[發明專利]氣體處理系統及處理方法

在審

• 申請號: 201810366719.5
• 申請日: 2018-04-23
• 公開（公告）號: CN108591826A
• 公開（公告）日: 2018-09-28
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 睿力集成電路有限公司
• 主分類號: F17D1/04
• 分類號: F17D1/04;F17D3/01;F17D3/12;F17D5/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 張臻賢;李夠生

1.一種氣體處理系統，其特征在于，包括：

至少一排氣系統，具有第一泵體、第二泵體和排氣管路；所述第一泵體與一晶圓真空反應室連接，所述排氣管路的進氣端與所述第一泵體連接，所述第一泵體將所述晶圓真空反應室中的第一混合氣體抽入所述排氣管路中；所述排氣管路的出氣端與所述第二泵體連接；所述第一混合氣體包含氧硫化碳；

氮氣供給系統，用于向各廠務設備供應氮氣；以及

氮氣管路，與所述氮氣供給系統以及所述排氣管路的所述進氣端連接，所述氮氣管路用于將所述氮氣供給系統中供應的氮氣輸送到所述排氣管路的所述進氣端處，以稀釋所述第一混合氣體中的所述氧硫化碳濃度至爆炸濃度下限以下；

其中，供應至所述氮氣管路中的氮氣為從所述氮氣供給系統供應至各所述廠務設備的氮氣中分配出的；所述第一混合氣體經所述氮氣稀釋后生產第二混合氣體，所述第二混合氣體經由所述排氣管路輸送到所述第二泵體，所述第二泵體用于將所述排氣管路中的第二混合氣體排出。

2.如權利要求1所述的氣體處理系統，其特征在于，所述廠務設備包括所述第二泵體，所述氮氣供給系統為所述第二泵體供應氮氣，所述第二泵體用于使用氮氣將所述第二混合氣體中的所述氧硫化碳再次稀釋并排出所述第二泵體；

其中，供應至所述氮氣管路中的氮氣為從所述氮氣供給系統供應至所述第二泵體的氮氣中分配出的，所述氮氣供給系統供應給所述氮氣管路的氮氣量小于供應給所述第二泵體的氮氣量。

3.如權利要求1所述的氣體處理系統，其特征在于，還包括：

流量控制裝置，設置在所述氮氣管路上，用于控制所述氮氣管路中氮氣的流量；

控制單元，與所述流量控制裝置以及所述氮氣供給系統電連接，所述控制單元用于監控所述氮氣供給系統以及監測控制所述流量控制裝置。

4.如權利要求3所述的氣體處理系統，其特征在于，所述流量控制裝置包括設置在所述氮氣管路上的壓力計、調壓閥、流量計和流量閥；所述控制單元與所述壓力計、所述調壓閥、所述流量計以及所述流量閥電連接，所述控制單元通過監控所述壓力計控制所述調壓閥開度，以及通過監控所述流量計控制所述流量閥開度，以調節所述氮氣管路中輸送的氮氣量。

5.如權利要求3所述的氣體處理系統，其特征在于，所述控制單元包括監測管路和壓力控制器，所述監測管路與所述氮氣管路并聯設置且與所述氮氣供給系統連接，所述壓力控制器通過監測所述監測管路中的氮氣量，進而監測所述氮氣供給系統的供氣情況。

6.如權利要求5所述的氣體處理系統，其特征在于，所述控制單元還與所述晶圓真空反應室電連接，根據監測的所述氮氣供給系統以及所述流量控制裝置的情況控制所述晶圓真空反應室工作。

7.如權利要求1所述的氣體處理系統，其特征在于，所述氮氣供給系統從供應給各所述廠務設備的氮氣中分配部分氮氣至所述氮氣管路，未增加所述氮氣供給系統中的氮氣量。

8.如權利要求1所述的氣體處理系統，其特征在于，所述排氣管路豎直設置，由下至上依次包括底層區域、中層區域和高層區域；所述晶圓真空反應室和所述第一泵體位于所述高層區域，所述第二泵體位于所述底層區域。

9.如權利要求1所述的氣體處理系統，其特征在于，在所述排氣管路的所述進氣端外部設置有加熱帶，在所述加熱帶的外部設置有防爆毯，所述加熱帶與所述防爆毯的設置位置在所述第一泵體與所述氮氣管路之間。

10.如權利要求1所述的氣體處理系統，其特征在于，還包括凈氣裝置，所述凈氣裝置與所述第二泵體連接，所述第二泵體將所述第二混合氣體以及所述第二泵體中的氮氣一同泵送到所述凈氣裝置中進行氣體除害處理后，排出到大氣中。

11.如權利要求1所述的氣體處理系統，其特征在于，所述排氣系統為并聯設置的多個，且每一所述排氣系統均與一所述氮氣管路和一所述晶圓真空反應室連接。