[發(fā)明專利]一種金剛石涂層的制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810310823.2
• 申請日: 2018-04-09
• 公開（公告）號: CN108411278A
• 公開（公告）日: 2018-08-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳乃超;陳英超;劉木森;李成;艾俊
• 申請（專利權(quán)）人: 上海電力學(xué)院
• 主分類號: C23C16/27
• 分類號: C23C16/27;C23C16/44
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司 31001
• 代理人: 吳寶根

1.一種金剛石涂層的制備方法，其特征在于包括如下步驟：

1）一個(gè)對基體表面進(jìn)行預(yù)處理的步驟；

首先對基體表面進(jìn)行超聲波處理，將基體依次放入到去離子水、乙醇和丙酮溶液中超聲清洗5~15分鐘，待清洗完成后，將基體烘干；

2）將基體放置在CVD實(shí)驗(yàn)臺反應(yīng)臺上，將需要嵌入的質(zhì)地較軟的納米固體顆粒放置在基體表面上，納米固體顆粒均勻分布在基體表面；所述的固體顆粒材料的硬度低于基體材料的硬度；

3）一個(gè)制備金剛石涂層的步驟，設(shè)置CVD金剛石涂層的制備參數(shù)，參數(shù)如下：

形核階段：反應(yīng)壓力-99.7kPa、氫氣流量240sccm、碳源流量100sccm；

生長階段：生長MCD涂層時(shí)，反應(yīng)壓力-97.3KPa、氫氣流量240sccm、碳源流量80sccm、氬氣流量150sccm；生長NCD涂層時(shí)，反應(yīng)壓力-100.1kPa、氫氣流量240sccm、碳源流量90sccm、氬氣流量150sccm；

制備涂層期間，用四根鉭絲作為加熱源，鉭絲之間相互間隔為20cm，鉭絲距基體表面為16cm；形核階段，加熱功率為5800W，時(shí)間為30min；生長階段，加熱功率為6000W，時(shí)間為6小時(shí)；

在含有納米固體顆粒的基體表面上制備出金剛石涂層，所述的金剛石涂層的厚度超過放置在基體表面納米固體顆粒的厚度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金剛石涂層的制備方法，其特征在于：所述的基體的材料為氮化硅。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金剛石涂層的制備方法，其特征在于：所述的納米固體顆粒為納米碳化鎢。