[發明專利]曝光裝置以及曝光方法

有效

• 申請號: 201810383138.2
• 申請日: 2018-04-26
• 公開（公告）號: CN109557768B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 今井洋之
• 申請（專利權）人: 株式會社阿迪泰克工程
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

1.一種曝光裝置，其特征在于，具備：

曝光頭，具備空間光調制器，該空間光調制器根據規定的序列對光進行空間上的調制，從而在照射區域形成曝光圖案；

一對工作臺，在隔著來自曝光頭的光的照射區域的兩側的待機位置待機；

輸送系統，使在一側的待機位置載置了基板的第一工作臺穿過照射區域而被往返輸送，并且使在另一側的待機位置載置了基板的第二工作臺穿過照射區域而被往返輸送；

控制器，控制曝光頭內的空間光調制器；

相機，在各工作臺上的基板在照射區域被曝光之前，對該基板的對準標記進行拍攝；以及

校正機構，根據來自相機的拍攝數據對序列進行校正，以校正后的序列控制空間光調制器，

控制器以如下方式控制空間光調制器，在第一工作臺上的基板與第二工作臺上的基板上形成相同的曝光圖案時，通過根據第一工作臺上的基板的拍攝數據進行了校正的序列在第一工作臺的返程移動時對第一工作臺上的基板進行曝光，且在去程移動時不進行曝光，并且，通過根據第二工作臺上的基板的拍攝數據進行了校正的序列在第二工作臺的去程移動時對第二工作臺上的基板進行曝光，且在返程移動時不進行曝光，

上述相機拍攝上述第一工作臺上的基板的對準標記的位置是上述照射區域的另一側的位置，上述相機拍攝上述第二工作臺上的基板的對準標記的位置也是上述照射區域的另一側的位置。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

上述相機兼用于上述第一工作臺上的基板的對準標記的拍攝與上述第二工作臺上的基板的對準標記的拍攝。

3.如權利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，

上述第一工作臺上的基板的對準標記的拍攝位置即第一相機配置位置與上述第二工作臺上的基板的對準標記的拍攝位置即第二相機配置為不同的位置，

在第一相機配置位置與第二相機配置位置之間設置有使上述相機移動的相機移動機構。

4.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

上述第一工作臺上的基板的對準標記的拍攝位置即第一相機配置位置與上述第二工作臺上的基板的對準標記的拍攝位置即第二相機配置為不同的位置，

在第一相機配置位置與第二相機配置位置分別配置有相機。

5.如權利要求1～4中任一項所述的曝光裝置，其特征在于，

上述校正機構具備如下序列改寫程序：根據上述拍攝數據，對根據與在上述基板中形成的部件的形狀相應的曝光圖案數據而初始制作的序列程序即初始序列程序進行改寫。

6.一種曝光方法，利用具備空間光調制器的曝光頭對基板進行曝光，該空間光調制器根據規定的序列對光進行空間上的調制，從而在照射區域形成曝光圖案，上述曝光方法的特征在于，具有：

向在隔著來自曝光頭的光的照射區域的一側的待機位置待機的第一工作臺載置基板的步驟；

向在隔著來自曝光頭的光的照射區域的另一側的待機位置待機的第二工作臺載置基板的步驟；

由相機拍攝載置于第一工作臺的基板的對準標記的第一拍攝步驟；

由相機拍攝載置于第二工作臺的基板的對準標記的第二拍攝步驟；

第一曝光步驟，根據由第一拍攝步驟得到的拍攝數據，對序列進行校正，通過校正后的序列控制空間光調制器，并且使第一工作臺移動，以使第一工作臺上的基板穿過照射區域，從而對第一工作臺上的基板進行曝光；以及

第二曝光步驟，根據由第二拍攝步驟得到的拍攝數據，對序列進行校正，通過校正后的序列控制空間光調制器，并且使第二工作臺移動，以使第二工作臺上的基板穿過照射區域，從而對第二工作臺上的基板進行曝光，

在第一工作臺上的基板與第二工作臺上的基板形成相同的曝光圖案時，第一曝光步驟中的第一工作臺的移動的朝向與第二曝光步驟中的第二工作臺的移動的朝向為相同的朝向，

上述曝光方法不具有在第一工作臺上的基板與第二工作臺上的基板形成相同的曝光圖案時、以第一工作臺的移動的朝向與第二工作臺的移動的朝向為不同的朝向的狀態對基板進行曝光的步驟，

在上述第一拍攝步驟中，上述相機拍攝上述第一工作臺上的基板的對準標記的位置是上述照射區域的另一側的位置，在上述第二拍攝步驟中，上述相機拍攝上述第二工作臺上的基板的對準標記的位置也是上述照射區域的另一側的位置。