[發(fā)明專利]LED芯片及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810306935.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108321274A | 公開(公告)日: | 2018-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李慶;劉佳擎;張振 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 聚燦光電科技(宿遷)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/42 | 分類號(hào): | H01L33/42;H01L33/40;H01L33/10;H01L33/00 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 沈曉敏 |
| 地址: | 223800 江蘇省宿遷市經(jīng)濟(jì)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透明導(dǎo)電層 鈍化層 開槽 襯底 外延結(jié)構(gòu) 漫反射 出射 制造 發(fā)光 | ||
本發(fā)明揭示了一種LED芯片及其制造方法,LED芯片包括襯底及位于襯底上的LED外延結(jié)構(gòu),LED芯片還包括位于外延結(jié)構(gòu)上方的透明導(dǎo)電層及鈍化層,透明導(dǎo)電層及鈍化層的至少其中之一上具有若干開槽。本發(fā)明的透明導(dǎo)電層和/或鈍化層具有開槽,開槽可以改變光的出射角度,提高光的漫反射幾率,進(jìn)而提升LED芯片的發(fā)光亮度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體發(fā)光器件技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種LED芯片及其制造方法。
背景技術(shù)
發(fā)光二極管(Light-EmittingDiode,LED)是一種能發(fā)光的半導(dǎo)體電子元件。這種電子元件早在1962年出現(xiàn),早期只能發(fā)出低光度的紅光,之后發(fā)展出其他單色光的版本,時(shí)至今日能發(fā)出的光已遍及可見光、紅外線及紫外線,光度也提高到相當(dāng)?shù)墓舛取6猛疽灿沙鯐r(shí)作為指示燈、顯示板等;隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步,發(fā)光二極管已被廣泛的應(yīng)用于顯示器、電視機(jī)采光裝飾和照明。
目前,實(shí)現(xiàn)高亮度LED的關(guān)鍵包括IQE&EQE,GaN基體LED器件的內(nèi)部量子效率,取決于外延層的晶體結(jié)構(gòu);外部量子效率取決于制程端的光提取效率。
由于GaN自身及外部界面造成的高折射率會(huì)引發(fā)光子重新吸收的反效應(yīng),LED器件的光提取效率一直不高。
現(xiàn)有技術(shù)中,ITO(銦錫金屬氧化物)作為LED芯片常用的透明導(dǎo)電薄膜,具有很好的導(dǎo)電性和高透過率,但是ITO處于平面結(jié)構(gòu),光子在出光界面很容易產(chǎn)生全反射,一定程度上降低了光提取效率。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種LED芯片及其制造方法。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的之一,本發(fā)明一實(shí)施方式提供一種LED芯片,包括襯底及位于所述襯底上的LED外延結(jié)構(gòu),所述LED芯片還包括位于所述外延結(jié)構(gòu)上方的透明導(dǎo)電層及鈍化層,所述透明導(dǎo)電層及所述鈍化層的至少其中之一上具有若干開槽。
作為本發(fā)明一實(shí)施方式的進(jìn)一步改進(jìn),所述透明導(dǎo)電層上具有第一開槽,所述鈍化層上具有第二開槽。
作為本發(fā)明一實(shí)施方式的進(jìn)一步改進(jìn),所述第一開槽與所述第二開槽相互錯(cuò)開設(shè)置。
作為本發(fā)明一實(shí)施方式的進(jìn)一步改進(jìn),所述第一開槽和/或所述第二開槽為周期性半球狀開槽。
作為本發(fā)明一實(shí)施方式的進(jìn)一步改進(jìn),所述第一開槽的深度小于所述透明導(dǎo)電層的厚度。
作為本發(fā)明一實(shí)施方式的進(jìn)一步改進(jìn),所述LED芯片包括位于所述LED外延結(jié)構(gòu)中P電極區(qū)域上方的P電極和N電極區(qū)域上方的N電極,所述透明導(dǎo)電層至少覆蓋除所述P電極以外的所述P電極區(qū)域,所述鈍化層覆蓋除所述P電極、所述N電極以外的所述P電極區(qū)域、所述N電極區(qū)域。
作為本發(fā)明一實(shí)施方式的進(jìn)一步改進(jìn),所述LED芯片還包括至少位于所述透明導(dǎo)電層及所述P電極區(qū)域之間的電流阻擋層。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的之一,本發(fā)明一實(shí)施方式提供一種LED芯片的制造方法,包括步驟:
提供一襯底;
于所述襯底上形成LED外延結(jié)構(gòu);
于所述LED外延結(jié)構(gòu)上依次生長透明導(dǎo)電層及鈍化層,所述透明導(dǎo)電層及所述鈍化層的至少其中之一上具有若干開槽。
作為本發(fā)明一實(shí)施方式的進(jìn)一步改進(jìn),步驟“于所述LED外延結(jié)構(gòu)上依次生長透明導(dǎo)電層及鈍化層”具體包括:
于所述LED外延結(jié)構(gòu)上生長透明導(dǎo)電層;
于所述透明導(dǎo)電層上形成第一開槽;
于所述透明導(dǎo)電層上形成鈍化層;
于所述鈍化層上形成第二開槽。
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