[發明專利]一種帶式流轉自動浸釉裝置

在審

• 申請號: 201810376426.5
• 申請日: 2018-04-25
• 公開（公告）號: CN108453874A
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發明（設計）人: 黎勤濤;韋郁芬;覃驛
• 申請（專利權）人: 廣西聯壯科技股份有限公司
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04
• 代理公司: 廣西南寧明智專利商標代理有限責任公司 45106
• 代理人: 馮菁

本發明公開了一種帶式流轉自動浸釉裝置，碗坯放置在傳送帶一上并且傳送帶一將其運動到傳送支架一的末端，隨后沿導向板滑倒小皮帶上側，小皮帶的驅動和碗坯重力使碗坯浸入釉水然后滑到托盤的相應位置，隨后轉盤電機轉位將碗坯運動到轉盤的最上端的位置，吸盤將已完成上釉的碗坯吸住并搬運至傳送帶二上，傳送帶二將碗坯運送到下一個工序，從而完成施釉的過程。本發明用于日用陶瓷生產過程中自動上釉工藝步驟，克服傳統上釉裝置存在的效率不高、上釉質量差、自動化程度不高、上釉不均勻存在死角的缺陷。

技術領域

本發明涉及日用陶瓷生產技術，特別是一種用于日用陶瓷生產過程中的自動上釉裝置。

背景技術

在以往的日用陶瓷生產中，各陶瓷廠家因原材料性能的差異或是各種產品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工藝方法進行施釉，手工浸釉生產效率低，同時由于在施釉過程中手指接觸坯體，使坯體在施釉后留下手指印，影響坯體的施釉質量。另外，由于釉水中加有多種化工材料，這些化工材料對人體有腐蝕作用，長期手工浸釉對人體有危害。

為了提高生產效率，提高產品質量，改善工人生產環境，降低成本等，技術人員在日用陶瓷的生產技術及生產設備上進行著不斷的改進。在已有的陶瓷生產技術中，針對陶瓷上釉工序的技術文獻有：

1、專利文獻【公開號：CN202373397U】公開了一種“盤形懸式瓷絕緣子瓷泥坯件頭部上釉裝置”， 該裝置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋轉工位平臺、為瓷泥坯件的外周表面布釉的頭部外周表面浸釉裝置、為瓷泥坯件的內表面布釉的頭部內孔注釉裝置，以及電氣控制柜。該裝置通過將瓷泥坯件“∩”形頭部的倒置安放在旋轉平臺工位上并借助電氣控制旋轉360°進程中經二次延時停頓過程以實現了按步驟連續完成瓷泥坯件頭部外周表面的上釉工序。該裝置自動化程度高，但結構復雜，成本高，并且只能實現對坯件某一局部的上釉而已。

2、專利文獻【公開號：CN1090834】公開了一種“ 陶瓷制品的局部表面上釉”， 該實用新型是通過將熔化輻射能施加到所述上釉位置周圍的制品表面上的熔融區域從而延緩所述熔融區域的冷卻以把接近所述熔融區域的所述制品中產生的熱應力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的斷裂應力來實現局部表面上釉。該實用新型主要用于修補釉彩缺陷及用作裝飾，這種方式的上釉能量消耗巨大，不適用大批量生產制造過程。

3、專利文獻【公開號：CN202246453U】公開了“一種上釉裝置”，該裝置主要由加釉罐、穩壓罐、打釉泵三個部分組成。先將釉料添加至加釉罐，通過打釉泵將釉料送入穩壓罐中，再通過出料閥將釉料涂施在膠輥表面以實現上釉過程。該裝置可實現較均勻的上釉過程，這種工藝過程過于繁瑣，生產效率低，其上釉層厚度也受膠輥磨損純度而變化，導致其上釉質量不穩定。

4、專利文獻【公開號：CN202422887U】公開了一種“線路柱式絕緣子上釉裝置”，該裝置包括支撐架、電機和固定坯體的卡盤，電機固定在支撐架上；電機、卡盤和胚體同軸轉動。該裝置可用于電瓷絕緣子生產過程的上釉工序，其卡盤式固定方式增加了胚體與上釉裝置的接觸面積，使得一次上釉的面積減少，影響生產效率。

5、專利文獻【公開號：CN1223926】公開了一種“特別用于瓷磚的旋轉上釉機”，該裝置具有兩個并排靠近設置的滾筒,釉料可推積在其上,第一滾筒的磚片的上表面上作不受阻滯的接觸滾動,從而將釉料轉移到磚片上,而第二滾筒的旋轉方向與第一滾筒相反。該裝置適用于瓷磚的上釉工序，但其對釉水的流變學動力參數要求非常嚴格，若釉水改變或釉水成分不夠均勻即容易造成上釉層的厚度不一致，直接影響成品率。

6、專利文獻【公開號為CN203187583U】名稱為“日用陶瓷自動上釉裝置”的實用裝置專利中，儲釉筒壁上設有吸釉孔，以便儲釉筒內吸入釉水作為碗底上釉用，在生產過程發現，吸盤機構吸住碗坯往釉池擺動上釉過程中，碗底部接觸釉水的時間比碗表面接觸釉水的時間相對長一些，對于一些吸水性很強的坯體用這種方法上釉，碗底部的釉層厚度明顯比碗表面的厚度大，坯體上釉不合格。