[發明專利]一種鍍膜設計方法及透明基板

在審

• 申請號: 201810247555.4
• 申請日: 2018-03-23
• 公開（公告）號: CN108490519A
• 公開（公告）日: 2018-09-04
• 發明（設計）人: 石炳川
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08
• 代理公司: 北京鼎佳達知識產權代理事務所(普通合伙) 11348
• 代理人: 王偉鋒;劉鐵生

本申請公開了一種鍍膜設計方法及透明基板，涉及顯示技術領域，解決了現有半透半反膜采用的整體鍍膜方法設計復雜、工藝要求高和成本較高的問題；該鍍膜設計方法包括以下步驟：(1)在透明基板上鍍上所選取的反射膜材料；(2)根據所要求的透射率或反射率計算透射區域的占比；(3)按照所計算的透射區域的占比，對鍍在透明基板上的反射膜進行開口，具體為：將整個反射膜區域分成M*N個等面積矩形子區域；當透射區域的占比為Z_a時，對其中Z_a*M*N個子區域進行完全開口，形成反射膜圖形結構。本申請的方法具有設計簡單，生產工藝要求低的特點，而且可以大大提高產品的穩定性。

技術領域

本申請涉及顯示技術領域，具體涉及一種鍍膜設計方法及透明基板。

背景技術

增強現實和車/機載抬頭顯示等領域因為需要同時融合外部透射光束和內部器件成像光束，對于半透半反式類光學器件具有廣泛的需求。現有技術采用整體鍍膜技術，通過設計多層膜結構實現對光束透反比的控制，由于膜層材料需要對可見光所覆蓋的較長波段具有透射反射比例調節作用，會導致膜層設計復雜，對于膜層材料、基底材料、工藝穩定性要求高，造成器件加工工藝復雜，成本較高。

申請內容

本申請實施例通過提供一種鍍膜設計方法及透明基板，解決了現有半透半反膜采用的整體鍍膜方法設計復雜、工藝要求高和成本較高的問題，提供了一種透射反射比例可調且設計簡單、生產工藝要求低和穩定性高的鍍膜方法。

為達到上述目的，本申請主要提供如下技術方案：

一方面，本申請實施例提供了一種鍍膜設計方法，包括以下步驟：

(1)在透明基板上鍍上所選取的反射膜材料；

(2)根據所要求的透射率或反射率計算透射區域的占比；

(3)按照所計算的透射區域的占比，對鍍在透明基板上的反射膜進行開口，具體為：將整個反射膜區域分成M*N個等面積矩形子區域；當透射區域的占比為Z_a時，對其中Z_a*M*N個子區域進行完全開口，形成反射膜圖形結構。

作為優選，所述子區域的尺度低于人眼的分辨極限。

作為優選，根據所要求的透射率或反射率按照以下的公式計算透射區域的占比：

鍍反射膜的透明基板的整體透射率T＝Z_a*T_g+Z_b*T_f，鍍反射膜的透明基板的整體反射率R＝Z_a*R_g+Z_b*R_f，且T_g+A_g+R_g＝1，T_f+A_f+R_f＝1，Z_a+Z_b＝1，其中T_g為透明基板的透射率，A_g為透明基板的吸收率，R_g為透明基板的反射率，T_f為反射區域的透射率，A_f為反射區域的吸收率，R_f為反射區域的反射率，Z_a為透射區域的占比，Z_b為反射區域的占比，由此可推出：

透射區域的占比為：Z_a＝(T-T_f)/(T_g-T_f)，

反射區域的占比為：Z_b＝(R-R_g)/(R_f-R_g)。

作為優選，對其中Z_a*M*N個子區域進行完全開口后，形成的反射膜圖形結構為柵欄狀結構。