[發(fā)明專利]一種金剛石涂層的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810310823.2 | 申請日: | 2018-04-09 |
| 公開(公告)號: | CN108411278A | 公開(公告)日: | 2018-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳乃超;陳英超;劉木森;李成;艾俊 | 申請(專利權(quán))人: | 上海電力學(xué)院 |
| 主分類號: | C23C16/27 | 分類號: | C23C16/27;C23C16/44 |
| 代理公司: | 上海申匯專利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吳寶根 |
| 地址: | 200090 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金剛石涂層 基體表面 制備 納米固體顆粒 質(zhì)地 制備金剛石涂層 固體顆粒材料 預(yù)處理 外界沖擊力 基體材料 外界作用 整體品質(zhì) 嵌入的 實(shí)驗(yàn)臺 吸收 | ||
1.一種金剛石涂層的制備方法,其特征在于包括如下步驟:
1)一個(gè)對基體表面進(jìn)行預(yù)處理的步驟;
首先對基體表面進(jìn)行超聲波處理,將基體依次放入到去離子水、乙醇和丙酮溶液中超聲清洗5~15分鐘,待清洗完成后,將基體烘干;
2)將基體放置在CVD實(shí)驗(yàn)臺反應(yīng)臺上,將需要嵌入的質(zhì)地較軟的納米固體顆粒放置在基體表面上,納米固體顆粒均勻分布在基體表面;所述的固體顆粒材料的硬度低于基體材料的硬度;
3)一個(gè)制備金剛石涂層的步驟,設(shè)置CVD金剛石涂層的制備參數(shù),參數(shù)如下:
形核階段:反應(yīng)壓力-99.7kPa、氫氣流量240sccm、碳源流量100sccm;
生長階段:生長MCD涂層時(shí),反應(yīng)壓力-97.3KPa、氫氣流量240sccm、碳源流量80sccm、氬氣流量150sccm;生長NCD涂層時(shí),反應(yīng)壓力-100.1kPa、氫氣流量240sccm、碳源流量90sccm、氬氣流量150sccm;
制備涂層期間,用四根鉭絲作為加熱源,鉭絲之間相互間隔為20cm,鉭絲距基體表面為16cm;形核階段,加熱功率為5800W,時(shí)間為30min;生長階段,加熱功率為6000W,時(shí)間為6小時(shí);
在含有納米固體顆粒的基體表面上制備出金剛石涂層,所述的金剛石涂層的厚度超過放置在基體表面納米固體顆粒的厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金剛石涂層的制備方法,其特征在于:所述的基體的材料為氮化硅。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金剛石涂層的制備方法,其特征在于:所述的納米固體顆粒為納米碳化鎢。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





