[發(fā)明專利]用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810399652.5
• 申請日: 2018-04-28
• 公開（公告）號: CN108588668B
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉坤;胡強(qiáng);孫飛;黃愛青
• 申請（專利權(quán)）人: 東北大學(xué)
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/54
• 代理公司: 北京易捷勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11613
• 代理人: 韓國勝

本發(fā)明涉及一種用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)。多個鍍膜室與多個鍍膜輥一一對應(yīng)地設(shè)置，每個鍍膜室包括一個或多個濺射單元，每個濺射單元包括升降裝置、連接于升降裝置的磁控濺射靶以及兩個靶擋板，兩個靶擋板位于磁控濺射靶和鍍膜輥之間且間隔以形成延伸在磁控濺射靶和鍍膜輥之間的濺射區(qū)間，磁控濺射靶和升降裝置與電控裝置連接。每個濺射區(qū)間設(shè)有抽氣閥和布?xì)忾y，二者均與電控裝置連接。該卷繞鍍膜系統(tǒng)可獨立控制每個濺射區(qū)間是否使用以及在使用時的工藝參數(shù)，能夠隨意控制鍍膜的層數(shù)、靶材的種類，在柔性基底上一次性鍍制多層工藝參數(shù)不同的膜層，提升鍍膜效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)。

背景技術(shù)

卷對卷技術(shù)(Roll-to-roll)是一種新興的、大面積制備柔性薄膜的技術(shù)。真空卷繞鍍膜是在真空環(huán)境(10^-1～10^-5Pa)下連續(xù)繞過柔性基底并涂覆上膜層。其具有成本低、重量輕、與柔性基底相容性好、生產(chǎn)率高、可大面積制備等優(yōu)點。現(xiàn)代工業(yè)對于柔性基材鍍膜的需求越來越高，對所鍍膜層功能性的要求也越來越高，膜系結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜，每層膜的工藝要求(包括工作壓力、工作氣體種類、工作氣體流量、靶功率和靶基距)都不同。而大工廠生產(chǎn)中，在一個柔性襯底上鍍膜多層膜時，不同膜層的工藝參數(shù)(包括工作壓力、工作氣體種類、工作氣體流量、靶功率和靶基距)往往并不相同，當(dāng)前各種卷繞式鍍膜機(jī)并不能一次性完成不同工藝條件的膜層的鍍制，必須分步驟批次鍍制，因而大大的影響了生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容

(一)要解決的技術(shù)問題

本發(fā)明的目的在于提供一種用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)，其能夠在柔性基底上一次性鍍制多層工藝參數(shù)(包括工作壓力、工作氣體種類、工作氣體流量、靶功率和靶基距)不同的膜層，以提升鍍膜效率。

(二)技術(shù)方案

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的主要技術(shù)方案包括：

本發(fā)明提供了一種用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)，包括卷繞鍍膜機(jī)和電控裝置，卷繞鍍膜機(jī)包括真空腔以及位于真空腔中的多個鍍膜輥，在真空腔中設(shè)有多個鍍膜室，多個鍍膜室與多個鍍膜輥一一對應(yīng)地設(shè)置，每個鍍膜室包括一個或多個濺射單元，在鍍膜室包括多個濺射單元時，多個濺射單元圍繞鍍膜輥的外表面弧形排列，并且相鄰兩個濺射單元之間設(shè)有一鍍膜室隔離板；其中，每個濺射單元包括升降裝置、連接于升降裝置的磁控濺射靶以及對應(yīng)于磁控濺射靶設(shè)置的兩個靶擋板，磁控濺射靶朝向所在鍍膜室對應(yīng)的鍍膜輥設(shè)置，并且兩個靶擋板位于磁控濺射靶和鍍膜輥之間且間隔以形成延伸在磁控濺射靶和鍍膜輥之間的濺射區(qū)間，磁控濺射靶和升降裝置與電控裝置連接；每個鍍膜室的每個濺射區(qū)間均設(shè)有控制從該濺射區(qū)間中抽氣的抽氣閥和控制向該濺射區(qū)間內(nèi)布?xì)獾牟細(xì)忾y，抽氣閥用于與抽真空設(shè)備連接，布?xì)忾y用于與布?xì)庠O(shè)備連接，抽氣閥和布?xì)忾y均與電控裝置連接。

根據(jù)本發(fā)明，每個鍍膜室的柔性基底入口處和柔性基底出口處均分別設(shè)有一個弧形板，弧形板面向所在鍍膜室對應(yīng)的鍍膜輥，并且弧形板的面向該鍍膜輥的內(nèi)表面的弧度與該鍍膜輥的外周面的弧度匹配，弧形板與該鍍膜輥之間的間距位于1-5mm的范圍內(nèi)，弧形板的內(nèi)表面的弧長位于10-20cm的范圍內(nèi)。

根據(jù)本發(fā)明，每個濺射單元還包括驅(qū)動兩個靶擋板相對靠近和遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)。

根據(jù)本發(fā)明，升降裝置為無油氣缸，磁控濺射靶連接在無油氣缸的活塞桿的伸出端。

根據(jù)本發(fā)明，鍍膜室還包括底座，升降裝置安裝在底座上；鍍膜室隔離板包括相連接的弧形子板和隔離子板，弧形子板面向所在鍍膜室對應(yīng)的鍍膜輥的外周面并與其形狀配合，隔離子板的兩端分別與弧形子板和底座連接并隔離兩側(cè)的濺射單元，弧形子板與鍍膜輥的間距為5mm。

根據(jù)本發(fā)明，真空腔的形狀為方形盒體。

根據(jù)本發(fā)明，多個鍍膜室呈波浪形布置。