[發明專利]一種基片樣品架、掩模板及基片更換方法及蒸鍍設備

在審

• 申請號: 201810263233.9
• 申請日: 2018-03-28
• 公開（公告）號: CN108411249A
• 公開（公告）日: 2018-08-17
• 發明（設計）人: 廖良生;黃穩;武啟飛
• 申請（專利權）人: 江蘇集萃有機光電技術研究所有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/50;H01L51/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基片樣品架，包括：支撐架、基片架，其特征在于，所述支撐架上設置有第一對位結構，所述基片架上設置有第二對位結構，所述第二對位結構可與所述第一對位結構相配合，可使所述基片架與所述支撐架對位；

所述支撐架上設置有至少一凸臺，用于支撐所述基片架。

2.根據權利要求1所述的基片樣品架，其特征在于，所述基片樣品架還包括一掩模板架；

所述基片架上設置有第三對位結構，所述掩模板架上設置有第四對位結構，所述第四對位結構與所述第三對位結構相配合，可使所述掩模板架與所述基片架對位。

3.根據權利要求1所述的基片樣品架，其特征在于，所述凸臺上還設置有第五對位結構，所述第五對位結構可與所述基片架上的第一對位結構配合。

4.根據權利要求1所述的基片樣品架，其特征在于，所述支撐架為一“匚”字形結構，所述“匚”字形結構的內側設置有與所述支撐架上表面平行的凹陷式臺階，使所述掩模板架可放置于所述臺階上，嵌入在所述支撐架中。

5.根據權利要求3或4任意一項所述的基片樣品架，其特征在于，所述第一和第五對位結構為對位孔，所述第二對位結構為對位銷；或所述第一和第五對位結構為對位銷，所述第二對位結構為對位孔。

6.根據權利要求5所述的基片樣品架，其特征在于，所述對位銷的上底面面積小于下底面面積，所述上底面為對位銷遠離其所在架體的端面。

7.根據權利要求1所述的基片樣品架，其特征在于，還包括蓋板，所述蓋板通過連接桿與支撐架連接，在所述蓋板與所述支持架之間形成一可允許機械臂托動所述基片架或掩模板架進出的操作空間。

8.一種掩模板更換方法，其特征在于，具體步驟包括：

步驟1：將位于實際作業位置上的基片架與掩模板架構成的組合體放置于暫存位置；

步驟2：將載有掩模板的掩模板架取出并更換掩模板；

步驟3：將載有更換后的掩模板的掩模板架與基片架在暫存位置對位；

步驟4：將對位后的基片架與掩模板架構成的組合體重新置于實際工作位置。

9.根據權利要求8所述的掩模板更換方法，其特征在于，基片架置于所述暫存位置時，基片架與支撐架之間形成一供掩模板架進出的操作空間。

10.一種基片更換方法，其特征在于，具體步驟包括：

步驟1：將位于實際作業位置的基片架與掩模板架構成的組合體放置于暫存位置，此時掩模板架與基片架脫離；

步驟2：將載有掩模板的掩模板架放置于支撐架的凹陷式臺階上；

步驟3：將基片架上的基片取出并更換；

步驟4：將更換后的基片重新放置于基片架內；

步驟5：將載有掩模板的掩模板架與基片架在暫存位置對位；

步驟6：將對位后的基片架與掩模板架構成的組合體重新置于實際工作位置。

11.一種蒸鍍設備，其特征在于，包含權利要求1-7中任意一項所述的基片樣品架。