[發(fā)明專利]Co-Cr-Pt-B型合金濺射靶及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810374017.1 | 申請日： | 2012-05-22 |
| 公開（公告）號： | CN108642456B | 公開（公告）日： | 2022-03-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 森下雄斗;荻野真一;中村祐一郎 | 申請（專利權(quán)）人： | 吉坤日礦日石金屬株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C22C30/00;C22C5/04;C22C19/07;C22F1/10;C22F1/14;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | co cr pt 合金 濺射 及其 制造 方法 | ||
1.一種Co-Cr-Pt-B型合金濺射靶，其特征在于，
Cr為1～40原子％，Pt為1～30原子％，B為0.2～25原子％，剩余部分由Co及不可避免的雜質(zhì)構(gòu)成，
100μm×100μm面積內(nèi)的富B相中的0.1～20μm的裂紋數(shù)為10個以下，
相對于濺射面，水平方向的最大磁導(dǎo)率(μmax)為20以下，
相對于濺射面，水平方向的矯頑力(Hc)為35Oe以上且73Oe以下。
2.一種Co-Cr-Pt-B型合金濺射靶，其特征在于，
Cr為1～40原子％，Pt為1～30原子％，B為0.2～25原子％，作為添加元素的選自Cu、Ru、Ta、Pr、Nb、Nd、Si、Ti、Y、Ge、Zr中的一種以上元素為0.5～20原子％，剩余部分由Co及不可避免的雜質(zhì)構(gòu)成，
100μm×100μm面積內(nèi)的富B相中的0.1～20μm的裂紋數(shù)為10個以下，
相對于濺射面，水平方向的最大磁導(dǎo)率(μmax)為20以下，
相對于濺射面，水平方向的矯頑力(Hc)為35Oe以上且73Oe以下。
3.如權(quán)利要求1或2所述的Co-Cr-Pt-B型合金濺射靶，其特征在于，相對密度為95％以上。
4.一種Co-Cr-Pt-B型合金濺射靶的制造方法，其為權(quán)利要求1～3中任一項所述的Co-Cr-Pt-B型合金濺射靶的制造方法，其特征在于，將Co-Cr-Pt-B型合金鑄錠加熱至800℃～1100℃，以15％以下的壓下率反復(fù)進行熱鍛或熱軋后，進行伸長率為4％以下的冷軋或冷鍛，進一步對其進行機械加工。
5.如權(quán)利要求4所述的Co-Cr-Pt-B型合金濺射靶的制造方法，其特征在于，所述800℃～1100℃的加熱在熱鍛或熱軋前隨時進行。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
