[發明專利]曝光裝置以及曝光方法

有效

• 申請號: 201810383138.2
• 申請日: 2018-04-26
• 公開（公告）號: CN109557768B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 今井洋之
• 申請（專利權）人: 株式會社阿迪泰克工程
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

在使用了空間光調制器的曝光中減小安裝的軟件的體積且縮短程序的改寫所需的時間。隔著來自具備空間光調制器(3)的曝光頭(1)的光的照射區域而在兩側的待機位置，向各工作臺(61、62)載置基板(W)，并利用輸送系統(6)通過照射區域而交替地往返輸送。根據相機(8)拍攝到的基板(W)的對準標記的拍攝數據，序列改寫程序(77)改寫初始序列程序(73)，在基板(W)通過照射區域時，空間光調制器(3)的各像素反射鏡(31)被通過已改寫序列程序(74)序列控制在基板(W)形成曝光圖案。第一工作臺(61)上的基板(W)在去程移動時不被曝光而在返程移動時被曝光，第二工作臺(62)上的基板在去程移動時被曝光而在返程移動時不被曝光。

技術領域

本申請的發明涉及使用了空間光調制器的曝光技術。

背景技術

將在表面形成有感光層的對象物進行曝光來使感光層感光的曝光技術，正作為光刻的主要技術被活躍應用在各種微細電路、微細結構的形成中。在光刻中，以與應形成的部件的形狀相應的圖案來照射光。以下，將該光的圖案稱作曝光圖案?！皯纬傻牟考男螤睢庇袝r是基板自身的表面形狀，有時是在基板的表面形成的膜或層等部件的形狀。

對于這樣的曝光技術的一種，已知有使用空間光調制器來形成曝光圖案的技術。在空間光調制器中，通常使用DMD(Digital?Mirror?Device：數碼微鏡器件)。DMD具有將微小的方形的反射鏡配設為直角格子狀而成的構造。各反射鏡相對于光軸的角度被獨立地控制，并能夠取得將來自光源的光反射而使其到達對象物的姿勢、以及不使來自光源的光到達對象物的姿勢。DMD具備控制各反射鏡的控制器，控制器根據曝光圖案控制各反射鏡，使曝光圖案的光照射到對象物的表面。

在使用了空間光調制器的情況下，極其容易根據需要適當變更曝光圖案，適合多種類少量生產，并且能夠根據工序的狀況靈活地變更曝光條件。這些優越性正被逐漸得知，搭載了空間光調制器的曝光裝置正逐漸普及。

在專利文獻1中公開了將DMD作為空間光調制器來使用的以往的曝光裝置的一個例子。如其中所示，將DMD作為空間光調制器使用的曝光裝置具備多個光源、DMD、內置有光學系統等的曝光頭而構成。各曝光頭獨立地由主控制器控制，從各曝光頭對通過照射區域的對象物照射規定的圖案的光。由各曝光頭對移動的對象物照射的光的圖案的集合是作為整體的曝光圖案，其被設為與應形成的部件的形狀相應。

作為對象物，板狀的對象物(基板)的情況較多，基板載置于工作臺。載置了基板的工作臺通過來自各曝光頭的光的照射區域而被輸送，在此時進行被曝光。

此外，雖然DMD可被稱作反射型的空間光調制器，但也提出有使用液晶顯示器作為透射式的空間光調制器(專利文獻2)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1:日本特開2008－191303號公報

專利文獻2:日本特開2017－134375號公報

發明內容

發明所要解決的課題

在使用了上述那樣的空間光調制器的曝光裝置中，一般難以通過高照度形成曝光圖案。因此，設法降低基板的輸送速度來增多光量，或增多曝光頭的數量的情況較多。

然而，增多曝光頭的數量會導致裝置成本的大幅度上升，裝置的構造也變為大規模、復雜化。因此，不得不選擇降低基板的輸送速度，但這意味著具有處理時間(生產節拍)變長、不能提高生產性的缺點。

為了解決這樣的問題，在專利文獻1的裝置中，采用了隔著照射區域而在兩側配置工作臺，使其交替地通過照射區域進行曝光的構造。在專利文獻1中，各工作臺上的基板先通過照射區域，在返回時(返程中)利用各曝光頭曝光。在專利文獻1的裝置中，能夠在一方的工作臺上進行基板的裝載(載置)或卸載(卸除)期間，使另一方的工作臺移動來曝光基板，因此在這一點上提高了生產性。