[發(fā)明專利]圖像傳感器及其形成方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810381052.6
• 申請日: 2018-04-25
• 公開（公告）號: CN108428711A
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周艮梅;穆鈺平;黃曉櫓
• 申請（專利權(quán)）人: 德淮半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: H01L27/146
• 分類號: H01L27/146
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 徐文欣;吳敏

1.一種圖像傳感器的形成方法，其特征在于，包括：

提供基底，所述基底包括若干相互分離的像素區(qū)；

在相鄰像素區(qū)之間的基底表面形成阻擋結(jié)構(gòu)，所述阻擋結(jié)構(gòu)的底部尺寸大于頂部尺寸，且所述阻擋結(jié)構(gòu)的側(cè)壁與底部表面呈銳角；

在各所述像素區(qū)的基底表面分別形成濾色鏡，所述濾色鏡覆蓋阻擋結(jié)構(gòu)的側(cè)壁。

2.如權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，所述阻擋結(jié)構(gòu)的材料為金屬；所述金屬包括鎢或者鋁。

3.如權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，所述夾角的范圍為：60度～85度。

4.如權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，所述阻擋結(jié)構(gòu)底部尺寸為：0.1微米～0.16微米。

5.如權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，所述阻擋結(jié)構(gòu)頂部尺寸為：0.02微米～0.08微米。

6.如權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，所述基底內(nèi)具有阱區(qū)，所述阱區(qū)內(nèi)具有第一摻雜離子；所述像素區(qū)的阱區(qū)內(nèi)具有光電摻雜區(qū)，所述光電摻雜區(qū)內(nèi)具有第二摻雜離子，所述第二摻雜離子與第一摻雜離子的導(dǎo)電類型相反。

7.如權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，形成所述阻擋結(jié)構(gòu)之前，所述形成方法還包括：在所述基底表面形成鈍化層；在所述鈍化層表面形成停止層。

8.如權(quán)利要求7所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，所述阻擋結(jié)構(gòu)的形成方法包括：在所述停止層表面形成阻擋結(jié)構(gòu)膜，相鄰像素區(qū)之間的所述阻擋結(jié)構(gòu)膜表面具有第一掩膜層；以所述第一掩膜層為掩膜，刻蝕所述阻擋結(jié)構(gòu)膜，直至暴露出停止層的頂部表面，形成所述阻擋結(jié)構(gòu)。

9.如權(quán)利要求8所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，以所述第一掩膜層為掩膜，刻蝕所述阻擋結(jié)構(gòu)膜的工藝包括干法刻蝕工藝和濕法刻蝕工藝中的一種或者兩種組合。

10.如權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，所述濾色鏡為紅色濾色鏡、綠色濾色鏡或藍(lán)色濾色鏡中的一個；所述濾色鏡的頂部尺寸大于底部尺寸。

11.如權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，形成所述濾色鏡之后，所述形成方法還包括：在所述濾色鏡表面形成透鏡結(jié)構(gòu)。

12.一種采用如權(quán)利要求1至11任一項(xiàng)方法所形成的圖像傳感器，其特征在于，包括：

基底，所述基底包括若干相互分離的像素區(qū)；

位于相鄰像素區(qū)之間基底表面的阻擋結(jié)構(gòu)，所述阻擋結(jié)構(gòu)的底部尺寸大于頂部尺寸，且所述阻擋結(jié)構(gòu)側(cè)壁與底部表面呈銳角；

位于各所述像素區(qū)的基底表面的濾色鏡，所述濾色鏡覆蓋阻擋結(jié)構(gòu)的側(cè)壁。