[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810409593.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109768030B | 公開(公告)日: | 2023-06-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃文社;薛琇文;陳郁翔;陳啟平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/64 | 分類號(hào): | H01L23/64;H01L23/498 |
| 代理公司: | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 馮志云;張福根 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),包括:
一半導(dǎo)體基底;
一第一介電層,在該半導(dǎo)體基底上;
一第一導(dǎo)電部件與一第二導(dǎo)電部件,在該第一介電層中;
一阻擋層,在該第一介電層中,其中該阻擋層在該第一介電層與該第一導(dǎo)電部件之間,該阻擋層包括氮,且該阻擋層具有一第一氮原子濃度;
一第二介電層,在該第一介電層上;
一電阻元件,電性連接至該第一導(dǎo)電部件,其中該電阻元件的一第一部分在該第二介電層上,該電阻元件的一第二部分往該第一導(dǎo)電部件延伸,該電阻元件具有一第二氮原子濃度,且該第二氮原子濃度大于該第一氮原子濃度;
一第三介電層,在該電阻元件上;以及
一第一導(dǎo)孔,在該第三介電層中并與該第二導(dǎo)電部件電性連接,其中該第一導(dǎo)孔與該第二導(dǎo)電部件之間的接觸面積小于該電阻元件與該第一導(dǎo)電部件之間的接觸面積,其中該電阻元件的密度大于該阻擋層的密度。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),其中該電阻元件順應(yīng)性地覆蓋該第二介電層的一頂面和一側(cè)面。
3.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),還包括一第二導(dǎo)孔,在該第一介電層中,其中該第二導(dǎo)孔電性連接至該第一導(dǎo)電部件,且在該電阻元件和該第一導(dǎo)電部件之間的接觸面積大于在該第二導(dǎo)孔和該第一導(dǎo)電部件之間的接觸面積。
4.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),其中該第二介電層由不同于該第一介電層的材料所形成,且該第二介電層比該第一介電層薄。
5.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),其中該電阻元件的一頂面的整體直接接觸該第三介電層。
6.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),還包含:
一第三導(dǎo)電部件,在該第三介電層中,其中該第三導(dǎo)電部件藉由該第三介電層,與該電阻元件電性絕緣。
7.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),其中該電阻元件的一部分延伸進(jìn)入該第一導(dǎo)電部件。
8.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),其中電阻元件包含氮化鉭、氮化鈦或前述的組合。
9.一種半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),包括:
一半導(dǎo)體基底;
一第一導(dǎo)電部件與一第二導(dǎo)電部件,在該半導(dǎo)體基底上;
一介電層,在該半導(dǎo)體基底上且圍繞該第一導(dǎo)電部件與該第二導(dǎo)電部件;
一阻擋層,在該介電層與該第一導(dǎo)電部件之間,其中該阻擋層包括氮,且該阻擋層具有一第一氮原子濃度;
一第二介電層,在該介電層上;
一電阻元件,在該第二介電層上,該電阻元件穿過(guò)該第二介電層且電性連接至該第一導(dǎo)電部件,該電阻元件具有一第二氮原子濃度,且該第二氮原子濃度大于該第一氮原子濃度;
一第三介電層,在該電阻元件上;以及
一導(dǎo)孔,在該第三介電層中并與該第二導(dǎo)電部件電性連接,其中該導(dǎo)孔與該第二導(dǎo)電部件之間的接觸面積小于該電阻元件與該第一導(dǎo)電部件之間的接觸面積,其中該電阻元件的密度大于該阻擋層的密度。
10.如權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),其中該電阻元件延伸進(jìn)入該第一導(dǎo)電部件,如此一來(lái)該電阻元件的一底面在該第一導(dǎo)電部件的一頂面下。
11.如權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),其中該電阻元件具有一大抵上平坦的頂面。
12.如權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),其中該第二介電層具有一接觸開口,該接觸開口穿過(guò)該第二介電層且對(duì)準(zhǔn)該第一導(dǎo)電部件,且該電阻元件順應(yīng)性地沿著該接觸開口的一側(cè)面和該第一導(dǎo)電部件的一頂面延伸。
13.如權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),還包含一第二導(dǎo)孔,電性連接至該第一導(dǎo)電部件,其中在該電阻元件和該第一導(dǎo)電部件之間的接觸面積大于在該第一導(dǎo)電部件和該第二導(dǎo)孔之間的接觸面積。
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