[發(fā)明專利]一種鈣鈦礦薄膜的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810389233.3 | 申請日: | 2018-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN108559949A | 公開(公告)日: | 2018-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 經(jīng)有國;孟月霞 | 申請(專利權(quán))人: | 昆明理工大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/28;C23C14/58;C30B29/22;C30B28/02 |
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| 地址: | 650093 云*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制備 鈣鈦礦薄膜 薄膜材料 絕緣體 薄膜技術(shù)領(lǐng)域 電阻溫度系數(shù) 半導(dǎo)體電子 磁電子器件 紅外探測器 多晶陶瓷 輻射熱儀 巨磁電阻 電阻率 后退火 靶材 金屬 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明公開一種鈣鈦礦薄膜的制備方法,屬于半導(dǎo)體電子薄膜技術(shù)領(lǐng)域;本發(fā)明經(jīng)過La0.7Ca0.3MnO3:Ag0.2多晶陶瓷靶材的制備、薄膜材料的制備、薄膜材料后退火處理制得鈣鈦礦薄膜;本發(fā)明方法制備的鈣鈦礦薄膜電阻率值低,金屬?絕緣體轉(zhuǎn)變溫度(
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種鈣鈦礦薄膜的制備方法,屬于半導(dǎo)體電子薄膜技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
鈣鈦礦薄膜材料由其獨(dú)特的結(jié)構(gòu)特性,在電、磁學(xué)等方面表現(xiàn)的豐富性能一直吸引著人們的持續(xù)關(guān)注和研究。其超巨磁電阻(CMR)效應(yīng)及金屬-絕緣體轉(zhuǎn)變現(xiàn)象可以被應(yīng)用于高靈敏輻射測量儀、紅外探測器以及磁存儲設(shè)備中。電阻率(ρ)、金屬-絕緣體轉(zhuǎn)變溫度(
發(fā)明內(nèi)容
為克服現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,本發(fā)明提供了一種鈣鈦礦薄膜的制備方法,具體操作如下:
(1)按化學(xué)計(jì)量比,稱取La(NO3)3、Ca(NO3)2、Mn(NO3)2溶解于甲醇中,按檸檬酸與金屬離子的摩爾比為3:1~4:1的比例,將檸檬酸加入上述混合物中,60~80℃下加熱攪拌,同時(shí)滴加分散劑丙三醇,混勻后制得La0.7Ca0.3MnO3溶膠;
(2)將La0.7Ca0.3MnO3溶膠烘干,研磨,然后進(jìn)行預(yù)燒得到La0.7Ca0.3MnO3多晶陶瓷粉體;
(3)按AgO2與La0.7Ca0.3MnO3的摩爾比為1:1~1:5 的比例,將AgO2加入到La0.7Ca0.3MnO3多晶陶瓷粉體中,然后在10~12MPa下壓制成塊材,然后燒結(jié)得到La0.7Ca0.3MnO3:Ag0.2多晶陶瓷靶材;
(4)對La0.7Ca0.3MnO3:Ag0.2多晶陶瓷靶材進(jìn)行打磨,打磨完成后用酒精擦拭,并用擦鏡紙擦拭直到表面光潔為止;
(5)采用SrLaAlO4單晶作為襯底材料,將襯底材料用丙酮浸泡,然后置于超聲條件下清除襯底表面的污垢,清洗完成后將丙酮倒出后加入無水乙醇沖洗,取出后擦拭干凈待用;
(6)采用紫外脈沖激光沉積技術(shù)將La0.7Ca0.3MnO3:Ag0.2多晶陶瓷靶材沉積在襯底表面生長為薄膜材料;
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





