[發明專利]制作玻璃PVD鍍層logo的退鍍工藝及玻璃和制品有效
| 申請號: | 201810425387.3 | 申請日: | 2018-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN110453224B | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發明(設計)人: | 周群飛;饒橋兵;唐汨;孫彬 | 申請(專利權)人: | 藍思科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/44 | 分類號: | C23F1/44;C03C23/00 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 王宏 |
| 地址: | 410311 *** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制作 玻璃 pvd 鍍層 logo 工藝 制品 | ||
本發明公開了一種制作玻璃PVD鍍層logo的退鍍工藝及玻璃和制品,涉及玻璃退鍍領域。退鍍工藝包括對Ti/Si?Cu?Ti/Si PVD鍍膜并絲印logo后玻璃先依次用退鍍液A、退鍍液B和退鍍液A退鍍PVD鍍層,再用退鍍液C退鍍油墨;退鍍液A原料包括可溶性堿金屬氫氧化物10?20%,雙氧水30?40%,EDTA可溶性鹽10?15%,焦磷酸鉀5?10%,其余水;退鍍液B包括可溶性堿金屬氫氧化物10?20%,EDTA可溶性鹽10?15%,其余水;退鍍液C包括碳酸二甲酯20?30%,多元醇10?15%,醇胺類絡合劑10?15%,其余水。本發明工藝針對特定膜系,緩解過退、損傷油墨和/或PVD鍍層等問題。
技術領域
本發明涉及玻璃logo退鍍清洗技術領域,具體而言,涉及一種制作玻璃PVD鍍層logo的退鍍工藝及玻璃和制品。
背景技術
隨著電子產品產業的發展和科技的進步,玻璃logo的制作已經逐漸從采用貼合、絲印彩油的方式轉化成采用鍍膜方式,PVD(Physical Vapor Deposition,物理氣相沉積)鍍膜彩色金屬顏色更豐富、鏡面視覺效果更好,重要的是采用PVD電鍍logo厚度薄,相比傳統貼合、絲印方式,完全看不出有臺階、貼合痕跡。目前PVD電鍍logo不但美觀漂亮,且顏色色彩多樣化,能夠得到外觀豐富多彩的電子產品。
玻璃產品獲得PVD鍍層logo的工藝流程包括:產品PVD電鍍→絲印logo→退鍍PVD(非油墨覆蓋區)→退鍍油墨,在退鍍作業過程中也會存在一些問題,如去除金屬鍍層時,很容易產生過退導致logo與字體的殘缺或燒傷,造成產品不良;去除油墨時,也會產生過退而損傷PVD膜層;不同膜系對于退鍍液的選擇性比較強,如果選擇的退鍍液不適合,不但退鍍效果不好,而且還會造成過退。
因此,所期望的是提供一種新的制作玻璃PVD鍍層logo的退鍍工藝,其能夠解決上述問題中的至少一個。
有鑒于此,特提出本發明。
發明內容
本發明的目的之一在于提供一種制作玻璃PVD鍍層logo的退鍍工藝,能夠解決上述問題中的至少一個,針對特定膜系進行退鍍,緩解過退、損傷油墨和/或PVD鍍層等問題。
本發明的目的之二在于提供一種采用上述制作玻璃PVD鍍層logo的退鍍工藝退鍍得到的玻璃。
本發明的目的之三在于提供一種包括上述玻璃的制品。
為了實現本發明的上述目的,特采用以下技術方案:
第一方面,提供了一種制作玻璃PVD鍍層logo的退鍍工藝,包括以下步驟:
對PVD鍍膜并絲印logo后的玻璃先依次采用退鍍液A、退鍍液B和退鍍液A退鍍PVD鍍層,再采用退鍍液C退鍍油墨,得到帶有PVD鍍層logo的玻璃;
其中,退鍍液A按質量百分含量包括以下原料:可溶性堿金屬氫氧化物10-20%,雙氧水30-40%,EDTA可溶性鹽10-15%,焦磷酸鉀5-10%,其余為水;
退鍍液B按質量百分含量包括以下原料:可溶性堿金屬氫氧化物10-20%,EDTA可溶性鹽10-15%,其余為水;
退鍍液C按質量百分含量包括以下原料:碳酸二甲酯20-30%,多元醇10-15%,醇胺類絡合劑10-15%,其余為水;
PVD鍍層包括玻璃基板表面依次設置的Ti/Si層、Cu層和Ti/Si層。
優選地,在本發明提供的技術方案的基礎上,退鍍液A和退鍍液B中可溶性堿金屬氫氧化物獨立地包括KOH和/或NaOH,和/或,EDTA可溶性鹽獨立地包括EDTA鈉鹽和/或EDTA鉀鹽。
優選地,在本發明提供的技術方案的基礎上,退鍍液C中多元醇包括乙二醇、丙三醇、1,2-丙二醇或1,3-丙二醇中的一種或幾種,和/或,醇胺類絡合劑包括一乙醇胺和/或三乙醇胺。
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