[發(fā)明專利]表面檢測(cè)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810361437.6
• 申請(qǐng)日: 2018-04-20
• 公開（公告）號(hào): CN110389173A
• 公開（公告）日: 2019-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林志杰;王獻(xiàn)國(guó)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 高思設(shè)計(jì)股份有限公司;林志杰;王獻(xiàn)國(guó)
• 主分類號(hào): G01N29/06
• 分類號(hào): G01N29/06;G01N21/88
• 代理公司: 北京申翔知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11214
• 代理人: 黃超;周春發(fā)

1.一種表面檢測(cè)方法，其特征在于，至少包括下列步驟：

(a)建立至少一超音波圖像模型及至少一光學(xué)影像模型；

(b)設(shè)定檢測(cè)項(xiàng)目的范圍及比對(duì)值，依照所需的檢測(cè)項(xiàng)目，透過軟體于該至少一超音波圖像模型當(dāng)中設(shè)定至少一與檢測(cè)項(xiàng)目對(duì)應(yīng)的超音波圖像檢測(cè)范圍及超音波比對(duì)值，以及利用軟體于該至少一光學(xué)影像模型當(dāng)中設(shè)定至少一與檢測(cè)項(xiàng)目對(duì)應(yīng)的光學(xué)影像檢測(cè)范圍及光學(xué)比對(duì)值；

(c)提供一被測(cè)物；

(d)擷取該被測(cè)物的被測(cè)物超音波圖像及被測(cè)物光學(xué)影像，利用至少一超音波成像設(shè)備擷取該被測(cè)物的被測(cè)物超音波圖像，以及利用至少一數(shù)位相機(jī)擷取該被測(cè)物的被測(cè)物光學(xué)影像；

(e)比對(duì)被測(cè)物超音波圖像及被測(cè)物光學(xué)影像，透過軟體依照所設(shè)定的超音波圖像檢測(cè)范圍及超音波比對(duì)值，將該被測(cè)物超音波圖像的數(shù)位圖像資訊與該至少一超音波圖像模型的數(shù)位圖像資訊進(jìn)行比對(duì)，以及透過軟體依照所設(shè)定的光學(xué)影像檢測(cè)范圍及光學(xué)比對(duì)值，將該被測(cè)物光學(xué)影像的數(shù)位影像資訊與該至少一光學(xué)影像模型的數(shù)位影像資訊進(jìn)行比對(duì)；

(f)輸出比對(duì)結(jié)果。

2.如權(quán)利要求1所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該至少一超音波圖像模型或該至少一光學(xué)影像模型透過軟體建置而成；該超音波圖像模型及該光學(xué)影像模型相對(duì)應(yīng)于該被測(cè)物。

3.如權(quán)利要求1所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該表面檢測(cè)方法，在完成一對(duì)應(yīng)于被測(cè)物的實(shí)體模型之后，利用至少一超音波成像設(shè)備擷取該實(shí)體模型的超音波圖像之后，完成該至少一超音波圖像模型。

4.如權(quán)利要求1所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該表面檢測(cè)方法，在完成一對(duì)應(yīng)于被測(cè)物的實(shí)體模型之后，利用至少一數(shù)位相機(jī)擷取該實(shí)體模型的光學(xué)影像之后，完成該至少一光學(xué)影像模型。

5.如權(quán)利要求1所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該表面檢測(cè)方法，在完成一對(duì)應(yīng)于被測(cè)物的實(shí)體模型之后，利用至少一超音波成像設(shè)備擷取該實(shí)體模型的超音波圖像，透過軟體修飾完成該至少一超音波圖像模型。

6.如權(quán)利要求1所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該表面檢測(cè)方法，在完成一對(duì)應(yīng)于被測(cè)物的實(shí)體模型之后，利用至少一數(shù)位相機(jī)擷取該實(shí)體模型的光學(xué)影像，透過軟體修飾完成該至少一光學(xué)影像模型。

7.如權(quán)利要求1所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該表面檢測(cè)方法，在比對(duì)被測(cè)物超音波圖像及被測(cè)物光學(xué)影像時(shí)，將該至少一超音波圖像模型與被測(cè)物光學(xué)影像重疊的方式，以及將該至少一光學(xué)影像模型與被測(cè)物超音波圖像重疊的方式，進(jìn)行交叉比對(duì)。

8.如權(quán)利要求1至7其中任一所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該被測(cè)物為一停滯于一加工生產(chǎn)在線的產(chǎn)品或半成品。

9.如權(quán)利要求1至7其中任一所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該被測(cè)物為一于一加工生產(chǎn)在線移動(dòng)的產(chǎn)品或半成品。

10.如權(quán)利要求1至7其中任一所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該被測(cè)物為一自一加工生產(chǎn)在線移出的產(chǎn)品或半成品。

11.如權(quán)利要求1至7其中任一所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該表面檢測(cè)方法，透過至少一傳輸介面，將被測(cè)物超音波圖像比對(duì)結(jié)果及被測(cè)物光學(xué)影像比對(duì)結(jié)果輸出至該至少一傳輸介面所連接的至少一顯示裝置。

12.如權(quán)利要求1至7其中任一所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該表面檢測(cè)方法，透過至少一傳輸介面，將被測(cè)物超音波圖像比對(duì)結(jié)果及被測(cè)物光學(xué)影像比對(duì)結(jié)果輸出至該至少一傳輸介面所連接的至少一控制裝置。

13.如權(quán)利要求1至7其中任一所述的表面檢測(cè)方法，其特征在于，該表面檢測(cè)方法，透過至少一傳輸介面，將被測(cè)物超音波圖像比對(duì)結(jié)果及被測(cè)物光學(xué)影像比對(duì)結(jié)果輸出至該至少一傳輸介面所連接的至少一顯示裝置及至少一控制裝置。