[發(fā)明專利]清洗光刻版的輔助載具和光刻版清洗機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810380557.0
• 申請日: 2018-04-25
• 公開（公告）號: CN108776422B
• 公開（公告）日: 2022-02-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃杰
• 申請（專利權(quán)）人: 華燦光電（蘇州）有限公司
• 主分類號: G03F1/82
• 分類號: G03F1/82
• 代理公司: 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138
• 代理人: 徐立

本發(fā)明公開了清洗光刻版的輔助載具和光刻版清洗機(jī)，屬于光刻版加工領(lǐng)域。將輔助載具設(shè)置為包括載板及至少2個壓塊，載板上設(shè)置有安裝槽，光刻版平行放置在安裝槽內(nèi)。在清洗機(jī)對光刻版進(jìn)行清洗時，固定放置在清洗機(jī)上的輔助載具隨載臺一同旋轉(zhuǎn)。至少2個的壓塊的轉(zhuǎn)動軸均位于壓塊的中部，并將其分為第一部分與第二部分，第一部分與第二部分分別延伸至安裝槽的上方與下方，其重心設(shè)置在第二部分上，在輔助載具的旋轉(zhuǎn)過程中，便于壓塊將光刻版壓緊在載板上對光刻版進(jìn)行固定，使得光刻版不會脫離載臺而受損。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光刻版加工領(lǐng)域，特別涉及清洗光刻版的輔助載具和光刻版清洗機(jī)。

背景技術(shù)

光刻版在發(fā)光二極管外延片的加工制作過程中應(yīng)用非常廣泛，其上具有一定的圖形結(jié)構(gòu)，該圖形結(jié)構(gòu)可通過曝光、顯影及刻蝕操作轉(zhuǎn)移至芯片上以在芯片上形成特征圖形。光刻版在使用一段時間后，其表面會染上臟污，因此需要對光刻版進(jìn)行定期清洗以保證其正常使用。

現(xiàn)有的光刻版通常都是通過清洗機(jī)進(jìn)行清洗，清洗機(jī)包括載臺與清潔刷，載臺上具有矩形固定擋塊，矩形固定擋塊與光刻版的四周相貼，清洗機(jī)控制載臺繞光刻版的垂線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，同時清洗機(jī)控制清潔刷一邊轉(zhuǎn)動一邊對光刻版進(jìn)行清洗。由于載臺上的固定擋塊所圍成的形狀固定，不能適用于不同周長及形狀的光刻版，如果強(qiáng)行清洗與固定擋塊所圍成的形狀不同的光刻版，會導(dǎo)致其在載臺內(nèi)晃動甚至脫離載臺，進(jìn)而造成光刻版損壞。

發(fā)明內(nèi)容

為了使清洗機(jī)能夠?qū)Σ煌荛L及形狀的光刻版進(jìn)行清洗，本發(fā)明實(shí)施例提供了清洗光刻版的輔助載具和光刻版清洗機(jī)。所述技術(shù)方案如下：

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種清洗光刻版的輔助載具，所述輔助載具用于可拆卸固定在清洗機(jī)的載臺上；

所述輔助載具包括載板及至少兩個壓塊，所述載板上設(shè)置有安裝槽，所述安裝槽內(nèi)開設(shè)有用于供清洗液流過的第一通孔，所述至少兩個壓塊沿所述安裝槽的邊沿間隔均勻布置，每個所述壓塊可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在所述載板上，所述壓塊的轉(zhuǎn)動軸位于所述壓塊的中部，所述壓塊被所述轉(zhuǎn)動軸分為第一部分和第二部分，所述第一部分延伸到所述載板的上方，所述第二部分延伸到所述載板的下方，所述壓塊的重心位于所述第二部分上。

可選地，所述壓塊上設(shè)置有第二通孔，所述第二通孔內(nèi)插設(shè)有所述轉(zhuǎn)動軸，所述轉(zhuǎn)動軸與所述第二通孔為間隙配合；

所述載板上設(shè)置有至少兩對安裝耳部，所述至少兩對安裝耳部與所述至少兩個壓塊一一對應(yīng)，所述壓塊的轉(zhuǎn)動軸的兩端分別固定在一對所述安裝耳部上。

可選地，所述第一部分的端部設(shè)置有弧形凸起。

可選地，所述安裝槽的深度為2mm。

可選地，所述安裝槽的形狀為長方體。

可選地，所述第一通孔為矩形孔。

可選地，所述第一通孔的相對設(shè)置的兩側(cè)上分別設(shè)置有一個半圓形通孔。

可選地，所述輔助載具采用聚醚醚酮制作。

可選地，所述載板為長方體狀，所述載板的四角處設(shè)置有直角凹槽。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種光刻版清洗機(jī)，所述光刻版清洗機(jī)包括如前所述的清洗光刻版的輔助載具。