[發(fā)明專利]磁盤用基板的制造方法及在磁盤用基板的制造中使用的研磨墊

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810357734.3
• 申請(qǐng)日: 2014-02-07
• 公開（公告）號(hào): CN108564969B
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 久原巧己;長(zhǎng)大介;山城祐治
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G11B5/84
• 分類號(hào): G11B5/84
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;龐東成

為了降低玻璃基板的主表面的波長(zhǎng)為50～200μm的微小起伏的均方根粗糙度Rq，磁盤用基板的制造方法包括研磨處理，其中，利用一對(duì)研磨墊將基板夾持，向該研磨墊與基板之間供給包含研磨磨粒的漿料，使研磨墊與基板進(jìn)行相對(duì)滑動(dòng)，從而對(duì)基板的兩個(gè)主表面進(jìn)行研磨。上述研磨墊具有發(fā)泡樹脂層，該發(fā)泡樹脂層在表面具有2個(gè)以上的開口。由上述研磨墊的表面的拍攝圖像得到上述研磨墊的表面的立體形狀的信息，由上述立體形狀的信息求出上述研磨墊的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra時(shí)，上述Ra為0.5μm以下。

本申請(qǐng)是分案申請(qǐng)，其原申請(qǐng)的申請(qǐng)?zhí)枮?01480007088.8，申請(qǐng)日為2014年02月07日，發(fā)明名稱為“磁盤用基板的制造方法及在磁盤用基板的制造中使用的研磨墊”。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及磁盤用基板的制造方法及在磁盤用基板的制造中使用的研磨墊。

背景技術(shù)

對(duì)于用作信息記錄介質(zhì)之一的磁盤而言，以往適宜地使用了玻璃基板?，F(xiàn)在，應(yīng)硬盤驅(qū)動(dòng)裝置中的存儲(chǔ)容量增大的要求，實(shí)現(xiàn)了磁記錄的高密度化。伴隨于此，進(jìn)行了下述操作：使磁頭距磁記錄面的懸浮距離極短，從而對(duì)磁記錄信息區(qū)域進(jìn)行微細(xì)化。對(duì)于這種磁盤用玻璃基板而言，為了達(dá)成高記錄密度硬盤驅(qū)動(dòng)裝置所需的磁頭低懸浮量化，降低基板的表面凹凸、特別是微小起伏的要求越來越強(qiáng)。

對(duì)此，已知有一種信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，該信息記錄介質(zhì)用玻璃基板可以準(zhǔn)確地控制表面的微小起伏，可用作對(duì)應(yīng)于高密度記錄的信息記錄介質(zhì)的基板(專利文獻(xiàn)1)。

該制造方法為具有研磨工序的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，該研磨工序中，將信息記錄介質(zhì)用玻璃基板安裝在軟質(zhì)拋光機(jī)的貼附了研磨墊的上下定盤之間從而對(duì)兩個(gè)主表面進(jìn)行研磨。在該制造方法中，所述研磨工序后的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板主表面的微小起伏的值取決于所述研磨工序中使用的研磨墊表面的表面粗糙度的值，利用這一現(xiàn)象，選定所述研磨工序中使用的研磨墊表面的表面粗糙度，從而使所述研磨工序后的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板主表面的微小起伏為規(guī)定的值。例如，使選定的研磨墊的表面粗糙度Rz(最大高度)為20μm以下。此時(shí)，研磨墊的表面粗糙度Rz使用觸針式表面粗糙度計(jì)來進(jìn)行測(cè)定。需要說明的是，此處，微小起伏的波長(zhǎng)(周期)帶寬為2μm～4mm。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2002-92867號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

最近，隨著磁頭的小型化、低懸浮量化、磁盤的高速旋轉(zhuǎn)化等，對(duì)于磁盤用玻璃基板而言要降低的微小起伏的波長(zhǎng)帶寬變小。

但是，使上述制造方法中的研磨墊的表面粗糙度Rz(最大高度)為上述的數(shù)值范圍時(shí)，可以減小具有以往的寬波長(zhǎng)帶寬的波長(zhǎng)為2μm～4mm的微小起伏，但無法減小玻璃基板的波長(zhǎng)為50～200μm的微小起伏。關(guān)于這種玻璃基板中的波長(zhǎng)為50～200μm的微小起伏的降低，在鋁合金制基板中也存在同樣的問題。

因此，本發(fā)明的目的在于提供一種可以降低波長(zhǎng)為50～200μm的微小起伏的磁盤用基板的制造方法和在該制造方法中使用的研磨墊。

用于解決問題的手段

本申請(qǐng)發(fā)明人為了解決上述現(xiàn)有的問題，對(duì)研磨墊的表面進(jìn)行了詳細(xì)的研究。

首先，本申請(qǐng)發(fā)明人利用觸針式表面粗糙度計(jì)測(cè)量了各種各樣的研磨墊的表面粗糙度Rz，選擇在所測(cè)定的Rz中Rz值非常小的研磨墊進(jìn)行研磨。但是，無法減小玻璃基板的波長(zhǎng)為50～200μm的微小起伏。即，利用觸針式表面粗糙度計(jì)測(cè)定的表面粗糙度Rz的值并不是用于減小波長(zhǎng)為50～200μm的微小起伏的指標(biāo)。因此，為了減小玻璃基板的波長(zhǎng)為50～200μm的微小起伏，使用何種研磨墊為宜，這仍是不明了的。