[發(fā)明專(zhuān)利]顯示基板及其制作方法、顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810401297.0
• 申請(qǐng)日: 2018-04-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108598039B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-11-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 秦冬杰;龐冬;金香馥;吳美燕;易師甜;劉旭
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/768
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/768;H01L21/77
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;張博

本發(fā)明提供了一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。顯示基板的制作方法，包括：對(duì)所述顯示基板表面的過(guò)孔進(jìn)行填充。本發(fā)明的技術(shù)方案能夠使得顯示基板上的過(guò)孔平整化，這樣可以避免在過(guò)孔內(nèi)殘留灰塵雜質(zhì)，降低顯示基板外圍電路轉(zhuǎn)接處發(fā)生腐蝕的風(fēng)險(xiǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是指一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置。

背景技術(shù)

現(xiàn)有顯示基板的外圍電路中，不同層的導(dǎo)電圖形以過(guò)孔形式進(jìn)行連接，在顯示基板后段制程中過(guò)孔內(nèi)會(huì)累積灰塵雜質(zhì)，該灰塵雜質(zhì)通過(guò)擦拭和清洗無(wú)法徹底去除。同時(shí)在像素電極刻蝕后難免有酸殘留在過(guò)孔內(nèi)，該灰塵雜質(zhì)與酸、顯示基板的金屬層(為柵金屬層或者源漏金屬層)之間形成原電池，造成電化學(xué)腐蝕，將影響到顯示基板的品質(zhì)。此時(shí)，金屬層為陽(yáng)極，灰塵雜質(zhì)為陰極，酸殘留的氫離子為電解質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置，能夠使得顯示基板上的過(guò)孔平整化，這樣可以避免在過(guò)孔內(nèi)殘留灰塵雜質(zhì)，降低顯示基板外圍電路轉(zhuǎn)接處發(fā)生腐蝕的風(fēng)險(xiǎn)。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的實(shí)施例提供技術(shù)方案如下：

一方面，提供一種顯示基板的制作方法，包括：

對(duì)所述顯示基板表面的過(guò)孔進(jìn)行填充。

進(jìn)一步地，所述對(duì)所述顯示基板表面的過(guò)孔進(jìn)行填充包括：

在所述顯示基板表面形成絕緣層，去除所述絕緣層位于所述過(guò)孔外的部分，形成位于所述過(guò)孔內(nèi)的絕緣圖形。

進(jìn)一步地，所述絕緣層的厚度不大于所述過(guò)孔的最大深度。

進(jìn)一步地，所述絕緣層的厚度等于所述過(guò)孔的最大深度。

進(jìn)一步地，所述制作方法包括：

形成包括有過(guò)孔的鈍化層的圖形；

在所述鈍化層的圖形上形成透明導(dǎo)電層；

在所述透明導(dǎo)電層上形成所述絕緣層；

通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成所述透明導(dǎo)電層的圖形和所述絕緣圖形。

進(jìn)一步地，所述顯示基板包括過(guò)孔區(qū)和顯示區(qū)，所述鈍化層的圖形包括位于所述過(guò)孔區(qū)的第一過(guò)孔，所述制作方法具體包括：

在包括所述第一過(guò)孔的所述鈍化層上形成所述透明導(dǎo)電層；

在所述透明導(dǎo)電層上形成所述絕緣層；

在所述絕緣層上形成光刻膠層；

采用掩模板對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行曝光，顯影后形成光刻膠去除區(qū)域和光刻膠部分保留區(qū)域和光刻膠完全保留區(qū)域，所述光刻膠完全保留區(qū)域?qū)?yīng)所述第一過(guò)孔，所述光刻膠去除區(qū)域?qū)?yīng)所述顯示區(qū)的所述透明導(dǎo)電層的待去除部分，所述光刻膠部分保留區(qū)域?yàn)槌龉饪棠z去除區(qū)域和所述光刻膠完全保留區(qū)域之外的區(qū)域；

對(duì)光刻膠去除區(qū)域的所述絕緣層和所述透明導(dǎo)電層進(jìn)行刻蝕；

灰化掉光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠；

刻蝕掉光刻膠部分保留區(qū)域的所述絕緣層；

剝離光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠，形成位于所述第一過(guò)孔內(nèi)的絕緣圖形和透明導(dǎo)電層的圖形。

進(jìn)一步地，所述顯示基板包括過(guò)孔區(qū)和顯示區(qū)，所述鈍化層包括位于所述過(guò)孔區(qū)的第二過(guò)孔和第三過(guò)孔，所述第二過(guò)孔的深度小于所述第三過(guò)孔的深度，所述制作方法具體包括：

在包括所述第二過(guò)孔和所述第三過(guò)孔的所述鈍化層上形成所述透明導(dǎo)電層；

在所述透明導(dǎo)電層上形成所述絕緣層；