[發明專利]銨離子微電極及其制作方法在審
| 申請號: | 201810401418.1 | 申請日: | 2018-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN108732217A | 公開(公告)日: | 2018-11-02 |
| 發明(設計)人: | 張海英;劉振 | 申請(專利權)人: | 深圳市西爾曼科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N27/30 | 分類號: | G01N27/30;G01N27/333 |
| 代理公司: | 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 銨離子 內參比電極 微電極 絕緣層 凝膠層 敏感膜層 基底 絕緣 絕緣基底表面 電解質 抗干擾層 抗干擾 靈敏度 敏感膜 疊設 填充 環繞 響應 覆蓋 制作 | ||
1.一種銨離子微電極,其特征在于,所述銨離子微電極包括絕緣基底、疊設于所述絕緣基底一表面的內參比電極和絕緣層、含有電解質的凝膠層、銨離子敏感膜層、抗干擾層;
其中,所述絕緣層在所述絕緣基底表面環繞于所述內參比電極,且與所述內參比電極之間具有間隙,所述凝膠層填充于所述絕緣層與所述內參比電極形成的間隙中并且覆蓋所述內參比電極;
所述銨離子敏感膜層層疊于所述凝膠層表面,所述抗干擾層層疊于所述銨離子敏感膜層表面。
2.如權利要求1所述的銨離子微電極,其特征在于,以形成所述銨離子敏感膜層的原料質量百分含量為100%計算,包括以下原料組分:
3.如權利要求2所述的銨離子微電極,其特征在于,所述母體材料為聚氨酯、聚氯乙烯中的至少一種;
和/或所述銨離子敏感材料為2-十二烷基-2-甲基-1,3-丙二基雙[N-[5′-硝基(苯并-15-冠-5)-4′-基]氨基甲酸酯、4-叔-丁基-2,2,14,14-四乙基取代-2a,14a,二氧橋杯[4]芳烴-四乙酸四叔丁酯、N-十八烷?;?尼羅藍、9-(二乙胺基)-5-[(2-辛癸基)亞氨基]苯并[a]吩噁嗪、2,3-萘并-15-冠醚-5中的任一種;
和/或所述陽離子交換劑為四苯基硼烷、四苯基硼烷中的任一種;
和/或所述增塑劑為鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二癸酯、磷酸三丁酯中的任一種。
4.如權利要求1所述的銨離子微電極,其特征在于,所述含有電解質的凝膠層為由聚甲基丙烯酸羥乙酯、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、聚丙烯酸鈉、明膠、海藻酸鈉中的任一種與氯化鈉、氯化鉀、硝酸鈉、硝酸鉀、氯化銨中的至少一種混合而成的膜層。
5.如權利要求1所述的銨離子微電極,其特征在于,所述抗干擾層為由三醋酸纖維素、二醋酸纖維素、硝酸纖維素、醋酸丁基纖維素中的任一種與聚氨酯混合而成的膜層。
6.如權利要求1所述的銨離子微電極,其特征在于,所述內參比電極為Ag/AgCl參比電極。
7.一種如權利要求1~6任一項所述的銨離子微電極的制作方法,其特征在于,至少包括以下步驟:
步驟S01.在絕緣基底表面形成一層內參比電極,同時在所述內參比電極的四周形成圍繞所述內參比電極的絕緣層,所述內參比電極與所述絕緣層具有間隙;
步驟S02.將形成含有電解質的凝膠層的原料填充于所述間隙中并且覆蓋所述內參比電極,使其形成含有電解質的凝膠層;
步驟S03.將銨離子敏感膜層的原料與第一溶劑混合后,涂覆于所述含有電解質的凝膠層表面,使其形成銨離子敏感膜層;
步驟S04.將抗干擾層的原料與第二溶劑進行混合后,涂覆于所述銨離子敏感膜層表面,形成抗干擾層。
8.如權利要求7所述的銨離子微電極的制作方法,其特征在于,所述含有電解質的凝膠層的制作過程為:將含有光敏劑質量濃度為1~3%的二苯甲酰二甲醚的甲基丙烯酸羥乙酯單體溶液與濃度為0.0008~0.002M的氯化鈉溶液、氯化鉀溶液、硝酸鈉溶液、硝酸鉀溶液、氯化銨溶液中的至少一種按照質量比為60~70:30~40混合后,涂覆于所述間隙和內參比電極表面,光照催化,獲得所述含有電解質的凝膠層。
9.如權利要求7所述的銨離子微電極的制作方法,其特征在于,所述抗干擾層的制作方法如下:
將三醋酸纖維素、二醋酸纖維素、硝酸纖維素、醋酸丁基纖維素中的任一種與聚氨酯按照質量比為(70~80):(20~30)溶于所述第二溶劑,獲得混合溶液,將所述混合溶液涂覆于所述含有電解質的凝膠層,經干燥處理,得到抗干擾層。
10.如權利要求7所述的銨離子微電極的制作方法,其特征在于,所述第一溶劑為環己酮、三氯甲烷、二氯甲烷、丙酮、N,N-二甲基甲酰胺;和/或所述第二溶劑為四氫呋喃、三氯甲烷、二氯甲烷、丙酮、N,N-二甲基甲酰胺。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市西爾曼科技有限公司,未經深圳市西爾曼科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810401418.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





