[發明專利]一種二維轉頂精度檢測方法

有效

• 申請號: 201810425229.8
• 申請日: 2018-05-07
• 公開（公告）號: CN108489396B
• 公開（公告）日: 2019-11-01
• 發明（設計）人: 孔德旺;王玉偉;莫崇江
• 申請（專利權）人: 北京環境特性研究所
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00;G01B11/16
• 代理公司: 北京格允知識產權代理有限公司 11609
• 代理人: 周嬌嬌;張沫

本發明涉及一種二維轉頂精度檢測方法，涉及電磁散射技術領域。其中，該方法包括：將二維轉頂的俯仰角和方位角調至初始角度，以第一角度間隔使二維轉頂作方位運動，通過激光跟蹤儀采集反射器在每個理論方位角下的坐標；以第二角度間隔使二維轉頂作俯仰運動，通過激光跟蹤儀采集反射器在每個理論俯仰角下的坐標；根據所述反射器在每個理論方位角下的坐標以及在每個理論俯仰角下的坐標，確定空載狀態下二維轉頂方位運動、俯仰運動的定位精度以及方位軸和俯仰軸的正交度。通過以上步驟，能夠提高檢測獲得的方位運動、俯仰運動定位精度的準確性，實現方位軸與俯仰軸正交度的檢測，提高二維轉頂精度檢測的全面性。

技術領域

本發明涉及技術領域，尤其涉及一種二維轉頂精度檢測方法。

背景技術

雷達散射截面(RCS，radar cross section)測量是研究目標電磁散射特性的重要方法。緊縮場RCS測量系統主要由屏蔽微波暗室、緊縮場、二維低散射金屬支架、一維泡沫支架、信號收發與采集處理設備、測量輔助設備等組成。二維低散射金屬支架是支撐結構中的一種，其具有較強的負重能力，能夠實現目標在方位以及俯仰二維方向上的連續運動，以模擬目標運動狀態的姿態角。

二維轉頂是二維低散射金屬支架上用于安裝被測目標的結構，測試中可通過二維轉頂外殼的方位轉動和轉頂的整體俯仰來精確控制目標在方位和俯仰二維方向上的姿態角。方位和俯仰角度的轉動可通過控制系統和上位機的編程實現。

在RCS測試中，通過二維轉頂外殼的方位轉動和轉頂的整體俯仰可精確控制目標在方位和俯仰二維方向上的姿態角。二維轉頂的運動定位精度決定了RCS測試目標的運動定位精度。因此，對二維轉頂的精度進行檢測有重要意義。

二維轉頂精度的傳統檢測方法主要包括：1)使用電子水平儀檢測俯仰運動定位精度，包括以下步驟：將俯仰調整至水平位置(即俯仰角為0)，初始化電子水平儀，按照5°間隔旋轉被測軸，記錄每個角度下電子水平儀的度數；2)使用平面鏡-光電自準直儀檢測方位運動定位精度，主要包括以下步驟：在二維轉頂頂面中心安裝一可以調整的棱體反射鏡，將光電自準直儀(簡稱“光管”)、二維轉頂以及二維轉頂支撐基座架設在同一隔振基礎上，調整光管位置使光軸與被測軸線(即方位軸)對準，按照30°間隔旋轉被測軸，記錄每個角度下光管調整的角度度數。

在實現本發明的過程中，本發明的發明人發現現有技術存在以下問題：1)傳統的檢測方法的檢測精度低，且無法檢測出方位軸與俯仰軸的正交度。2)由于二維轉頂具有體積小，承重大，偏心大等特點，在偏心重載的情況下，二維轉頂的整體形變對方位和俯仰精度的影響愈發的不容忽視。然而，傳統的檢測方法無法反映二維轉頂整體形變對精度的影響。3)使用光管進行方位運動定位精度檢測，只能在二維轉頂處于水平狀態進行方位運動定位精度檢測。如果需要在二維轉頂俯仰后進行方位運動定位精度檢測，則需要單獨制作多維度調節工裝，校準測量難度很大，實際測量時很難實現。

因此，針對以上不足，需要提供一種新的二維轉頂精度檢測方法及系統。

發明內容

本發明要解決的技術問題在于，針對現有技術中的缺陷，提供一種二維轉頂精度檢測方法和系統，能夠提高檢測獲得的方位運動、俯仰運動定位精度的準確性，實現方位軸與俯仰軸正交度的檢測，提高二維轉頂精度檢測的全面性。

為了解決上述技術問題，本發明提供了一種二維轉頂精度檢測方法。

本發明的二維轉頂精度檢測方法包括：步驟A、將反射器放置在二維轉頂的頂面，并令經由所述反射器反射的激光方向指向激光跟蹤儀；步驟B、將二維轉頂的俯仰角和方位角調至初始角度，以第一角度間隔使所述二維轉頂作方位運動，通過所述激光跟蹤儀采集所述反射器在每個理論方位角下的坐標；以第二角度間隔使所述二維轉頂作俯仰運動，通過激光跟蹤儀采集所述反射器在每個理論俯仰角下的坐標；步驟C、根據所述反射器在每個理論方位角下的坐標以及在每個理論俯仰角下的坐標，確定空載狀態下二維轉頂方位運動、俯仰運動的定位精度以及方位軸和俯仰軸的正交度。