[發明專利]調節室部件

在審

• 申請號: 201810413115.1
• 申請日: 2018-05-03
• 公開（公告）號: CN108856128A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 阿米爾·A·亞西爾;石洪;約翰·多爾蒂;杜安·奧特卡;許林;阿芒·阿沃揚;克利夫·拉克魯瓦;吉里什·洪迪
• 申請（專利權）人: 朗姆研究公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 上海勝康律師事務所 31263
• 代理人: 李獻忠;邱曉敏

本發明涉及調節室部件。提供了一種用于調節處理室的部件的裝置。提供了一種保持兆頻超聲波調節溶液的罐。支架在罐被兆頻超聲波調節溶液填充時保持浸入兆頻超聲波調節溶液中的部件。兆頻超聲波調節溶液入口系統將兆頻超聲波調節溶液輸送到罐。兆頻超聲波換能器頭包括至少一個兆頻超聲波換能器，以向兆頻超聲波調節溶液提供兆頻超聲波能量，其中將兆頻超聲波能量通過兆頻超聲波調節溶液輸送到部件。兆頻超聲波調節溶液排放系統在將部件保持在兆頻超聲波調節溶液中的位置上方的位置處從罐中排出兆頻超聲波調節溶液。致動器使兆頻超聲波換能器頭移動通過罐。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2017年5月3日提交的美國臨時申請No.62/500,688的優先權權益，該申請通過引用并入本文以用于所有目的。

技術領域

本公開涉及用于調節陶瓷部件的方法。更具體地，本公開涉及用于調節用于晶片等離子體處理室中的陶瓷部件的方法。

背景技術

在形成半導體器件中，使用晶片等離子體處理室來處理襯底。一些等離子體處理室具有包含陶瓷的部件，例如介電功率窗、氣體注入器、邊緣環、電極、噴頭、高流動襯里和靜電卡盤。

發明內容

為了實現上述目的并且根據本發明的目的，提供了一種用于調節處理室的部件的裝置。罐容納兆頻超聲波調節溶液。支架在所述罐被兆頻超聲波調節溶液填充時保持浸入所述兆頻超聲波調節溶液中的所述部件。兆頻超聲波調節溶液入口系統將所述兆頻超聲波調節溶液輸送到所述罐。兆頻超聲波換能器頭包括至少一個兆頻超聲波換能器，以向所述兆頻超聲波調節溶液提供兆頻超聲波能量，其中將所述兆頻超聲波能量通過所述兆頻超聲波調節溶液輸送到所述部件。兆頻超聲波調節溶液排放系統在將所述部件保持在所述兆頻超聲波調節溶液中的位置上方的位置處從所述罐中排出所述兆頻超聲波調節溶液。致動器在將所述部件保持在所述兆頻超聲波調節溶液中的位置上方將所述兆頻超聲波換能器頭移動通過所述罐。

在另一表現方案中，提供了一種用于調節晶片處理室的部件的方法。將所述部件浸入在罐中的兆頻超聲波調節溶液中。通過所述兆頻超聲波調節溶液將兆頻超聲波能量施加到所述部件上以清潔所述部件。

在另一表現方案中，提供了一種用于調節處理室的部件的裝置。罐容納兆頻超聲波調節溶液。支架在所述罐被兆頻超聲波調節溶液填充時，保持浸入所述兆頻超聲波調節溶液中的所述部件。兆頻超聲波調節溶液入口系統將所述兆頻超聲波調節溶液輸送到所述罐。兆頻超聲波換能器頭包括被置于所述罐中的至少一個固定兆頻超聲波換能器以向所述兆頻超聲波調節溶液提供兆頻超聲波能量，其中將所述兆頻超聲波能量通過所述兆頻超聲波調節溶液輸送到所述部件。兆頻超聲波調節溶液排放系統在將所述部件保持在所述兆頻超聲波調節溶液中的位置上方的位置處從所述罐中排出所述兆頻超聲波調節溶液。

具體而言，本發明的一些方面可以闡述如下：

1.一種用于調節處理室的部件的裝置，其包括：

用于容納兆頻超聲波調節溶液的罐；

支架，所述支架用于在所述罐被所述兆頻超聲波調節溶液填充時，保持浸入所述兆頻超聲波調節溶液中的所述部件；

兆頻超聲波調節溶液入口系統，其用于將所述兆頻超聲波調節溶液輸送到所述罐；

具有長度的兆頻超聲波換能器頭，其包括至少一個兆頻超聲波換能器，以向所述兆頻超聲波調節溶液提供兆頻超聲波能量，其中將所述兆頻超聲波能量通過所述兆頻超聲波調節溶液輸送到所述部件；

兆頻超聲波調節溶液排放系統，其用于在高于在所述兆頻超聲波調節溶液中保持所述部件的位置的位置處從所述罐中排出所述兆頻超聲波調節溶液；以及

致動器，其用于在高于在所述兆頻超聲波調節溶液中保持所述部件的位置處將所述兆頻超聲波換能器頭移動通過所述罐。