[發明專利]一種單面料層的通體透光磚的制備工藝及其通體透光磚有效
| 申請號: | 201810354426.5 | 申請日: | 2018-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN108424112B | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發明(設計)人: | 羅宏;周燕 | 申請(專利權)人: | 佛山市東鵬陶瓷有限公司;廣東東鵬控股股份有限公司;佛山東華盛昌新材料有限公司 |
| 主分類號: | C04B33/13 | 分類號: | C04B33/13;C04B33/04;C04B33/34;C03C8/00;C03C8/14;C04B41/86 |
| 代理公司: | 佛山市禾才知識產權代理有限公司 44379 | 代理人: | 梁永健 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 面料 通體 透光 制備 工藝 及其 | ||
一種單面料層的通體透光磚的制備工藝及其通體透光磚,其制備工藝,包括如下步驟:(1)采用含有25%~40%重量分數的高鋁質泥料的磚坯底料布施于壓機模腔中,形成底料層;(2)在磚坯底料層上布施面料,形成面料層,所述面料為透光料或由透光料與有色料搭配而成;(3)壓制形成磚坯,且底料層的厚度占磚坯厚度的10~20%;(4)入窯燒制后,將底料層刮平,即可獲得單面料層的通體透光磚;本發明經過設計薄層布底料與拋底工藝結合的二次布料工藝,獲得單面料層的通體透光磚,其立體感和層次感更強,并結合不同的光源,達到更加晶透的光影效果,生產成本低且應用廣泛。
技術領域
本發明涉及建筑陶瓷技術領域,尤其涉及一種單面料層的通體透光磚的制備工藝及其通體透光磚。
背景技術
現有的二次布料玻化磚是較為常見的二次布料陶瓷磚品類。目前由二次布料工藝制備得的二次布料玻化磚,其一般面料層厚度占整磚厚度的1/3~1/2,底料層厚度占2/3~1/2,因此嚴格意義上講是屬于半通體陶瓷磚。
而真正的通體磚則要求面底一致,尤其是對于目前消費者的青睞通體透光磚,即如玉質般晶瑩剔透的通體瓷磚材質,在背光燈源的照射下,光線穿透瓷磚磚體透光的一種瓷磚,其更需要體現傳統瓷磚的仿自然紋理,同時還需要充分結合光源增加不同的維度效果,使其層次感更強,而目前的半通體陶瓷磚顯然難免會影響磚面形成的光影效果,難以達到立體通透的質感。況且現有的二次布料玻化磚面料層存在不耐高溫,單燒缺陷較多,磚形不好控制的問題,而且在燒成后對于其圖案紋理則較難把控,因此需要提出一種如何制備獲得單面料層的真正的通體透光磚。
發明內容
本發明的目的在于提出一種單面料層的通體透光磚的制備工藝,經過設計薄層布底料與拋底工藝結合的二次布料工藝,獲得單面料層的通體透光磚,其立體感和層次感更強,并結合不同的光源,達到更加晶透的光影效果,生產成本低且應用廣泛。
本發明的另一個目的在于提出一種單面料層的通體透光磚。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
一種單面料層的通體透光磚的制備工藝,包括如下步驟:
(1)采用含有25%~40%重量分數的高鋁質泥料的磚坯底料布施于壓機模腔中,形成底料層;
(2)在磚坯底料層上布施面料,形成面料層,所述面料為透光料或由透光料與有色料搭配而成;
(3)壓制形成磚坯,且底料層的厚度占磚坯厚度的10~20%;
(4)入窯燒制后,將底料層刮平,即可獲得單面料層的通體透光磚。本發明提出單面料層的通體透光磚的制備工藝,其主要是對傳統的二次布料磚制作工藝的改進,薄層布底料結合拋底工藝,實現可制作出單面料層的通體透光磚,其中通過在磚坯底料中增加了高鋁質泥料,并同時控制其所形成的底料層的厚度,再將具有透光效果的面料均勻地布施于底料層上方,從而不僅能夠利用其更薄的底料層來有效調節和控制整磚的磚形,以及使磚坯具有較高的耐火度及較好的塑性,而且還可以將燒成后的磚坯的底料層刮平,從而有效獲得真正面底一致的單面料層的通體透光磚,其能夠有效將仿自然紋理與如玉質般的通透效果結合,從而使磚面的圖案紋理豐富且立體感和層次感更強,并結合不同的光源,達到更加晶透的光影效果,其可以在家裝中作為替代石材的裝飾材料,同時也能夠成為一些家具中石材的替代品,用途較為廣泛。
另外,由于其底料層最后并不會對磚坯的圖案紋理產生影響,因此本發明的磚坯底料與現有的底料相比,則對其白度要求能夠大大降低,即能夠進一步降低磚坯底料的生產成本。同時,面料層還可根據不同壓制模具的特點,可以形成平面或凹凸面的磚面效果,進一步增強磚面的自然紋理效果。步驟(1)和(2)中,當反打布料時則磚坯底料和面料的布料順序相反。
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