[發明專利]可移動的金屬化薄膜方阻在線監視裝置

在審

• 申請號: 201810353361.2
• 申請日: 2018-04-19
• 公開（公告）號: CN108592777A
• 公開（公告）日: 2018-09-28
• 發明（設計）人: 錢錦繡
• 申請（專利權）人: 錢立文
• 主分類號: G01B7/06
• 分類號: G01B7/06;G01R27/02;H01G4/33
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明可移動的金屬化薄膜方阻在線監視裝置，包括安裝在真空蒸鍍室內的測控主機(1)、安裝在真空蒸鍍室外的人機界面控制盒(2)、以及用于真空蒸鍍室內外電連接的真空電極法蘭(3)；所述的測控主機(1)的機架(11)固設在絲桿滑臺(6)的滑座(8)上；所述的人機界面控制盒(2)上設有控制測控主機(1)沿金屬化薄膜(5)膜幅面垂直橫向水平移動的左移操作按鈕(21)、右移操作按鈕(22)；所述的真空電極法蘭(3)上設有供步進電機(7)驅動線進出真空蒸鍍室內外的針電極(31)。本發明可檢測整個膜幅面所涵蓋的鍍層方阻值變化情況，適應金屬化薄膜規格多樣化的監測要求，有利于提高鍍膜的質量。

技術領域

本發明涉及金屬化薄膜金屬鍍層測厚儀，特別是涉及一種可移動的金屬化薄膜方阻在線監視裝置。

背景技術

金屬化薄膜是薄膜電容器生產制造的重要材料，將高純度金屬（如AL，ZN）在高真空狀態下熔化、蒸發、沉淀到介質基膜上，在介質基膜表面形成一層極薄的金屬鍍層后的薄膜就是金屬化薄膜；金屬鍍層厚度的縱向、橫向均勻度是鍍膜制品重要質量和技術指標，金屬化薄膜上的金屬鍍層厚度很小極難測量，通常用方塊電阻來表示金屬鍍層的厚度，單位正方形面積的電阻值稱為方阻（即方塊電阻，用Ω/□表示）；在鍍膜過程中，如果不能實時了解整個膜面鍍層的均勻性，及時調整生產工藝，就會影響鍍膜的質量，但是方阻在線監視，無法采取接觸方式測量，通常采用表征方阻特性的光密度檢測方式，不與金屬化薄膜上的金屬鍍層接觸；現有的金屬化薄膜方阻在線監視裝置一般包括安裝在真空蒸鍍室內的測控主機、安裝在真空蒸鍍室外的人機界面、以及用于電連接真空蒸鍍室內外的真空電極法蘭；測控主機一般包含機架、固設在機架垂直面的控制器、固設在機架水平面的至少一對光源發射頭、光源接收頭；人機界面固設在蒸鍍室外的控制盒操作面，用于顯示所有測試點數據的實時監控；真空電極法蘭固設在蒸鍍室側壁孔上，用于完成真空蒸鍍室內側的測控主機供電與外側的人機界面通訊的電連接，且不影響真空蒸鍍室內的真空度；然而金屬化薄膜規格多樣化，即整個膜幅面鍍層帶數量不一樣，采取這種固定位置在線監視方式，勢必會導致部分鍍層帶區域無法監測。

發明內容

本發明的目的是針對現有技術中存在的不足，提供一種可移動的金屬化薄膜方阻在線監視裝置，測控主機可檢測整個膜幅面所涵蓋的鍍層方阻值變化情況，適應金屬化薄膜規格多樣化的監測要求，有利于提高鍍膜的質量。

技術方案

為實現上述目的，本發明采用了以下技術方案：可移動的金屬化薄膜方阻在線監視裝置，包括安裝在真空蒸鍍室內的測控主機、安裝在真空蒸鍍室外的人機界面控制盒、以及用于真空蒸鍍室內外電連接的真空電極法蘭；所述的測控主機的機架固設在絲桿滑臺的滑座上，所述的絲桿滑臺由步進電機驅動；所述的人機界面控制盒上設有控制測控主機沿金屬化薄膜膜幅面垂直橫向水平移動的左移操作按鈕、右移操作按鈕；所述的真空電極法蘭上設有供步進電機驅動線進出真空蒸鍍室內外的針電極。

進一步的，所述測控主機的機架呈長框架結構，與金屬化薄膜膜幅面呈垂直設置，用于安裝光源發射頭及光源接收頭，所述金屬化薄膜膜幅面位于光源發射頭與光源接收頭之間的框架內。

進一步的，所述絲桿滑臺通過連桿水平固定在蒸鍍室側壁上。

進一步的，所述真空電極法蘭包含有4針電極，分別用于電連接步進電機的A+、A-、B+、B-相線。

進一步的，所述步進電機的A+、A -、B+、B-相線輸入端通過接插母頭分別插入真空電極法蘭真空蒸鍍室內側的針電極上，由真空電極法蘭針電極電連接至真空蒸鍍室外側，再分別通過接插母頭插入真空電極法蘭真空蒸鍍室外側的針電極上，將步進電機的 A+、A-、B+、B-相線電連接至步進電機驅動器的輸出端子上。

優選的，所述的絲桿滑臺有效行程為200mm，絲桿滑臺帶動測控主機沿金屬化薄膜膜幅面垂直橫向水平左、右移動，可檢測整個膜幅面所涵蓋的鍍層方阻。