[發(fā)明專利]一種二維轉(zhuǎn)頂精度檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810425229.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-05-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108489396B | 公開(公告)日: | 2019-11-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孔德旺;王玉偉;莫崇江 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京環(huán)境特性研究所 |
| 主分類號(hào): | G01B11/00 | 分類號(hào): | G01B11/00;G01B11/16 |
| 代理公司: | 北京格允知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609 | 代理人: | 周嬌嬌;張沫 |
| 地址: | 100854*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 二維 方位運(yùn)動(dòng) 俯仰運(yùn)動(dòng) 精度檢測(cè) 反射器 方位角 俯仰角 激光跟蹤儀 角度間隔 方位軸 俯仰軸 正交 采集 空載狀態(tài) 散射技術(shù) 全面性 檢測(cè) | ||
本發(fā)明涉及一種二維轉(zhuǎn)頂精度檢測(cè)方法,涉及電磁散射技術(shù)領(lǐng)域。其中,該方法包括:將二維轉(zhuǎn)頂?shù)母┭鼋呛头轿唤钦{(diào)至初始角度,以第一角度間隔使二維轉(zhuǎn)頂作方位運(yùn)動(dòng),通過激光跟蹤儀采集反射器在每個(gè)理論方位角下的坐標(biāo);以第二角度間隔使二維轉(zhuǎn)頂作俯仰運(yùn)動(dòng),通過激光跟蹤儀采集反射器在每個(gè)理論俯仰角下的坐標(biāo);根據(jù)所述反射器在每個(gè)理論方位角下的坐標(biāo)以及在每個(gè)理論俯仰角下的坐標(biāo),確定空載狀態(tài)下二維轉(zhuǎn)頂方位運(yùn)動(dòng)、俯仰運(yùn)動(dòng)的定位精度以及方位軸和俯仰軸的正交度。通過以上步驟,能夠提高檢測(cè)獲得的方位運(yùn)動(dòng)、俯仰運(yùn)動(dòng)定位精度的準(zhǔn)確性,實(shí)現(xiàn)方位軸與俯仰軸正交度的檢測(cè),提高二維轉(zhuǎn)頂精度檢測(cè)的全面性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種二維轉(zhuǎn)頂精度檢測(cè)方法。
背景技術(shù)
雷達(dá)散射截面(RCS,radar cross section)測(cè)量是研究目標(biāo)電磁散射特性的重要方法。緊縮場(chǎng)RCS測(cè)量系統(tǒng)主要由屏蔽微波暗室、緊縮場(chǎng)、二維低散射金屬支架、一維泡沫支架、信號(hào)收發(fā)與采集處理設(shè)備、測(cè)量輔助設(shè)備等組成。二維低散射金屬支架是支撐結(jié)構(gòu)中的一種,其具有較強(qiáng)的負(fù)重能力,能夠?qū)崿F(xiàn)目標(biāo)在方位以及俯仰二維方向上的連續(xù)運(yùn)動(dòng),以模擬目標(biāo)運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的姿態(tài)角。
二維轉(zhuǎn)頂是二維低散射金屬支架上用于安裝被測(cè)目標(biāo)的結(jié)構(gòu),測(cè)試中可通過二維轉(zhuǎn)頂外殼的方位轉(zhuǎn)動(dòng)和轉(zhuǎn)頂?shù)恼w俯仰來精確控制目標(biāo)在方位和俯仰二維方向上的姿態(tài)角。方位和俯仰角度的轉(zhuǎn)動(dòng)可通過控制系統(tǒng)和上位機(jī)的編程實(shí)現(xiàn)。
在RCS測(cè)試中,通過二維轉(zhuǎn)頂外殼的方位轉(zhuǎn)動(dòng)和轉(zhuǎn)頂?shù)恼w俯仰可精確控制目標(biāo)在方位和俯仰二維方向上的姿態(tài)角。二維轉(zhuǎn)頂?shù)倪\(yùn)動(dòng)定位精度決定了RCS測(cè)試目標(biāo)的運(yùn)動(dòng)定位精度。因此,對(duì)二維轉(zhuǎn)頂?shù)木冗M(jìn)行檢測(cè)有重要意義。
