[發明專利]一種制備層層自主裝法制備新型聚電解質/金屬有機框架化合物混合基質納濾膜方法

有效

• 申請號: 201810304297.9
• 申請日: 2018-04-08
• 公開（公告）號: CN108579423B
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發明（設計）人: 程喜全;王凱;王忠祥;肖明珍;劉陵瑞;張瑛潔
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學（威海）;哈工大（威海）創新創業園有限責任公司
• 主分類號: B01D61/02
• 分類號: B01D61/02;B01D67/00;B01D69/12
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 岳泉清;牟永林

1.一種制備層層自主裝法制備新型聚電解質/金屬有機框架化合物混合基質納濾膜方法，按以下步驟實現：

步驟一、聚丙烯腈基膜依次用NaOH溶液、HCl溶液處理，再用去離子水清洗；

步驟二、然后置于聚陽離子水溶液中組裝，再用去離子水反復清洗；

步驟三、然后置于聚陰離子水溶液中組裝，再用去離子水反復清洗；

步驟四、依次重復步驟二、步驟三的操作若干次；

步驟五、然后用交聯劑加熱交聯處理，即得到納濾膜；

其中，步驟三中聚陰離子水溶液是由聚陰離子電解質和UiO-66封端聚電解質配制的；

步驟三中聚陰離子電解質濃度為0.05wt.％～5wt.％，UiO-66封端聚電解質濃度為0.01wt.％～1wt.％；

步驟二中聚陽離子水溶液濃度為0.05wt.％～5wt.％；

步驟二中聚陽離子水溶液浸泡時間為3～30min；步驟三中聚陰離子水溶液浸泡時間為3～30min；

步驟三中所采用的聚陰離子為聚丙烯酸、聚丙烯酸鈉、聚甲基丙烯酸、聚乙烯磺酸、(2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸)類聚合物中的一種；

步驟二中所采用的聚陽離子為聚二甲基二烯丙基氯化銨、丙烯酰胺-二甲基二烯丙基氯化銨-丙烯酸丁酯共聚物、陽離子型聚丙烯酰胺、聚胺、高取代度的陽離子淀粉中的一種。

2.根據權利要求1所述的一種制備層層自主裝法制備新型聚電解質/金屬有機框架化合物混合基質納濾膜方法，其特征在于步驟一中NaOH濃度為1wt.％～10wt.％，處理時間為0.5～6h。

3.根據權利要求1所述的一種制備層層自主裝法制備新型聚電解質/金屬有機框架化合物混合基質納濾膜方法，其特征在于步驟一中HCl濃度為0.05mol·L^-1～0.5mol·L^-1，處理時間為0.5～6h。

4.根據權利要求1所述的一種制備層層自主裝法制備新型聚電解質/金屬有機框架化合物混合基質納濾膜方法，其特征在于步驟四中依次重復步驟二、步驟三的操作1～50次。

5.根據權利要求1所述的一種制備層層自主裝法制備新型聚電解質/金屬有機框架化合物混合基質納濾膜方法，其特征在于步驟五中交聯溫度為20～80℃，交聯時間為0～5h。