[發(fā)明專利]一種雙印刻導(dǎo)光板及其加工方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810373616.1
• 申請(qǐng)日: 2018-04-24
• 公開（公告）號(hào): CN108427157A
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李東寅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三進(jìn)光電（蘇州）有限公司
• 主分類號(hào): G02B6/00
• 分類號(hào): G02B6/00
• 代理公司: 上海漢聲知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236
• 代理人: 周君;胡晶

1.一種雙印刻導(dǎo)光板，其特征在于，包括有一導(dǎo)光板本體，所述導(dǎo)光板本體的上表面上形成有若干順序排列的上陰刻凹形槽，所述導(dǎo)光板本體的下表面上形成有若干順序排列的下陰刻凹形槽，光線進(jìn)入所述導(dǎo)光板本體，在導(dǎo)光板本體上陰刻凹形槽、下陰刻凹形槽的作用下形成重復(fù)折射，同時(shí)所述導(dǎo)光板本體的表面形成有摩爾紋現(xiàn)象；所述導(dǎo)光本體的下表面上還形成有用于均勻折射率的多個(gè)陰刻凹點(diǎn)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙印刻導(dǎo)光板，其特征在于，若干所述上陰刻凹形槽、若干所述下陰刻凹形槽均等間距間隔排列。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙印刻導(dǎo)光板，其特征在于，所述導(dǎo)光板本體上表面上的上陰刻凹形槽與所述導(dǎo)光板本體下表面上的下陰刻凹形槽。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙印刻導(dǎo)光板，其特征在于，所述上陰刻凹形槽、所述下陰刻凹形槽、所述陰刻凹點(diǎn)的陰刻深度為25um。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙印刻導(dǎo)光板，其特征在于，靠近光源處的所述陰刻凹點(diǎn)的數(shù)目少于遠(yuǎn)離光源處的所述陰刻凹點(diǎn)的數(shù)目。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的雙印刻導(dǎo)光板，其特征在于，多個(gè)所述陰刻凹點(diǎn)不規(guī)則排列。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙印刻導(dǎo)光板，其特征在于，所述導(dǎo)光板主體采用亞克力板。

8.一種雙印刻導(dǎo)光板的加工方法，其特征在于，用于加工上述權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述導(dǎo)光板，導(dǎo)光板采用滾壓機(jī)直接壓成，所述滾壓機(jī)包括有上壓滾和下壓滾，所述上壓滾外表面上設(shè)置有用于壓制出上陰刻凹形槽的第一凸起結(jié)構(gòu)，所述下壓滾的外表面上設(shè)置有用于壓制出下陰刻凹形槽和陰刻凹點(diǎn)的第二凸起結(jié)構(gòu)；導(dǎo)光板經(jīng)過上壓滾與下壓滾之間，在加熱、加壓的作用下同時(shí)在導(dǎo)光板上下表面上壓制出上陰刻凹形槽、下陰刻凹形槽和陰刻凹點(diǎn)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙印刻導(dǎo)光板的加工方法，其特征在于，所述滾壓機(jī)滾壓時(shí)的溫度為100℃、壓力為小于1000Kgf。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙印刻導(dǎo)光板的加工方法，其特征在于，所述上壓滾與所述第一凸起結(jié)構(gòu)一體開模制成，所述下壓滾與所述第二凸起結(jié)構(gòu)一體激光制成。