[發明專利]可實現集束晶圓級老化的芯片、晶圓及相應的處理方法在審
| 申請號: | 201810266977.6 | 申請日: | 2018-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN108346593A | 公開(公告)日: | 2018-07-31 |
| 發明(設計)人: | 張文偉 | 申請(專利權)人: | 中國科學院西安光學精密機械研究所;西安中科阿爾法電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;G01R31/26 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標代理有限公司 61211 | 代理人: | 陳廣民 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 晶圓級 集束 芯片 老化處理 晶圓 老化 芯片邊緣 芯片測試 芯片老化 探針孔 打線 減小 探針 | ||
本發明涉及芯片測試領域,具體涉及一種可實現集束晶圓級老化的芯片、晶圓及相應的處理方法。本發明提出的一種可實現集束晶圓級老化的芯片,該芯片可實現集束晶圓級老化處理,免除了芯片Vdd和Vss上出現探針孔的現象,提高了芯片打線的可靠性。本發明提出的一種可實現集束晶圓級老化的晶圓設計,晶圓在實現集束晶圓級老化處理時可明顯減少探針數量,減小成本,并且可以提高老化處理的可靠性。本發明提出的一種集束晶圓級老化處理方法,該方法可有效提高芯片老化處理的可靠性,同時提高芯片的質量。一種可實現集束晶圓級老化的芯片,包括芯片,還包含兩根引線,所述兩根引線分別從芯片的Vdd端和Vss端引出至芯片邊緣。
技術領域
本發明涉及芯片測試領域,具體涉及一種可實現集束晶圓級老化的芯片、晶圓及相應的處理方法。
背景技術
晶圓級老化處理是基于溫度加速法篩選早期失效芯片的有效方法。
晶圓級老化處理的方法應該滿足如下要求:1)不應該毀壞芯片本身;2)應用方便。
現有的晶圓級老化處理方法是:在高溫下,如165度下通電90分鐘后,再測試芯片的基本參數,將失效的芯片剔除出去,該方法加速模擬芯片澡盆形狀早期失效的環境,因此可以減小產品的現場失效機會。
圖1所示是現有技術中一個典型的晶圓級老化處理:在一個晶圓上,每顆芯片的電源端Vdd都需要一個探針,用于提供電源,另外,在每一個芯片的Vss端也需要一個探針。這樣,在老化時,就會有2N個探針作用在晶圓上,導致如下缺陷:
1)探針過多,導致成本過高;
2)可靠性變差。過多的探針接觸所有芯片的可靠性變差,有可能導致有的芯片漏掉老化處理;
3)每一個芯片電源和地的打線端上都會產生探針印,會影響后續打線的可靠性,從而影響產品的可靠性。
發明內容
為克服上述現有技術中存在的不足,本發明提出一種可實現集束晶圓級老化的芯片,該芯片可實現集束晶圓級老化處理,免除了芯片Vdd和Vss上出現探針孔的現象,提高了芯片打線的可靠性。
本發明還提出一種可實現集束晶圓級老化的晶圓,晶圓在實現集束晶圓級老化處理時可明顯減少探針數量,減小成本,并且可以提高老化處理的可靠性。
本發明還提出一種可實現集束晶圓級老化的處理方法,該方法可有效提高芯片老化處理的可靠性,同時提高芯片的質量。
本發明解決上述問題的技術方案是:
一種可實現集束晶圓級老化的芯片,包括芯片,其特殊之處在于:
還包含兩根引線,所述兩根引線分別從芯片的Vdd端和Vss端引出至芯片邊緣。
本發明還提出一種可實現集束晶圓級老化的晶圓,包括晶圓本體和陣列在晶圓本體上的多個上述芯片,其特殊之處在于:
所述晶圓本體上還設有測試區;測試區包括Vdd端和Vss端;
所有芯片還包含兩根引線,兩根引線分別從芯片的Vdd端和Vss端引出至芯片邊緣;所有芯片的Vdd端通過引線與測試區的Vdd端連接,所有芯片的Vss端通過引線與測試區的Vss端連接。
進一步地,上述晶圓本體上設有劃片槽,所有引線布置在劃片槽內。
進一步地,上述晶圓本體劃分有多個芯片集束群,每個芯片集束群包括多個芯片;每個芯片集束群對應一個測試區,或多個芯片集束群對應一個測試區,或所有芯片集束群對應一個測試區。
進一步地,上述測試區設有1~4個Vdd端口以及相應數量的Vss端口。
進一步地,上述測試區設有2個或4個Vdd端口。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





