[發(fā)明專利]一種二維相交測(cè)線靜校正處理方法、裝置及系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810282210.2
• 申請(qǐng)日: 2018-04-02
• 公開（公告）號(hào): CN108828669B
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 呂景峰;王乃建;陳學(xué)強(qiáng);閆智慧;蘇歡歡;段孟川
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國石油天然氣集團(tuán)有限公司;中國石油集團(tuán)東方地球物理勘探有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G01V1/36
• 分類號(hào): G01V1/36
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝

本申請(qǐng)實(shí)施例公開了一種二維相交測(cè)線靜校正處理方法、裝置及系統(tǒng)，所述方法包括獲取目標(biāo)工區(qū)內(nèi)二維相交測(cè)線的表層構(gòu)造參數(shù)數(shù)據(jù)，所述表層構(gòu)造參數(shù)包括：高速頂界面高程以及風(fēng)化層速度；計(jì)算所述相交測(cè)線的交點(diǎn)處兩條測(cè)線的表層構(gòu)造參數(shù)的差值；根據(jù)所述表層構(gòu)造參數(shù)的差值對(duì)所述相交測(cè)線的表層構(gòu)造參數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正處理；根據(jù)修正后的表層構(gòu)造參數(shù)數(shù)據(jù)確定所述二維相交測(cè)線的基準(zhǔn)面靜校正量。利用本申請(qǐng)各個(gè)實(shí)施例，可以簡(jiǎn)單高效地解決二維相交測(cè)線交點(diǎn)處靜校正閉合的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及地球物理勘探技術(shù)領(lǐng)域，特別地，涉及一種二維相交測(cè)線靜校正處理方法、裝置及系統(tǒng)。

背景技術(shù)

關(guān)于二維相交測(cè)線的靜校正閉合問題，目前通常采用表層模型靜校正方法、偽三維折射/層析反演靜校正方法以及分頻靜校正方法，但這些方法從時(shí)效性方面考慮，都存在著一定的缺陷。

例如，表層模型靜校正方法需在測(cè)線交點(diǎn)位置處額外再布設(shè)表層調(diào)查控制點(diǎn)，根據(jù)其解釋結(jié)果，在相交的測(cè)線上分別應(yīng)用并內(nèi)插建模，以解決相交測(cè)線的靜校正量閉合問題。但該種方法增加了野外的表層調(diào)查工作量、勘探成本，同時(shí)還影響了生產(chǎn)效率。而由于二維地震勘探主要用于區(qū)域構(gòu)造勘探，一般測(cè)線跨度較大，工區(qū)面積往往為幾千甚至是上萬平方公里，在這種情況下，采用偽三維折射/層析反演法開展靜校正計(jì)算，計(jì)算周期較長(zhǎng)，時(shí)效性較差。分頻靜校正方法對(duì)于某些特殊地區(qū)(如巨厚戈壁礫石區(qū)或者黃土塬區(qū))，可能存在能夠引起構(gòu)造畸變的長(zhǎng)波長(zhǎng)靜校正問題。

因此，在二維勘探過程中，尤其是復(fù)雜地表區(qū)的二維勘探過程中，急需一種能有效解決二維相交測(cè)線交點(diǎn)處靜校正量閉合的方法。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)實(shí)施例的目的在于提供一種二維相交測(cè)線靜校正處理方法、裝置及系統(tǒng)，可以簡(jiǎn)單高效地解決二維相交測(cè)線交點(diǎn)處靜校正閉合的問題。

本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N二維相交測(cè)線靜校正處理方法、裝置及系統(tǒng)是通過包括以下方式實(shí)現(xiàn)的：

一種二維相交測(cè)線靜校正處理方法，包括：

獲取目標(biāo)工區(qū)內(nèi)二維相交測(cè)線的表層構(gòu)造參數(shù)數(shù)據(jù)，所述表層構(gòu)造參數(shù)包括：高速頂界面高程以及風(fēng)化層速度；

計(jì)算所述相交測(cè)線的交點(diǎn)處兩條測(cè)線的表層構(gòu)造參數(shù)的差值；

根據(jù)所述表層構(gòu)造參數(shù)的差值對(duì)所述相交測(cè)線的表層構(gòu)造參數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正處理；

根據(jù)修正后的表層構(gòu)造參數(shù)數(shù)據(jù)確定所述二維相交測(cè)線的基準(zhǔn)面靜校正量。

本申請(qǐng)實(shí)施例的二維相交測(cè)線靜校正處理方法，所述對(duì)所述相交測(cè)線的表層構(gòu)造參數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正處理，包括：

以所述相交測(cè)線的交點(diǎn)為中心，向相交測(cè)線的兩端分別延伸預(yù)設(shè)距離確定預(yù)設(shè)修正范圍；

對(duì)所述預(yù)設(shè)修正范圍內(nèi)的所述相交測(cè)線的表層構(gòu)造參數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正處理。

本申請(qǐng)實(shí)施例的二維相交測(cè)線靜校正處理方法，所述對(duì)所述相交測(cè)線的表層構(gòu)造參數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正處理，包括：

判斷測(cè)線的表層構(gòu)造參數(shù)是否固定，如果是，則相應(yīng)的測(cè)線不進(jìn)行修正處理。

本申請(qǐng)實(shí)施例的二維相交測(cè)線靜校正處理方法，所述方法還包括：

根據(jù)所述基準(zhǔn)面靜校正量進(jìn)行折射波剩余靜校正計(jì)算獲得剩余靜校正量；

根據(jù)所述基準(zhǔn)面靜校正量與剩余靜校正量的和確定總靜校正量；

根據(jù)所述基準(zhǔn)面靜校正量的低頻分量以及總靜校正量的高頻分量對(duì)所述二維相交測(cè)線進(jìn)行靜校正處理。

另一方面，本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種二維相交測(cè)線靜校正處理裝置，包括：