[發明專利]一種掩膜板、顯示器件的制作方法及顯示器件

有效

• 申請號: 201810378728.6
• 申請日: 2018-04-25
• 公開（公告）號: CN108588640B
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發明（設計）人: 劉庭良;代科;楊忠英;馬宏偉;肖云升;童振霄
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;劉偉

1.一種顯示器件的制作方法，其特征在于，包括：

提供一顯示基板，所述顯示基板包括襯底基板和位于所述襯底基板上的顯示功能層；

采用掩膜板對所述顯示基板進行無機材料蒸鍍，形成覆蓋所述顯示基板的無機封裝薄膜，所述無機封裝薄膜覆蓋所述顯示基板除預設區域之外的其他區域，所述預設區域與所述掩膜部對應；

所述掩膜板包括：

掩膜板框架，所述掩膜板框架具有一開口區域；

位于所述開口區域內、與所述掩膜板框架相分離的掩膜部；

與所述掩膜部和所述掩膜板框架分別固定連接、將所述掩膜部固定在所述掩膜板框架上的至少一個掩膜條；

所述掩膜板的多個所述掩膜條平行等間距設置在所述掩膜板框架上，所述掩膜條遮擋所述開口區域一半的部分；

對所述顯示基板進行無機材料蒸鍍的步驟包括：

將所述掩膜板移動至第一位置，使用所述掩膜板對所述顯示基板進行第一蒸鍍工藝，在所述顯示基板上形成第一無機薄膜；

將所述掩膜板移動至第二位置，使用所述掩膜板對所述顯示基板進行第二蒸鍍工藝，在所述顯示基板上形成第二無機薄膜，所述第一無機薄膜和所述第二無機薄膜組成所述無機封裝薄膜；

其中，所述掩膜板在形成所述第一蒸鍍工藝中的掩膜條的排列方向與所述掩膜板在第二蒸鍍工藝中的掩膜條的排列方向相同，且所述第一位置與所述第二位置相錯一個掩膜條的寬度。

2.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，在進行無機材料蒸鍍之前，所述制作方法還包括：

去除所述預設區域的顯示功能層，暴露出所述預設區域的襯底基板。

3.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，

在進行無機材料蒸鍍時，所述掩膜部在所述顯示基板上的正投影完全覆蓋所述預設區域。

4.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，在進行無機材料蒸鍍之前，所述制作方法還包括：

在所述顯示基板上形成包圍所述預設區域的至少一圈擋墻。

5.根據權利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法還包括：

在所述顯示基板除預設區域之外的部分形成流變性有機材料，流變性有機材料被所述擋墻阻擋在所述擋墻遠離所述預設區域的一側，固化后形成有機封裝薄膜。

6.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，對所述顯示基板完成封裝后，所述方法還包括：

沿著所述預設區域的邊界對所述顯示基板進行切割。

7.一種顯示器件，其特征在于，所述顯示器件采用如權利要求1-6中任一項所述的制作方法制作得到。