[發(fā)明專利]一種帶式流轉(zhuǎn)自動浸釉裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810376426.5 | 申請日： | 2018-04-25 |
| 公開（公告）號： | CN108453874A | 公開（公告）日： | 2018-08-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 黎勤濤;韋郁芬;覃驛 | 申請（專利權(quán)）人： | 廣西聯(lián)壯科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B28B11/04 | 分類號： | B28B11/04 |
| 代理公司： | 廣西南寧明智專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 45106 | 代理人： | 馮菁 |
| 地址： | 545800 廣西壯*** | 國省代碼： | 廣西;45 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 碗坯 傳送帶 上釉 浸釉裝置 小皮帶 帶式 流轉(zhuǎn) 日用陶瓷生產(chǎn) 吸盤 浸入 托盤 傳送支架 導(dǎo)向板滑 上釉工藝 上釉裝置 轉(zhuǎn)盤電機(jī) 不均勻 質(zhì)量差 上端 施釉 吸住 釉水 轉(zhuǎn)盤 轉(zhuǎn)位 搬運(yùn) 死角 自動化 運(yùn)送 驅(qū)動 | ||
1.一種帶式流轉(zhuǎn)自動浸釉裝置，傳送帶一（1）和傳送帶二（6）分別安裝在傳送支架一（17）和傳送支架二（7）上，傳送帶一（1）和傳送帶二（6）的上方為待施釉的碗坯（2）和完成上釉的碗坯（2），傳送支架一 （17）的右端為導(dǎo)向板（3），傳送支架二（7）左端的上方為吸盤（5），所述傳送支架一（1）和傳送支架二（7）之間為釉池（8）， 其特在在于：釉池（8）的內(nèi)部放置轉(zhuǎn)位機(jī)構(gòu)以及浸釉傳送機(jī)構(gòu)，所述浸釉傳送機(jī)構(gòu)包括異形支架（4）和小皮帶（16），異形支架（4）放置于釉池（8）的內(nèi)部，小皮帶（16）則與異形支架（4）配合安裝，小皮帶（16）的一端與導(dǎo)向板（3）接壤；所述轉(zhuǎn)位機(jī)構(gòu)包括主軸（9）、托盤（10）、底座（11）、立板（12）和轉(zhuǎn)盤電機(jī)（13）以及轉(zhuǎn)盤（14），所述底座（11）放置在釉池（8）的內(nèi)部，底座（11）的兩邊固定立板（12），立板（12）鉸接轉(zhuǎn)盤（14），所述轉(zhuǎn)盤（14）通過主軸（9）連接，且轉(zhuǎn)盤（14）之間安裝托盤（10），主軸（9）的一端連接轉(zhuǎn)盤電機(jī)（13）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶式流轉(zhuǎn)自動浸釉裝置，其特征在于:所述托盤（10）兩端加工有鉸耳，中部加工有圍邊，且為多孔的結(jié)構(gòu)。
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