[發明專利]一種鍍膜設計方法及透明基板在審
| 申請號: | 201810247555.4 | 申請日: | 2018-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN108490519A | 公開(公告)日: | 2018-09-04 |
| 發明(設計)人: | 石炳川 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/08 | 分類號: | G02B5/08 |
| 代理公司: | 北京鼎佳達知識產權代理事務所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王偉鋒;劉鐵生 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透明基板 透射區域 鍍膜 反射膜 開口 生產工藝要求 半透半反膜 等面積矩形 反射率計算 反射膜材料 反射膜區域 工藝要求 圖形結構 整體鍍膜 透射率 子區域 申請 透明 | ||
1.一種鍍膜設計方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)在透明基板上鍍上所選取的反射膜材料;
(2)根據所要求的透射率或反射率計算透射區域的占比;
(3)按照所計算的透射區域的占比,對鍍在透明基板上的反射膜進行開口,具體為:將整個反射膜區域分成M*N個等面積矩形子區域;當透射區域的占比為Za時,對其中Za*M*N個子區域進行完全開口,形成反射膜圖形結構。
2.根據權利要求1所述的鍍膜設計方法,其特征在于,所述子區域的尺度低于人眼的分辨極限。
3.根據權利要求1所述的鍍膜設計方法,其特征在于,根據所要求的透射率或反射率按照以下的公式計算透射區域的占比:
鍍反射膜的透明基板的整體透射率T=Za*Tg+Zb*Tf,鍍反射膜的透明基板的整體反射率R=Za*Rg+Zb*Rf,且Tg+Ag+Rg=1,Tf+Af+Rf=1,Za+Zb=1,其中Tg為透明基板的透射率,Ag為透明基板的吸收率,Rg為透明基板的反射率,Tf為反射區域的透射率,Af為反射區域的吸收率,Rf為反射區域的反射率,Za為透射區域的占比,Zb為反射區域的占比,由此可推出:
透射區域的占比為:Za=(T-Tf)/(Tg-Tf),
反射區域的占比為:Zb=(R-Rg)/(Rf-Rg)。
4.根據權利要求1所述的鍍膜設計方法,其特征在于,對其中Za*M*N個子區域進行完全開口后,形成的反射膜圖形結構為柵欄狀結構。
5.根據權利要求4所述的鍍膜設計方法,其特征在于,所述柵欄狀結構的寬度小于人眼的分辨極限。
6.根據權利要求4所述的鍍膜設計方法,其特征在于,所述柵欄狀結構為曲線柵欄狀結構。
7.根據權利要求1所述的鍍膜設計方法,其特征在于,采用計算機隨機生成的圖形結構,對鍍在透明基板上的反射膜進行開口。
8.根據權利要求7所述的鍍膜設計方法,其特征在于,所述采用計算機隨機生成的圖形結構,對鍍在透明基板上的反射膜進行開口,具體為:
利用計算機對各個子區域隨機賦值,第i個子區域賦值Xi,其中Xi∈{1,2,3,…,M*N},當i≠j時,Xi≠Xj,1≤i≤M*N,1≤j≤M*N,且各個子區域的數值的大小呈均勻分布,再對值大于(1-Za)*M*N的所有子區域進行開口。
9.根據權利要求1所述的鍍膜設計方法,其特征在于,所述透明基板為玻璃基板。
10.一種透明基板,其特征在于,所述透明基板上具有根據權利要求1-9任一項所述的鍍膜設計方法鍍制的反射膜。
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