[發明專利]清洗光刻版的輔助載具和光刻版清洗機有效
| 申請號: | 201810380557.0 | 申請日: | 2018-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN108776422B | 公開(公告)日: | 2022-02-11 |
| 發明(設計)人: | 黃杰 | 申請(專利權)人: | 華燦光電(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/82 | 分類號: | G03F1/82 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 215600 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清洗 光刻 輔助 | ||
1.一種清洗光刻版的輔助載具,其特征在于,所述輔助載具用于可拆卸固定在清洗機的載臺上;
所述輔助載具包括載板及至少兩個壓塊,所述載板上設置有安裝槽,所述安裝槽內開設有用于供清洗液流過的第一通孔,所述至少兩個壓塊沿所述安裝槽的邊沿間隔均勻布置,每個所述壓塊可轉動地設置在所述載板上,所述壓塊的轉動軸位于所述壓塊的中部,所述壓塊被所述轉動軸分為第一部分和第二部分,所述第一部分延伸到所述載板的上方,所述第二部分延伸到所述載板的下方,所述壓塊的重心位于所述第二部分上,所述第一部分與所述第二部分朝向所述載板的一側之間的夾角為θ,120°≤θ<180°。
2.根據權利要求1所述的清洗光刻版的輔助載具,其特征在于,所述壓塊上設置有第二通孔,所述第二通孔內插設有所述轉動軸,所述轉動軸與所述第二通孔為間隙配合;
所述載板上設置有至少兩對安裝耳部,所述至少兩對安裝耳部與所述至少兩個壓塊一一對應,所述壓塊的轉動軸的兩端分別固定在一對所述安裝耳部上。
3.根據權利要求1或2所述的清洗光刻版的輔助載具,其特征在于,所述第一部分的端部設置有弧形凸起。
4.根據權利要求1或2所述的清洗光刻版的輔助載具,其特征在于,所述安裝槽的深度為2mm。
5.根據權利要求1或2所述的清洗光刻版的輔助載具,其特征在于,所述安裝槽的形狀為長方體。
6.根據權利要求1或2所述的清洗光刻版的輔助載具,其特征在于,所述第一通孔為矩形孔。
7.根據權利要求6所述的清洗光刻版的輔助載具,其特征在于,所述第一通孔的相對設置的兩側上分別設置有一個半圓形通孔。
8.根據權利要求1或2所述的清洗光刻版的輔助載具,其特征在于,所述輔助載具采用聚醚醚酮制作。
9.根據權利要求1或2所述的清洗光刻版的輔助載具,其特征在于,所述載板為長方體狀,所述載板的四角處設置有直角凹槽。
10.一種光刻版清洗機,其特征在于,所述光刻版清洗機包括如權利要求1-9任一項所述的清洗光刻版的輔助載具。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





