[發明專利]電光學裝置、顯示裝置在審
| 申請號: | 201810329119.1 | 申請日: | 2018-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN108732844A | 公開(公告)日: | 2018-11-02 |
| 發明(設計)人: | 加藤惠介 | 申請(專利權)人: | 斯坦雷電氣株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/155 | 分類號: | G02F1/155 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 龐東成;孟偉青 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電極 電光學裝置 表面粗糙度Ra 電解質層 顯示裝置 第1基板 反射型顯示裝置 表面粗糙度 電沉積材料 凹凸形狀 對置配置 第2基板 可見性 配置 | ||
本發明涉及電光學裝置、顯示裝置,提供一種能夠適當地用作可見性優異的反射型顯示裝置的電光學裝置。本發明的電光學裝置包含:在一面側具有第1電極的第1基板、在一面側具有第2電極且與第1基板對置配置的第2基板、以及含有電沉積材料且被配置在第1電極與第2電極之間的電解質層,第1電極和第2電極分別在與電解質層相接的一面側具有凹凸形狀,第1電極的一面側的表面粗糙度Ra為0.4μm以上,第2電極的一面側的表面粗糙度Ra為0.02μm以上、且為相對小于第1電極的表面粗糙度的值。
技術領域
本發明涉及使用電致變色材料構成的電光學裝置等。
背景技術
在例如國際公開第2012/118188號(專利文獻1)中公開了與使用電致變色材料構成的電光學裝置相關的現有技術。該專利文獻1中公開的裝置在各自具有電極的透明基板間配置電解質層,在任一透明基板的電極的表面設置微細的凹凸,另一透明基板的電極表面是平滑的。于是,在電極間施加電壓時,在一個電極,電解質層的銀離子被還原而以銀膜形式析出,若解除電壓則銀膜再度以銀離子形式溶解。此時,在平滑表面的電極上析出銀膜的情況下,該電極的表面呈鏡面狀態并反射入射光。另外,在微細凹凸表面的電極上析出銀膜的情況下,在該電極的表面入射光發生漫反射,從而外觀上呈黑色狀態。另外,在電極間不施加電壓的情況下呈透明狀態。
另外,在研究將上述專利文獻1中公開的裝置用作反射型顯示裝置的情況下,具有以下的不利狀況。例如考慮將電極圖案化成任意的形狀來構成顯示部的情況。此時,若銀膜在具有微細凹凸的電極析出,則在與該電極對應的部分能夠實現黑色顯示,但由于該部分的周圍呈透明狀態(光透過狀態),因而對比度低,從而可能產生可見性低之類的不利狀況。針對該不利狀況,例如還考慮了通過在任一透明基板的背面配置散射版,使透過了非顯示部分的光散射、使對比度提高的情況。但是,在這種情況下,由于在非顯示狀態下散射版始終可見,因而得不到透明狀態,從而在擴大作為顯示裝置的用途這一方面并不優選。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:國際公開第2012/118188號
發明內容
發明所要解決的課題
本發明的具體方式的目的之一在于提供一種電光學裝置,其能夠適合用作可見性優異的反射型顯示裝置。
解決課題的手段
本發明的一個方式的電光學裝置包含:(a)第1基板,其在一面側具有第1電極;(b)第2基板,其在一面側具有第2電極,與上述第1基板對置配置;以及(c)電解質層,其含有電沉積材料,被配置在上述第1電極與上述第2電極之間;(d)上述第1電極和上述第2電極分別在與上述電解質層相接的一面側具有凹凸形狀;(e)上述第1電極的一面側的表面粗糙度Ra為0.4μm以上;(f)上述第2電極的一面側的表面粗糙度Ra為0.02μm以上、且為比上述第1電極的表面粗糙度相對小的值。
利用上述構成,通過在第1電極與第2電極之間適宜地施加電壓,能夠自由地切換白色狀態、黑色狀態和透明狀態,從而能夠得到一種新型的電光學裝置,其在例如作為顯示裝置使用的情況下,圖像的可見性優異,且在非使用時呈透明狀態,視野不會受到阻礙。
附圖說明
圖1是示出第1實施方式的電光學裝置的構成的示意性截面圖。
圖2是用于詳細說明第1電極的構成的示意性截面圖。
圖3是用于詳細說明第2電極的構成的示意性截面圖。
圖4是用于說明電光學裝置的工作原理的示意性截面圖。
圖5是示出實施例的電光學裝置中的第1電極的表面處理狀態的觀察圖像的圖。
圖6是示出實施例的電光學裝置的第1電極中的相對反射亮度與表面粗糙度的關系的圖。
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