[發明專利]一種光敏樹脂BCB的固化方法有效
| 申請號: | 201810305879.9 | 申請日: | 2018-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN108717933B | 公開(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發明(設計)人: | 郭明瑋;劉志鋒;祝希;許海明 | 申請(專利權)人: | 湖北光安倫芯片有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/56 | 分類號: | H01L21/56 |
| 代理公司: | 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228 | 代理人: | 胡建文 |
| 地址: | 436000 湖北省鄂州市葛店*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光敏 樹脂 bcb 固化 方法 | ||
本發明屬于半導體芯片制造技術領域,具體涉及一種光敏樹脂BCB的固化方法,包括如下步驟:1)在外延片表面上涂覆光敏BCB膠,采用光刻的方法在外延片表面形成光敏BCB膠圖形;2)采用等離子體反應刻蝕處理外延片表面的光敏BCB膠;3)將刻蝕后的外延片放入退火爐中,通入H2和Ar的混合氣體保護,采用多級升溫保溫的方式從50℃升至275℃,并在275℃保溫2h;4)隨后增大通入的H2和Ar的混合氣體的流量,迅速將退火爐的溫度降至室溫,停止通入H2和Ar的混合氣體,完成固化。本發明提供的光敏樹脂BCB的固化方法采用多級升溫保溫的方式,使BCB聚合反應更加充分;并在退火時采用H2和Ar的混合氣體取代傳統N2作為保護氣體,降低了氧化老化的可能性,提高BCB質量。
技術領域
本發明屬于半導體芯片制造技術領域,特別是高端產品中高速率、高頻率芯片部分,具體涉及一種光敏樹脂BCB的固化方法,用于芯片鈍化層和填充層制作。
背景技術
半導體芯片加工過程中,隨著頻率和速率的提高,如微電子加工領域,高速通信領域,對芯片尺寸大小、寄生效應參數、可靠性、絕緣性等要求越來越高。傳統的加工鈍化方式,已經不能滿足高端產品的要求,迫切需要一種能滿足高端芯片產品加工的材料出現。而BCB(苯并環丁烯)就是滿足各種要求的良好性能材料,該光敏光刻膠具有介電常數低的特點,ε在2.65左右,低于SiNx、SiO2等常規的介質膜,同時具有良好的絕緣性,擊穿電壓在5.3MV/cm,是高可靠性鈍化材料的,這兩項關鍵參數優于其他材料。但另一方面,BCB加工工藝還需要優化,現有的技術導致BCB各方面性能沒有達到最優化狀態。
現有BCB加工采用光刻曝光,將一定的圖案印在芯片上,顯影后,直接通入N2升溫退火的辦法固化。退火后存在BCB存在可靠性偏低問題,壽命低,膠體分層現象嚴重,器件長期壽命較短,失效率高,芯片器件與BCB膠粘附能力下降,內部雜質的出現更是加快了BCB膠使用過程中的裂化等問題。傳統BCB光敏光刻膠,加工后,采用N2退火技術,由于退火爐體潔凈程度限制,N2中可能會有殘存氧,會造成加工的固有BCB微量氧化,加速其老化影響其性能;同時,過快的升溫速率,則使得BCB單體反應在未充分聚合時,達到高溫發生副反應,進一步裂化了原有BCB產品。
發明內容
本發明的目的在于克服現有技術之缺陷,提供了一種新的光敏樹脂BCB的固化方法,能夠提高光敏BCB膠形成后質量,解決傳統方法帶來的器件BCB相關失效問題,進而提高芯片整體性能。
為了實現上述目的,本發明提供一種光敏樹脂BCB的固化方法,包括如下步驟:
1)在外延片表面上涂覆光敏BCB膠,采用光刻的方法在外延片表面形成光敏BCB膠圖形;
2)采用等離子體反應刻蝕處理外延片表面的光敏BCB膠;
3)將刻蝕后的外延片放入退火爐中,通入H2和Ar的混合氣體保護,采用多級升溫保溫的方式從50℃升至275℃,并在275℃保溫2h;
4)隨后增大通入的H2和Ar的混合氣體的流量,迅速將退火爐的溫度降至室溫,停止通入H2和Ar的混合氣體,完成固化。
進一步地,所述步驟3)中在多級升溫保溫過程中通入的H2和Ar的混合氣體中H2的流量為60sccm,Ar的流量為40sccm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





