[發(fā)明專利]用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810399652.5
• 申請(qǐng)日: 2018-04-28
• 公開（公告）號(hào): CN108588668B
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉坤;胡強(qiáng);孫飛;黃愛青
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東北大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C14/56
• 分類號(hào): C23C14/56;C23C14/54
• 代理公司: 北京易捷勝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11613
• 代理人: 韓國(guó)勝

1.一種用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)，包括卷繞鍍膜機(jī)和電控裝置，所述卷繞鍍膜機(jī)包括真空腔(1)以及位于所述真空腔(1)中的多個(gè)鍍膜輥，其特征在于，

在所述真空腔(1)中設(shè)有多個(gè)鍍膜室，所述多個(gè)鍍膜室與所述多個(gè)鍍膜輥一一對(duì)應(yīng)地設(shè)置，每個(gè)所述鍍膜室包括一個(gè)或多個(gè)濺射單元，在鍍膜室包括多個(gè)所述濺射單元時(shí)，多個(gè)所述濺射單元圍繞所述鍍膜輥的外表面弧形排列，并且相鄰兩個(gè)所述濺射單元之間設(shè)有一鍍膜室隔離板(22)；

其中，每個(gè)所述濺射單元包括升降裝置(29)、連接于所述升降裝置(29)的磁控濺射靶(28)以及對(duì)應(yīng)于所述磁控濺射靶(28)設(shè)置的兩個(gè)靶擋板(27)，所述磁控濺射靶(28)朝向所在鍍膜室對(duì)應(yīng)的鍍膜輥設(shè)置，并且所述兩個(gè)靶擋板(27)位于所述磁控濺射靶(28)和所述鍍膜輥之間且間隔以形成延伸在所述磁控濺射靶(28)和所述鍍膜輥之間的濺射區(qū)間(26)，所述磁控濺射靶(28)和所述升降裝置(29)與所述電控裝置連接；

每個(gè)所述鍍膜室的每個(gè)所述濺射區(qū)間(26)均設(shè)有控制從該濺射區(qū)間(26)中抽氣的抽氣閥和控制向該濺射區(qū)間(26)內(nèi)布?xì)獾牟細(xì)忾y，所述抽氣閥用于與抽真空設(shè)備連接，所述布?xì)忾y用于與布?xì)庠O(shè)備連接，所述抽氣閥和所述布?xì)忾y均與所述電控裝置連接；

多個(gè)所述鍍膜室呈波浪形布置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，

每個(gè)所述鍍膜室的柔性基底入口處和柔性基底出口處均分別設(shè)有一個(gè)弧形板(25)，所述弧形板(25)面向所在鍍膜室對(duì)應(yīng)的鍍膜輥，并且所述弧形板(25)的面向該鍍膜輥的內(nèi)表面的弧度與該鍍膜輥的外周面的弧度匹配，所述弧形板(25)與該鍍膜輥之間的間距位于1-5mm的范圍內(nèi)，所述弧形板(25)的內(nèi)表面的弧長(zhǎng)位于10-20cm的范圍內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，

每個(gè)所述濺射單元還包括驅(qū)動(dòng)兩個(gè)所述靶擋板(27)相對(duì)靠近和遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，

所述升降裝置(29)為無油氣缸，所述磁控濺射靶(28)連接在所述無油氣缸的活塞桿的伸出端。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，

所述鍍膜室還包括底座(23)，所述升降裝置(29)安裝在所述底座(23)上；

所述鍍膜室隔離板(22)包括相連接的弧形子板(20)和隔離子板(21)，所述弧形子板(20)面向所在鍍膜室對(duì)應(yīng)的鍍膜輥的外周面并與其形狀配合，所述隔離子板(21)的兩端分別與所述弧形子板(20)和所述底座(23)連接并隔離兩側(cè)的所述濺射單元，所述弧形子板(20)與所述鍍膜輥的間距為5mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造柔性基底多層薄膜的卷繞鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，

所述真空腔(1)的形狀為方形盒體。