[發明專利]大尺寸合成石英玻璃襯底、評價方法、和制造方法在審
| 申請號: | 201810428812.4 | 申請日: | 2018-05-08 |
| 公開(公告)號: | CN108873599A | 公開(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發明(設計)人: | 石塚洋行;渡部厚;原田大實;竹內正樹 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/60 | 分類號: | G03F1/60;G03F1/36 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 李躍龍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石英玻璃 襯底 評價區域 襯底表面 有效范圍 合成 對角線 高平坦度 局部梯度 光掩模 平坦度 制備 制造 | ||
1.一種具有前表面和后表面以及至少1,000mm的對角線長度的大尺寸合成石英玻璃襯底,其中在所述前表面和/或后表面上限定有效范圍,將所述有效范圍劃分為多個評價區域使得所述評價區域彼此部分重疊,并且每個評價區域中的平坦度為至多3μm。
2.根據權利要求1所述的石英玻璃襯底,其中所述襯底為矩形,所述有效范圍為通過去除從襯底表面的每側延伸10mm的帶而限定在所述襯底表面上的矩形范圍,所述矩形范圍具有兩對相對的側邊,所述評價區域由有效范圍的一對相對側邊和與另一對相對側邊平行的兩條直線劃定,且沿著一對相對側邊具有100至300mm的寬度。
3.根據權利要求1所述的石英玻璃襯底,其中對于每個評價區域,所述評價區域與重疊的評價區域中最接近的一個之間的重疊面積為每個評價區域的面積的50%至98%。
4.根據權利要求1所述的石英玻璃襯底,其中對于每個評價區域,所述評價區域與重疊的評價區域中最接近的一個之間的平坦度差異為至多0.8μm。
5.一種用于評價具有前表面和后表面以及至少1,000mm對角線長度的大尺寸合成石英玻璃襯底的平坦度的方法,其中在前表面和后表面中的一個或兩個上限定有效范圍,該方法包括以下步驟:
將有效范圍劃分為多個評價區域,使得所述評價區域彼此部分重疊,
測量每個評價區域內的平坦度。
6.根據權利要求5所述的方法,還包括以下步驟:計算一個評價區域中的平坦度和與所述一個評價區域重疊的另一評價區域中的平坦度之間的差異。
7.一種制造大尺寸合成石英玻璃襯底的方法,包括以下步驟:
根據權利要求5的方法評價大尺寸石英玻璃襯底的平坦度,
基于所測量的平坦度確定拋光中的材料去除量,以及
根據確定的拋光中的材料去除量局部拋光石英玻璃襯底的表面。
8.一種制造大尺寸合成石英玻璃襯底的方法,包括以下步驟:
根據權利要求6所述的方法評價大尺寸石英玻璃襯底的平坦度,
基于所測量的平坦度和平坦度差異確定拋光中的材料去除量,以及
根據確定的拋光中的材料去除量局部拋光石英玻璃襯底的表面。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





