[發明專利]電容式隔膜真空計及干刻蝕設備腔體壓力測試系統在審
| 申請號： | 201810368641.0 | 申請日： | 2018-04-23 |
| 公開（公告）號： | CN108593198A | 公開（公告）日： | 2018-09-28 |
| 發明（設計）人： | 丁俊 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G01L21/00 | 分類號： | G01L21/00 |
| 代理公司： | 深圳市德力知識產權代理事務所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 干刻蝕設備 隔膜真空計 電容式 腔體 第一腔室 第二腔室 壓力隔膜 測量電極 測試系統 腔體壓力 副產物 過濾網 制程 污染物附著 參考電極 第二腔體 間隔設置 使用壽命 永久變形 真空壓力 均一性 刻蝕率 吸附 破損 污染物 測試 保證 | ||
1.一種電容式隔膜真空計，其特征在于，包括：相鄰的第一腔室(11)和第二腔室(12)、設于所述第一腔室(11)和第二腔室(12)之間的壓力隔膜(13)、設于所述第一腔室(11)中的測量電極(14)、設于所述第一腔室(11)中并與測量電極(14)間隔設置的參考電極(15)以及設于所述第二腔室(12)中的過濾網(16)；
所述第二腔體(12)用于通入干刻蝕設備腔體的氣體；
所述過濾網(16)用于吸附干刻蝕設備腔體的制程副產物以及腔體污染物。
2.如權利要求1所述的電容式隔膜真空計，其特征在于，還包括設于所述第二腔室(12)中并位于壓力隔膜(13)與過濾網(16)之間的加熱電路(17)。
3.如權利要求1所述的電容式隔膜真空計，其特征在于，所述過濾網(16)的材料為聚四氟乙烯。
4.如權利要求1所述的電容式隔膜真空計，其特征在于，所述壓力隔膜(13)的材料為鉻鎳鐵合金。
5.如權利要求1所述的電容式隔膜真空計，其特征在于，所述壓力隔膜(13)的厚度為10um～90um。
6.一種干刻蝕設備腔體壓力測試系統，其特征在于，包括：腔體(100)、與所述腔體(100)連接的氣體管道(200)、設于所述氣體管道(200)上的壓力調節器(300)、以及與所述氣體管道(200)連接并與壓力調節器(300)電性連接的如權利要求1所述的電容式隔膜真空計(400)；
所述電容式隔膜真空計(400)用于測試腔體(100)內的真空壓力值，并反饋給壓力調節器(300)；
所述壓力調節器(300)用于對腔體(100)內的真空壓力值進行調節。
7.如權利要求6所述的干刻蝕設備腔體壓力測試系統，其特征在于，還包括與所述氣體管道(200)端部連接的真空泵(500)。
8.如權利要求6所述的干刻蝕設備腔體壓力測試系統，其特征在于，還包括設于所述氣體管道(200)上并位于腔體(100)與壓力調節器(300)之間的隔離閥(600)。
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