[發明專利]光阻涂覆性能的檢測方法在審
| 申請號： | 201810272335.7 | 申請日： | 2018-03-29 |
| 公開（公告）號： | CN108508014A | 公開（公告）日： | 2018-09-07 |
| 發明（設計）人： | 李華青;劉智敏 | 申請（專利權）人： | 武漢新芯集成電路制造有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/84 | 分類號： | G01N21/84;G01N21/88;G01N21/956 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 襯底 光阻 灰階度 涂覆 光刻機 檢測 涂覆性能 一階 倒數 產品報廢 對準系統 一階求導 工藝流程 良率 曝光 | ||
1.一種光阻涂覆性能的檢測方法，其特征在于，所述光阻涂覆性能的檢測方法包括：
提供襯底，所述襯底上涂覆有光阻，所述襯底中形成有圖形；
將所述襯底放置進光刻機中，所述光刻機的對準系統檢測所述圖形的灰階度，得到所述圖形的灰階度波形；
對所述灰階度波形進行一階求導，以獲取所述灰階度波形的一階倒數波形；
根據所述一階倒數波形得到所述襯底的對比度，通過比較所述襯底的對比度與一閾值的大小以判斷所述襯底上涂覆的光阻是否合格。
2.如權利要求1所述的光阻涂覆性能的檢測方法，其特征在于，根據所述一階倒數波形得到所述襯底的對比度的方法包括：
獲取所述一階倒數波形中每個峰的波峰值及波谷值；
根據所述波峰值及波谷值得到所述每個峰的對比度；
獲取所述一階倒數波形中所有峰的對比度的平均值，得到所述襯底的對比度。
3.如權利要求2所述的光阻涂覆性能的檢測方法，其特征在于，根據所述波峰值及波谷值得到所述每個峰的對比度的公式如下：
Ci＝(Imax-Imin)/(Imax+Imin)；
其中，Ci為第i個峰的對比度，i為大于0的整數，Imax為第i個峰的波峰值，Imin為第i個峰的波谷值。
4.如權利要求3所述的光阻涂覆性能的檢測方法，其特征在于，當所述襯底的對比度小于所述閾值時，所述襯底上涂覆的光阻合格；當所述襯底的對比度大于等于所述閾值時，所述襯底上涂覆的光阻不合格。
5.如權利要求1所述的光阻涂覆性能的檢測方法，其特征在于，采用旋涂工藝在所述襯底上形成所述光阻。
6.如權利要求1所述的光阻涂覆性能的檢測方法，其特征在于，所述圖形為形成于所述襯底中的對準標記。
7.如權利要求6所述的光阻涂覆性能的檢測方法，其特征在于，所述對準標記的數量為多個，并且，所述對準標記的數量為所述一階倒數波形中波峰值數量的一半。
8.如權利要求7所述的光阻涂覆性能的檢測方法，其特征在于，所述對準標記的形狀為十字形或長條形。
9.如權利要求1所述的光阻涂覆性能的檢測方法，其特征在于，所述襯底的對比度在12％～35％之間。
10.如權利要求1所述的光阻涂覆性能的檢測方法，其特征在于，所述襯底為硅襯底、鍺襯底、鍺硅襯底或絕緣體上的硅襯底中的至少一種。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢新芯集成電路制造有限公司，未經武漢新芯集成電路制造有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810272335.7/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
