[發明專利]一種鈣鈦礦薄膜的制備方法在審
| 申請號: | 201810389233.3 | 申請日: | 2018-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN108559949A | 公開(公告)日: | 2018-09-21 |
| 發明(設計)人: | 經有國;孟月霞 | 申請(專利權)人: | 昆明理工大學 |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/28;C23C14/58;C30B29/22;C30B28/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 650093 云*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 鈣鈦礦薄膜 薄膜材料 絕緣體 薄膜技術領域 電阻溫度系數 半導體電子 磁電子器件 紅外探測器 多晶陶瓷 輻射熱儀 巨磁電阻 電阻率 后退火 靶材 金屬 應用 | ||
1.一種鈣鈦礦薄膜的制備方法,其特征在于,具體包括以下步驟:
(1)按化學計量比,稱取La(NO3)3、Ca(NO3)2、Mn(NO3)2溶解于甲醇中,按檸檬酸與金屬離子的摩爾比為3:1~4:1的比例,將檸檬酸加入上述混合物中,60~80℃下加熱攪拌,同時滴加分散劑丙三醇,混勻后制得La0.7Ca0.3MnO3溶膠;
(2)將La0.7Ca0.3MnO3溶膠烘干,研磨,然后進行預燒得到La0.7Ca0.3MnO3多晶陶瓷粉體;
(3)按AgO2與La0.7Ca0.3MnO3的摩爾比為1:1~1:5 的比例,將AgO2加入到La0.7Ca0.3MnO3多晶陶瓷粉體中,然后在10~12MPa下壓制成塊材,然后燒結得到La0.7Ca0.3MnO3:Ag0.2多晶陶瓷靶材;
(4)對La0.7Ca0.3MnO3:Ag0.2多晶陶瓷靶材進行打磨,打磨完成后用酒精擦拭,并用擦鏡紙擦拭直到表面光潔為止;
(5)采用SrLaAlO4單晶作為襯底材料,將襯底材料用丙酮浸泡,然后置于超聲條件下清除襯底表面的污垢,清洗完成后將丙酮倒出后加入無水乙醇沖洗,取出后擦拭干凈待用;
(6)采用紫外脈沖激光沉積技術將La0.7Ca0.3MnO3:Ag0.2多晶陶瓷靶材沉積在襯底表面生長為薄膜材料;
(7)將制得的薄膜材料置于管式爐中,調節通入管式爐腔內的氧氣濃度為8.0×104~1.0×105Pa,在1350~1450℃溫度下進行后退火10~14h,退火結束后制得鈣鈦礦薄膜。
2.根據權利要求1所述鈣鈦礦薄膜的制備方法,其特征在于:步驟(2)中溶膠干燥的溫度為120~140℃。
3.根據權利要求1所述鈣鈦礦薄膜的制備方法,其特征在于:步驟(2)中預燒是以2~4℃/min加熱至400~450℃保溫0.5~1h,然后以2~4℃/min加熱至600~650℃保溫0.5~1h,最后以2~4℃/min加熱至800~850℃保溫0.5~1h,冷卻得到La0.7Ca0.3MnO3多晶陶瓷粉體。
4.根據權利要求1所述鈣鈦礦薄膜的制備方法,其特征在于:步驟(3)中燒結是在1200~1400℃的條件下處理16~24h。
5.根據權利要求1所述的鈣鈦礦薄膜的制備方法,其特征在于:步驟(4)中打磨選用1000~1200目的砂紙進行。
6.根據權利要求1所述的鈣鈦礦薄膜的制備方法,其特征在于:步驟(5)中超聲清洗2~3次,每次10~15min。
7.根據權利要求1所述的鈣鈦礦薄膜的制備方法,其特征在于:步驟(6)中鍍膜工藝參數激光能量為300~400mJ,激光頻率為5~10Hz,鍍膜時間為25~30min,鍍膜氧壓為80~100Pa,鍍膜溫度為750~790℃。
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