[發明專利]氣體處理系統及處理方法

在審

• 申請號: 201810366719.5
• 申請日: 2018-04-23
• 公開（公告）號: CN108591826A
• 公開（公告）日: 2018-09-28
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 睿力集成電路有限公司
• 主分類號: F17D1/04
• 分類號: F17D1/04;F17D3/01;F17D3/12;F17D5/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 張臻賢;李夠生

本發明涉及一種氣體處理系統及處理方法，系統包括排氣系統的第一泵體與晶圓真空反應室連接，排氣管路與第一、第二泵體連接；氮氣管路與氮氣供給系統以及排氣管路連接，氮氣管路將氮氣供給系統中供應的氮氣輸送到排氣管路稀釋第一混合氣體中的氧硫化碳濃度至爆炸濃度下限以下；供應至氮氣管路中的氮氣為從氮氣供給系統供應至各廠務設備的氮氣中分配出的。方法包括向晶圓真空反應室內放入晶圓并持續通入反應氣體；氮氣管路將氮氣輸送到排氣管路中對氧硫化碳進行稀釋；第二泵體將排氣管路中的氣體抽入其內部并再次稀釋后排出。本發明解決了排氣管路中氧硫化碳濃度過高發生爆炸以及不增加氮氣供給系統負擔的問題。

技術領域

本發明涉及氣體處理技術領域，特別涉及一種氣體處理系統及處理方法。

背景技術

在晶圓蝕刻過程中常需要用到氧硫化碳(cos)氣體，但氧硫化碳氣體屬于易燃易爆氣體，當氧硫化碳的濃度達到11.9％～29％時有可能發生自燃或爆炸。因此，在晶圓蝕刻的晶圓真空反應室之后需要增加氣體稀釋系統稀釋晶圓真空反應室中的氧硫化碳。現有的氧硫化碳稀釋過程是在抽出氧硫化碳的排氣管路的末端進行的，但是由于氧硫化碳氣體在剛抽入排氣管路中時濃度已經能夠達到13.15％，處于氧硫化碳的爆炸濃度范圍內，因此容易出現安全事故，造成設備和人身危害。另一方面，為了減小安全事故的發生幾率，現有的方式是在排氣管路的各段銜接位置安裝密封環和包裹防爆毯，以減少對設備和人身的損壞。但是由于排氣管路過長且需要安裝的防爆毯過多，操作人員需要高空作業進行防爆毯的安裝和維護，因此極易造成墜落及管路爆炸等危險事故發生。

在背景技術中公開的上述信息僅用于加強對本發明的背景的理解，因此其可能包含沒有形成為本領域普通技術人員所知曉的現有技術的信息。

發明內容

有鑒于此，本發明實施例提供一種氣體處理系統及處理方法，以解決或緩解現有技術中存在的技術問題，至少提供一種有益的選擇。

本發明實施例的技術方案是這樣實現的：

根據本發明的一個實施例，提供一種氣體處理系統，包括：

至少一排氣系統，具有第一泵體、第二泵體和排氣管路；所述第一泵體與一晶圓真空反應室連接，所述排氣管路的進氣端與所述第一泵體連接，所述第一泵體將所述晶圓真空反應室中的第一混合氣體抽入所述排氣管路中；所述排氣管路的出氣端與所述第二泵體連接；所述第一混合氣體包含氧硫化碳；

氮氣供給系統，用于向各廠務設備供應氮氣；以及

氮氣管路，與所述氮氣供給系統以及所述排氣管路的所述進氣端連接，所述氮氣管路用于將所述氮氣供給系統中供應的氮氣輸送到所述排氣管路的所述進氣端處，以稀釋所述第一混合氣體中的所述氧硫化碳濃度至爆炸濃度下限以下；

其中，供應至所述氮氣管路中的氮氣為從所述氮氣供給系統供應至各所述廠務設備的氮氣中分配出的，且所述氮氣供給系統中的氮氣量未增加；所述第一混合氣體經所述氮氣稀釋后生產第二混合氣體，所述第二混合氣體經由所述排氣管路輸送到所述第二泵體，所述第二泵體用于將所述排氣管路中的第二混合氣體排出。

在一些實施例中，所述廠務設備包括所述第二泵體，所述氮氣供給系統為所述第二泵體供應氮氣，所述第二泵體用于使用氮氣將所述第二混合氣體中的所述氧硫化碳再次稀釋并排出所述第二泵體；

其中，供應至所述氮氣管路中的氮氣為從所述氮氣供給系統供應至所述第二泵體的氮氣中分配出的，所述氮氣供給系統供應給所述氮氣管路的氮氣量小于供應給所述第二泵體的氮氣量。

在一些實施例中，還包括：

流量控制裝置，設置在所述氮氣管路上，用于控制所述氮氣管路中氮氣的流量；

控制單元，與所述流量控制裝置以及所述氮氣供給系統電連接，所述控制單元用于監控所述氮氣供給系統以及監測控制所述流量控制裝置。