二維轉(zhuǎn)頂精度的傳統(tǒng)檢測(cè)方法主要包括:1)使用電子水平儀檢測(cè)俯仰運(yùn)動(dòng)定位精度,包括以下步驟:將俯仰調(diào)整至水平位置(即俯仰角為0),初始化電子水平儀,按照5°間隔旋轉(zhuǎn)被測(cè)軸,記錄每個(gè)角度下電子水平儀的度數(shù);2)使用平面鏡-光電自準(zhǔn)直儀檢測(cè)方位運(yùn)動(dòng)定位精度,主要包括以下步驟:在二維轉(zhuǎn)頂頂面中心安裝一可以調(diào)整的棱體反射鏡,將光電自準(zhǔn)直儀(簡稱“光管”)、二維轉(zhuǎn)頂以及二維轉(zhuǎn)頂支撐基座架設(shè)在同一隔振基礎(chǔ)上,調(diào)整光管位置使光軸與被測(cè)軸線(即方位軸)對(duì)準(zhǔn),按照30°間隔旋轉(zhuǎn)被測(cè)軸,記錄每個(gè)角度下光管調(diào)整的角度度數(shù)。
在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的過程中,本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)存在以下問題:1)傳統(tǒng)的檢測(cè)方法的檢測(cè)精度低,且無法檢測(cè)出方位軸與俯仰軸的正交度。2)由于二維轉(zhuǎn)頂具有體積小,承重大,偏心大等特點(diǎn),在偏心重載的情況下,二維轉(zhuǎn)頂?shù)恼w形變對(duì)方位和俯仰精度的影響愈發(fā)的不容忽視。然而,傳統(tǒng)的檢測(cè)方法無法反映二維轉(zhuǎn)頂整體形變對(duì)精度的影響。3)使用光管進(jìn)行方位運(yùn)動(dòng)定位精度檢測(cè),只能在二維轉(zhuǎn)頂處于水平狀態(tài)進(jìn)行方位運(yùn)動(dòng)定位精度檢測(cè)。如果需要在二維轉(zhuǎn)頂俯仰后進(jìn)行方位運(yùn)動(dòng)定位精度檢測(cè),則需要單獨(dú)制作多維度調(diào)節(jié)工裝,校準(zhǔn)測(cè)量難度很大,實(shí)際測(cè)量時(shí)很難實(shí)現(xiàn)。
因此,針對(duì)以上不足,需要提供一種新的二維轉(zhuǎn)頂精度檢測(cè)方法及系統(tǒng)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于,針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷,提供一種二維轉(zhuǎn)頂精度檢測(cè)方法和系統(tǒng),能夠提高檢測(cè)獲得的方位運(yùn)動(dòng)、俯仰運(yùn)動(dòng)定位精度的準(zhǔn)確性,實(shí)現(xiàn)方位軸與俯仰軸正交度的檢測(cè),提高二維轉(zhuǎn)頂精度檢測(cè)的全面性。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種二維轉(zhuǎn)頂精度檢測(cè)方法。
本發(fā)明的二維轉(zhuǎn)頂精度檢測(cè)方法包括:步驟A、將反射器放置在二維轉(zhuǎn)頂?shù)捻斆妫⒘罱?jīng)由所述反射器反射的激光方向指向激光跟蹤儀;步驟B、將二維轉(zhuǎn)頂?shù)母┭鼋呛头轿唤钦{(diào)至初始角度,以第一角度間隔使所述二維轉(zhuǎn)頂作方位運(yùn)動(dòng),通過所述激光跟蹤儀采集所述反射器在每個(gè)理論方位角下的坐標(biāo);以第二角度間隔使所述二維轉(zhuǎn)頂作俯仰運(yùn)動(dòng),通過激光跟蹤儀采集所述反射器在每個(gè)理論俯仰角下的坐標(biāo);步驟C、根據(jù)所述反射器在每個(gè)理論方位角下的坐標(biāo)以及在每個(gè)理論俯仰角下的坐標(biāo),確定空載狀態(tài)下二維轉(zhuǎn)頂方位運(yùn)動(dòng)、俯仰運(yùn)動(dòng)的定位精度以及方位軸和俯仰軸的正交度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京環(huán)境特性研究所,未經(jīng)北京環(huán)境特性研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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