[發(fā)明專利]一種共晶機(jī)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810287802.3 | 申請日: | 2018-04-03 |
| 公開(公告)號: | CN108257897A | 公開(公告)日: | 2018-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鐘銳;徐歡;卡塔琳娜·費(fèi)舍爾 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江辛帝亞自動化科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/68;H01L21/60 |
| 代理公司: | 浙江杭州金通專利事務(wù)所有限公司 33100 | 代理人: | 王麗丹 |
| 地址: | 314400 浙江省嘉興市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 共晶 吸嘴 上下料系統(tǒng) 管座 精密 頂針 托盤 頂針系統(tǒng) 控制系統(tǒng) 芯片拾取 固定環(huán) 滑臺 熱沉 雙晶 圓臺 芯片 多軸運(yùn)動控制 整機(jī)控制系統(tǒng) 機(jī)臺 攝像頭 產(chǎn)品良率 調(diào)節(jié)系統(tǒng) 夾爪氣缸 視覺定位 輸送裝置 校準(zhǔn)系統(tǒng) 芯片托盤 運(yùn)動組件 組件包括 頂針帽 加熱棒 滑軌 夾爪 模組 氣缸 電機(jī) 自動化 生產(chǎn)能力 配合 | ||
1.一種共晶機(jī),包括機(jī)臺和整機(jī)控制系統(tǒng),其特征在于:所述機(jī)臺上設(shè)有上下料系統(tǒng)(1)、共晶臺(2)、雙晶圓臺(3)、芯片拾取控制系統(tǒng)(4)和芯片校準(zhǔn)系統(tǒng)(5),所述上下料系統(tǒng)(1)包括管座托盤(6)、吸嘴(7)、氣缸(8)、滑軌(9)、線性精密XY滑臺(10)和控制線性精密XY滑臺(10)的電機(jī),所述吸嘴(7)通過氣缸(8)和滑軌(9)實現(xiàn)上下運(yùn)動,所述吸嘴(7)上方設(shè)有光電感應(yīng)件(11)和光電開關(guān)(12);所述共晶臺(2)包括將管座從上下料系統(tǒng)輸送至共晶臺的輸送裝置、手指吸嘴(13)、共晶座(14)、管座夾爪(15)、夾爪氣缸(16)和加熱棒(17),所述加熱棒(17)處設(shè)有熱敏傳感器(21);所述雙晶圓臺包括熱沉托盤固定環(huán)(27)、芯片托盤固定環(huán)(28)、頂針系統(tǒng)組件(29)和線性精密XY模組(30),所述頂針系統(tǒng)組件(29)包括頂針(31)、頂針帽(32)和頂針調(diào)節(jié)系統(tǒng),所述頂針帽(32)下設(shè)有抽真空管(33);所述芯片拾取控制系統(tǒng)包括熱沉吸嘴(36)、芯片吸嘴(37)、運(yùn)動組件(38)和攝像頭(39);所述芯片校準(zhǔn)系統(tǒng)包括芯片校準(zhǔn)臺(40)、下攝像頭(41)和芯片校準(zhǔn)控制系統(tǒng),所述芯片校準(zhǔn)臺(40)上設(shè)有可吸住芯片的小孔,所述小孔與真空吸管(42)連通。
2.如權(quán)利要求1所述的共晶機(jī),其特征在于:所述共晶座(14)前側(cè)設(shè)有壓縮彈簧(18),后側(cè)設(shè)有氮?dú)庑】祝?9)和空氣小孔(20)。
3.如權(quán)利要求1所述的共晶機(jī),其特征在于:所述輸送裝置包括氣動滑臺(22)、水平氣缸(23)、轉(zhuǎn)軸(24)、連桿(25)和調(diào)節(jié)螺絲(26)。
4.如權(quán)利要求1所述的共晶機(jī),其特征在于:所述加熱棒(17)加熱溫度為380~450℃。
5.如權(quán)利要求1所述的共晶機(jī),其特征在于:所述頂針調(diào)節(jié)系統(tǒng)包括導(dǎo)向臺(34)和惰輪(35),實現(xiàn)頂針帽(32)向上或向下。
6.如權(quán)利要求1所述的共晶機(jī),其特征在于:所述熱沉吸嘴(36)和芯片吸嘴(37)運(yùn)動重復(fù)精度為:XY 小于正負(fù) 4 微米,θ小于 0.1 度。
7.如權(quán)利要求1所述的共晶機(jī),其特征在于:所述芯片校準(zhǔn)控制系統(tǒng)包括線性XY滑臺(43)及控制線性XY滑臺(43)的伺服電機(jī)(44),所述線性XY滑臺(43)上設(shè)有支撐臂(45)用于支撐和調(diào)節(jié)芯片校準(zhǔn)臺(40)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





