[發明專利]電光學裝置、顯示裝置在審
| 申請號： | 201810329119.1 | 申請日： | 2018-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN108732844A | 公開（公告）日： | 2018-11-02 |
| 發明（設計）人： | 加藤惠介 | 申請（專利權）人： | 斯坦雷電氣株式會社 |
| 主分類號： | G02F1/155 | 分類號： | G02F1/155 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 龐東成;孟偉青 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 電極 電光學裝置 表面粗糙度Ra 電解質層 顯示裝置 第1基板 反射型顯示裝置 表面粗糙度 電沉積材料 凹凸形狀 對置配置 第2基板 可見性 配置 | ||
【權利要求書】：
1.一種電光學裝置，其中，
該裝置包含：
第1基板，其在一面側具有第1電極；
第2基板，其在一面側具有第2電極，與所述第1基板對置配置；以及
電解質層，其含有電沉積材料，被配置在所述第1電極與所述第2電極之間；
所述第1電極和所述第2電極分別在與所述電解質層相接的一面側具有凹凸形狀；
所述第1電極的一面側的表面粗糙度Ra為0.4μm以上；
所述第2電極的一面側的表面粗糙度Ra為0.02μm以上、且為相對小于所述第1電極的表面粗糙度的值。
2.如權利要求1所述的電光學裝置，其中，在所述第1電極的一面側由所述電解質層的含有成分析出的金屬膜為沿著所述第1電極的所述凹凸形狀的形狀。
3.如權利要求1或2所述的電光學裝置，其中，在所述第2電極的一面側由所述電解質層的含有成分析出的金屬膜為樹枝狀的形狀。
4.如權利要求1～3中任一項所述的電光學裝置，其中，所述第2電極在所述一面側具有金屬納米顆粒層。
5.一種顯示裝置，其包含權利要求1～4中任一項所述的電光學裝置來構成。
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