[發明專利]一種高效能環保型酸性蝕刻液及其蝕刻方法

在審

• 申請號: 201810428233.X
• 申請日: 2018-05-07
• 公開（公告）號: CN110453223A
• 公開（公告）日: 2019-11-15
• 發明（設計）人: 徐剛;蔡國軍;苑舉春;李瀚;羅昭斌;詹梓軒;邵家維;周選文;鐘麗君
• 申請（專利權）人: 惠州市鴻宇泰科技有限公司
• 主分類號: C23F1/18
• 分類號: C23F1/18
• 代理公司: 44102 廣州粵高專利商標代理有限公司
• 代理人: 陳衛;譚映華<國際申請>=<國際公布>=

1.一種高效能環保型酸性蝕刻液，其特征在于，包括含有氫離子、氯離子、銅離子以及亞銅離子的蝕刻液基液、含有氯酸離子的酸性蝕刻液I以及含有氫離子的酸性蝕刻液II；所述的蝕刻液基液中的氫離子的含量為0.5g/L～1.5g/L，氯離子的含量為230g/L～260g/L，銅離子的含量為120g/L～150g/L，銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差為450～550毫伏；所述的酸性蝕刻液I中的氯酸離子的含量為80g/L～180g/L；所述的酸性蝕刻液II中的氫離子的含量為100g/L～200g/L。

2.根據權利要求1所述的高效能環保型酸性蝕刻液，其特征在于，所述的酸性蝕刻液I包括氯酸鈉、氯化鈉、尿素以及水。

3.根據權利要求2所述的高效能環保型酸性蝕刻液，其特征在于，所述的酸性蝕刻液I的各組份含量如下：

氯酸鈉100g/L～200g/L；

氯化鈉80g/L～170g/L；

尿素1g/L～10g/L；

水余量。

4.根據權利要求1所述的高效能環保型酸性蝕刻液，其特征在于，所述的酸性蝕刻液II包括鹽酸，氯化銨、亞鐵氰化鉀、氯化鈉以及水。

5.根據權利要求4所述的高效能環保型酸性蝕刻液，其特征在于，所述的酸性蝕刻液II的各組份含量如下：

鹽酸100g/L～200g/L；

氯化銨50g/L～150g/L；

亞鐵氰化鉀0.5g/L～20g/L；

氯化鈉10g/L～60g/L；

水余量。

6.一種高效能環保型酸性蝕刻液的蝕刻方法，其特征在于：包括以下步驟：

（1）向線路板蝕刻槽內添加權利要求1所述的蝕刻液基液，同時將蝕刻槽內的溫度控制在45℃～55℃；其中，蝕刻槽中的氫離子的含量為0.5g/L～1.5g/L，氯離子的含量為230g/L～260g/L，銅離子的含量為120g/L～150g/L，銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差為450～550毫伏；

（2）將線路板放入蝕刻槽內進行蝕刻；

（3）對蝕刻槽內的蝕刻液基液的氫離子的含量和銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差進行檢測；

（4）根據檢測的蝕刻液的氫離子的含量和銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差的值向蝕刻槽內增加權利要求1所述的酸性蝕刻液I和/或酸性蝕刻液II，將蝕刻槽內的蝕刻液中的氫離子的含量控制在0.5g/L～1.5g/L，銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差控制在450～550毫伏；

（5）返回步驟（2），繼續對線路板進行蝕刻。

7.根據權利要求6所述的高效能環保型酸性蝕刻液的蝕刻方法，其特征在于：步驟（4）的具體步驟如下：

當檢測蝕刻槽中的蝕刻液的氫離子的含量小于0.5g/L時，向蝕刻槽內添加酸性蝕刻液I，調整蝕刻槽內的蝕刻液中的氫離子含量，將蝕刻槽內的蝕刻液中的氫離子的含量控制在0.5g/L～1.5g/L，銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差控制在450～550毫伏。

8.根據權利要求6所述的高效能環保型酸性蝕刻液的蝕刻方法，其特征在于：步驟（4）的具體步驟如下：

當檢測蝕刻槽中的銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差低于450毫伏時，向蝕刻槽內添加酸性蝕刻液II，調整蝕刻槽內的蝕刻液中的銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差，將蝕刻槽內的蝕刻液中的氫離子的含量控制在0.5g/L～1.5g/L，銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差控制在450～550毫伏。

9.根據權利要求6所述的高效能環保型酸性蝕刻液的蝕刻方法，其特征在于：步驟（4）的具體步驟如下：

當檢測蝕刻槽中的蝕刻液的氫離子的含量小于0.5g/L，且銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差450毫伏時，向蝕刻槽內添加酸性蝕刻液I和酸性蝕刻液II，調整蝕刻槽內的蝕刻液中的氫離子含量和銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差，將蝕刻槽內的蝕刻液中的氫離子的含量控制在0.5g/L～1.5g/L，銅離子與亞銅離子的氧化還原電位差控制在450～550毫伏。