[發(fā)明專(zhuān)利]基板處理方法和基板處理裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810348854.7 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108735626B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 日野出大輝 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 株式會(huì)社斯庫(kù)林集團(tuán) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/67;H01L21/306 |
| 代理公司: | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋曉寶;向勇 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 方法 裝置 | ||
本發(fā)明提供一種基板處理方法和基板處理裝置。當(dāng)磷酸容器內(nèi)的磷酸水溶液的硅濃度達(dá)到規(guī)定濃度范圍的上限值時(shí),通過(guò)從磷酸容器排出磷酸水溶液和/或減少返回磷酸容器的磷酸水溶液的量,使磷酸容器內(nèi)的液量減少到規(guī)定液量范圍的下限值以下的值。當(dāng)磷酸容器內(nèi)的液量減少到規(guī)定液量范圍的下限值以下的值時(shí),通過(guò)向磷酸容器補(bǔ)充磷酸水溶液,使磷酸容器內(nèi)的液量增加到規(guī)定液量范圍內(nèi)的值,并且使磷酸容器內(nèi)的磷酸水溶液的硅濃度減低到規(guī)定濃度范圍內(nèi)的值。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及對(duì)基板進(jìn)行處理的基板處理方法和基板處理裝置。作為處理對(duì)象的基板,例如包括半導(dǎo)體晶片、液晶顯示裝置用基板、等離子顯示器用基板、FED(FieldEmission Display:場(chǎng)致發(fā)射顯示器)用基板、光盤(pán)用基板、磁盤(pán)用基板、光磁盤(pán)用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太陽(yáng)能電池用基板等。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體裝置或液晶顯示裝置等的制造工序中,使用對(duì)半導(dǎo)體晶片或液晶顯示裝置用玻璃基板等基板進(jìn)行處理的基板處理裝置。日本JP2016-32029A公開(kāi)了對(duì)基板一張一張地進(jìn)行處理的單張式基板處理裝置。
該基板處理裝置具備:旋轉(zhuǎn)卡盤(pán),一邊將基板保持為水平一邊旋轉(zhuǎn)基板;處理液噴嘴,向由旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)保持的基板噴出磷酸水溶液;以及杯,接收從基板甩掉的磷酸水溶液。在第一容器、第二容器和第三容器中貯存向基板供給的磷酸水溶液。
第一容器和第二容器貯存有基準(zhǔn)磷酸濃度和基準(zhǔn)硅濃度的磷酸水溶液。第一容器內(nèi)的磷酸水溶液從處理液噴嘴噴出,并供給至基板。第二容器內(nèi)的磷酸水溶液補(bǔ)充至第一容器。由此,將使第一容器內(nèi)的液量維持為恒定。從基板甩掉的磷酸水溶液由杯接收,并導(dǎo)向第三容器。
為了補(bǔ)充未能回收到第三容器的磷酸水溶液,向第三容器供給調(diào)整為規(guī)定的磷酸濃度的新的磷酸水溶液。由此,在三個(gè)容器中貯存的磷酸水溶液的總量維持為恒定。然后,將向第三容器供給的新的磷酸水溶液的硅濃度,以使第三容器內(nèi)的磷酸水溶液的硅濃度成為基準(zhǔn)硅濃度的方式進(jìn)行調(diào)整。當(dāng)?shù)诙萜鲀?nèi)的磷酸水溶液變少時(shí),向第一容器補(bǔ)充第三容器內(nèi)的磷酸水溶液,向基板供給的磷酸水溶液由第二容器回收。
在一邊抑制硅氧化膜的蝕刻,一邊蝕刻硅氮化膜的選擇蝕刻中,使含有于磷酸水溶液的硅的濃度維持在規(guī)定濃度范圍內(nèi),在穩(wěn)定和提高選擇比(硅氮化膜的蝕刻量/硅氧化膜的蝕刻量)方面重要。
另一方面,在單張式基板處理裝置中,不能全部回收向基板供給的全部的處理液。這是因?yàn)椋徊糠痔幚硪簹埩粲诨搴捅蛘哒舭l(fā)。在上述的日本JP2016-32029A中,為了使在三個(gè)容器中貯存的磷酸水溶液的總量維持為恒定,向第二容器或第三容器補(bǔ)充新的磷酸水溶液。而且,為了將第二容器或第三容器內(nèi)的磷酸水溶液的硅濃度調(diào)整為基準(zhǔn)硅濃度,變更補(bǔ)充的磷酸水溶液的硅濃度。
但是,上述的現(xiàn)有技術(shù)只是補(bǔ)充與不能回收的磷酸水溶液相當(dāng)?shù)牧康牧姿崴芤海⒉皇菫榱舜龠M(jìn)補(bǔ)充磷酸水溶液,而有意地減少磷酸水溶液的總量。因此,在上述的現(xiàn)有技術(shù)中,不能變更補(bǔ)充磷酸水溶液的時(shí)刻或磷酸水溶液的補(bǔ)充量。
發(fā)明內(nèi)容
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H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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