[發明專利]一種軍用多功能的帳篷布及其制備方法在審
| 申請號: | 201810246610.8 | 申請日: | 2018-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN108437590A | 公開(公告)日: | 2018-08-24 |
| 發明(設計)人: | 郭齊紅;楊永強;湯偉 | 申請(專利權)人: | 銥格斯曼航空科技集團有限公司 |
| 主分類號: | B32B27/02 | 分類號: | B32B27/02;B32B27/12;B32B27/34;B32B27/32;B32B7/12;B32B33/00;B32B37/12;B32B38/00;B32B37/06;B32B37/10;E04H15/58;C23C14/02;C23C14/20 |
| 代理公司: | 北京中海智圣知識產權代理有限公司 11282 | 代理人: | 徐金偉 |
| 地址: | 100083 北京市海淀區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 帳篷布 復合織物層 制備 粘接劑層 薄膜層 鍍銀層 織物層 抗紫外輻射 揉搓 防風保暖 防水透氣 技術效果 高阻燃 抗老化 防割 防霉 抗菌 耐折 柔軟 質輕 堅韌 生化 | ||
1.一種軍用多功能的帳篷布,其特征在于包括:復合織物層(1)、粘接劑層(2)、薄膜層(3),復合織物層(1)和薄膜層(3)之間設置粘接劑層(2),復合織物層(1)包括織物層(11)和鍍銀層(12),織物層(11)兩側分別設置鍍銀層(12)。
2.根據權利要求1所述的帳篷布,其特征在于,復合織物層(1)為單質銀通過多靶磁控濺射工藝和復合電鍍工藝包覆于織物層(11)表面而形成。
3.根據權利要求1或2所述的帳篷布,其特征在于,織物層(11)為芳綸纖維平紋織物層并且厚度為170-180μm,優選厚度為175μm。
4.根據權利要求1所述的帳篷布,其特征在于,鍍銀層(12)為單質銀層并且厚度為80-100nm,優選厚度為90nm。
5.根據權利要求1所述的帳篷布,其特征在于,粘接劑層(2)為TPU熱熔膠層并且厚度為8~10μm,優選厚度為10μm。
6.根據權利要求1所述的帳篷布,其特征在于,薄膜層(3)為ePTFE膜層并且厚度為10-30μm,優選厚度為20μm。
7.一種如權利要求1-6任一項所述的帳篷布的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟一:選擇芳綸纖維平紋織物作為織物層;
步驟二:采用多靶磁控濺射工藝和復合電鍍工藝,將單質銀包覆于步驟一中織物層的表面形成復合織物層;
步驟三:將步驟二中復合織物層的粘接面進行電暈處理,電暈采用低溫等離子技術,處理功率100W,工作氣壓維持在0.5~10Pa之間,處理時間30S,電暈處理完成后,將TPU熱熔膠以每平米15g的上膠量均勻涂敷在復合織物層的粘接面上;
步驟四:選擇ePTFE膜作為薄膜層,并對薄膜層表面進行低溫等離子處理,處理功率100W,工作氣壓維持在0.5~10Pa之間,處理時間60S,然后在此薄膜層表面以每平米15g的上膠量均勻涂敷TPU熱熔膠;
步驟五:將步驟三中涂敷TPU熱熔膠的復合織物層與步驟四中涂敷TPU熱熔膠的薄膜層采用干法層壓工藝進行粘接復合。
步驟六:將步驟五中通過粘接劑粘接復合的復合織物層與薄膜層進行收卷,在80~100℃的條件下熟化24小時。
8.根據權利要求7所述的制備方法,其特征在于,步驟二中多靶磁控濺射工藝包括如下步驟:
1)采用等離子清洗機對織物進行清洗,清洗10-20min;
2)將清洗后的織物進行固定;
3)對腔室抽真空,真空度為5×10Pa,工作氣壓2Pa;
4)向腔室內充氬氣,采用多靶磁控濺射系統,以功率300mA×115V,靶到織物距離10cm,進行預濺射;
5)再次腔室抽真空,腔室真空度為5×10-4Pa,工作氣壓2Pa,采用多靶磁控濺射系統,以功率300mA×115V,靶到織物距離10cm,進行濺射40min;
6)進行退火,并對織物進行拆卸;
7)進行電阻特性檢測,在常溫常壓和干燥環境下進行封存。
9.根據權利要求7所述的制備方法,其特征在于,步驟二中復合電鍍工藝包括如下步驟:
①進行清洗,去除表面油脂、銹蝕和灰塵;
②進行預鍍銀,在弱酸中浸蝕,進行活化處理,陽離子表面活性劑采用7mg/L,非離子表面活性劑采用100mg/L;
③用水清洗,然后浸銀,再次用水清洗;
④采用脈沖鍍銀,脈沖平均電流為0.7~1.3A/dm2,脈寬0.5ms,占空比40%;
⑤用水清洗,清洗后進行鈍化處理,并干燥。
10.根據權利要求7所述的制備方法,其特征在于,步驟五中干法層壓工藝包括如下步驟:
(1)將復合織物層與薄膜層剪成工作尺寸;
(2)將復合織物層與薄膜層放在疊合體兩面;
(3)進行預熱和預壓;
(4)進行熱壓,壓力0.5Mpa,并緩慢升溫;
(5)熱壓結束,關閉熱源,在保壓狀態下冷卻,冷卻到50℃以下,除去壓力;
(6)進行脫模、加工。
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