效范圍 合成 對(duì)角線 高平坦度 局部梯度 光掩模 平坦度 制備 制造 | ||
本發(fā)明涉及一種大尺寸合成石英玻璃襯底、評(píng)價(jià)方法、和制造方法。該大尺寸合成石英玻璃襯底具有至少1,000mm的對(duì)角線長度。假設(shè)在襯底表面上限定有效范圍,并且將有效范圍劃分為多個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域,使得所述評(píng)價(jià)區(qū)域彼此部分重疊,每個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域中的平坦度為至多3μm。從具有高平坦度和在襯底表面內(nèi)的最小局部梯度的石英玻璃襯底制備大尺寸光掩模。
相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
該非臨時(shí)申請(qǐng)根據(jù)35U.S.C.§119(a)要求2017年5月8日在日本提交的專利申請(qǐng)?zhí)?017-092330的優(yōu)先權(quán),其全部內(nèi)容通過引用并入本文。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及大尺寸合成石英玻璃襯底、評(píng)價(jià)方法以及制造方法。
背景技術(shù)
隨著通過光刻法使圖案小型化的近來進(jìn)展,對(duì)形成掩模的合成石英玻璃襯底的高平坦性的要求正在增加。在現(xiàn)有技術(shù)中,襯底平坦度的規(guī)范通常由襯底的整個(gè)前或后表面上的平坦度值確定。然而,在較大面積的掩模用于符合大尺寸顯示器如平板顯示器的領(lǐng)域中,不僅襯底應(yīng)當(dāng)在整個(gè)表面上具有低的平坦度,而且減少在襯底表面內(nèi)的平坦度變化也是重要的。專利文獻(xiàn)1公開了一種通過將襯底劃分為多個(gè)部位并比較每個(gè)部位內(nèi)的局部平坦度來評(píng)價(jià)襯底表面內(nèi)的平坦度變化的方法。
引文列表
專利文獻(xiàn)1:JP-A2004-200600(USP7,230,680)
發(fā)明內(nèi)容
形成掩模的襯底具有高平坦度是重要的。即使在整個(gè)襯底上的平坦度落入特定規(guī)范內(nèi)時(shí),也存在整個(gè)襯底上的平坦度具有變化或不均勻性,并且該表面包括具有大起伏梯度的局部區(qū)域的情況。這導(dǎo)致沉積在襯底上的薄膜的不均勻性或者通過掩模曝光時(shí)聚焦的變化。在專利文獻(xiàn)1的方法中,將晶片表面分成多個(gè)部位,并且在評(píng)價(jià)中使用每個(gè)部位的平坦度以使形狀接近期望的形狀。由于部位不是重疊而是分開的,因此沒有評(píng)價(jià)部位之間的平坦度例如位于部位側(cè)面的局部起伏梯度。
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種大尺寸合成石英玻璃襯底,它在該襯底表面中具有高的平坦度和最小的局部梯度,因此它可用作起始襯底以形成允許以高精度曝光的掩模;一種評(píng)價(jià)方法;和一種制造方法。
發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)以下內(nèi)容。在用作形成掩模的起始襯底的大尺寸合成石英玻璃襯底中,在前表面和/或后表面上限定有效范圍。將有效范圍劃分為多個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域,使得評(píng)價(jià)區(qū)域彼此部分重疊?;诿總€(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域內(nèi)的平坦度數(shù)據(jù)以及一個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域內(nèi)的平坦度和與所述一個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域重疊的另一個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域內(nèi)的平坦度之間的進(jìn)一步差異數(shù)據(jù)來評(píng)價(jià)平坦度是有效的。通過基于評(píng)價(jià)結(jié)果確定拋光中的材料去除量并根據(jù)確定的量局部拋光該襯底表面,獲得大尺寸合成石英玻璃襯底表面,其在襯底表面中具有高平坦度和最小局部梯度,使得它可用作起始襯底以形成允許以高精度曝光的掩模。
一方面,本發(fā)明提供一種具有前表面和后表面以及至少1,000mm的對(duì)角線長度的大尺寸合成石英玻璃襯底,其中在前表面和/或后表面上限定有效范圍,該有效范圍被劃分成多個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域,使得評(píng)價(jià)區(qū)域彼此部分重疊,并且每個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域中的平坦度為至多3μm。
在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,襯底是矩形的,有效范圍是通過去除從襯底表面的每側(cè)延伸10mm的帶而限定在襯底表面上的矩形范圍,該矩形范圍具有兩對(duì)相對(duì)側(cè)邊,評(píng)價(jià)區(qū)域由該有效范圍的一對(duì)相對(duì)側(cè)邊和平行于另一對(duì)相對(duì)側(cè)邊的兩條直線劃定,且沿著所述一對(duì)相對(duì)側(cè)邊具有100至300mm的寬度。
在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,對(duì)于每個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域,在該評(píng)價(jià)區(qū)域與重疊評(píng)價(jià)區(qū)域中最接近的一個(gè)之間的重疊面積為每個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域的面積的50%至98%。
在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,對(duì)于每個(gè)評(píng)價(jià)區(qū)域,在該評(píng)價(jià)區(qū)域和重疊的評(píng)價(jià)區(qū)域中最接近的一個(gè)之間的平坦度差異為至多0.8μm。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備
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