[發(fā)明專利]一種柔性紫外光探測器及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810268718.7 | 申請日: | 2018-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN108630766B | 公開(公告)日: | 2020-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊伯儒;張偉;許鈺旺;翁明;李京周;柳成林 | 申請(專利權(quán))人: | 佛山市順德區(qū)中山大學(xué)研究院;廣東順德中山大學(xué)卡內(nèi)基梅隆大學(xué)國際聯(lián)合研究院;中山大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/0264;H01L31/102;H01L31/18;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 左恒峰 |
| 地址: | 528399 廣東省佛山市順德區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 柔性 紫外光 探測器 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種紫外光探測器,包括有源層、電極層和襯底,襯底采用柔性材料制成,電極層采用金屬納米線制成,制成的紫外光探測器耐彎折性較好,擴大了使用的范圍;本發(fā)明的一種紫外光探測器的制備方法,運用光敏化合物的特性進(jìn)行圖案的刻蝕,相比于傳統(tǒng)的激光刻蝕和黃光刻蝕而言,本發(fā)明的方法不需要昂貴的刻蝕設(shè)備,成本較低,并且制作過程簡單,不會產(chǎn)生化學(xué)廢液,因此效率更高并且也較為環(huán)保。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光電器件領(lǐng)域,特別是一種柔性紫外光探測器及其制備方法。
背景技術(shù)
紫外光探測器的應(yīng)用十分廣泛,例如,在軍用方面,可用于宇航探測、導(dǎo)彈軌跡追蹤等;在民用方面則可用于火災(zāi)報警器、高壓電暈檢測、紫外指紋檢測等,目前普遍使用的是剛性的半導(dǎo)體紫外光探測器,盡管其性能穩(wěn)定,但剛性的特點限制了它的適用范圍,為了適應(yīng)柔性電子快速發(fā)展的潮流,需要開發(fā)出一種制作步驟簡單、成本低廉、響應(yīng)度高的柔性紫外光探測器。
目前常用的圖案化工藝有激光刻蝕、黃光工藝,激光刻蝕設(shè)備昂貴,不可避免的帶來了高成本的問題;黃光工藝操作步驟繁瑣,產(chǎn)生大量化學(xué)廢液,而且在刻蝕過程中經(jīng)常會產(chǎn)生圖案邊緣過刻的問題。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問題,本發(fā)明的目的在于提供一種柔性紫外光探測器及其制備方法,制作過程簡單,且柔韌性好。
本發(fā)明解決其問題所采用的技術(shù)方案是:
一種柔性紫外光探測器,包括柔性的襯底、有源層以及電極層,所述有源層包括帶有圖案的金屬氧化物納米線,所述電極層包括帶有圖案的金屬納米線,所述有源層、電極層、襯底依次排列設(shè)置。
進(jìn)一步,所述有源層的圖案、電極層的圖案均為通過光敏化合物在黑暗的高溫環(huán)境下腐蝕有源層、電極層得到。
進(jìn)一步,所述襯底為PET或PEN材料制成的柔性的襯底。采用柔性襯底可以提高紫外光探測器的耐彎折性,擴大使用范圍。
進(jìn)一步,所述金屬氧化物納米線為氧化鋅納米線或氧化鈦納米線其中一種。金屬氧化物制成的紫外光探測器響應(yīng)度較高。
進(jìn)一步,所述金屬納米線為銀納米線、金納米線、銅納米線、鉑納米線、鐵納米線、鎳納米線、鋁納米線、鈦納米線、錫納米線、鋅納米線、銦納米線或鎵納米線其中一種。金屬納米線具有優(yōu)異的光電特性,并且延展性也較好。
一種柔性紫外光探測器的制備方法,包括以下步驟:
A、對襯底進(jìn)行預(yù)處理;
B、配制可圖案化導(dǎo)電油墨和可圖案化金屬氧化物納米線溶液,所述可圖案化導(dǎo)電油墨和可圖案化金屬氧化物納米線溶液中均包括光敏化合物;
C、吸取可圖案化導(dǎo)電油墨,滴在襯底表面,采用旋涂方式在襯底上沉積導(dǎo)電油墨,靜置風(fēng)干,得到透明導(dǎo)電薄膜;
D、將金屬掩膜置于透明導(dǎo)電薄膜上方,進(jìn)行紫外曝光,然后將曝光后的透明導(dǎo)電薄膜置于高溫下進(jìn)行熱顯影,得到電極層圖案;
E、吸取可圖案化金屬氧化物納米線溶液,滴于電極層上層,旋涂,靜置風(fēng)干;
F、將金屬掩膜置于電極層上方,進(jìn)行紫外曝光,然后將曝光后的電極層置于高溫下進(jìn)行熱顯影,得到有源層圖案。
進(jìn)一步,所述步驟A中對襯底進(jìn)行預(yù)處理的具體步驟為:將襯底置于UV/O3環(huán)境下6-10分鐘,所述襯底為PET或PEN材料制成的柔性襯底。增加襯底表面的潤濕性。
進(jìn)一步,所述步驟B中的光敏化合物為易溶于極性溶劑的二苯基碘硝酸鹽。
進(jìn)一步,所述步驟B中的可圖案化導(dǎo)電油墨還包括金屬納米線、膠黏劑以及分散劑,可圖案化金屬氧化物納米線溶液還包括金屬氧化物納米線、膠黏劑以及分散劑。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





