[發明專利]多孔薄膜觀測窗口

在審

• 申請號: 201810245516.0
• 申請日: 2018-03-23
• 公開（公告）號: CN108169234A
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發明（設計）人: 胡慧珊;溫賽賽;馬碩;王新亮
• 申請（專利權）人: 蘇州原位芯片科技有限責任公司
• 主分類號: G01N21/84
• 分類號: G01N21/84;G01N21/01;G01N23/22
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 李明

本發明公開了一種多孔薄膜觀測窗口，包括：襯底，其包括相對設置的第一表面和第二表面；預定厚度的薄膜，其設置在所述第一表面和所述第二表面上，所述薄膜的形狀和尺寸與所述襯底的形狀和尺寸一致；所述襯底上還設置有貫穿所述第一表面和所述第二表面的觀測凹槽；并且，所述觀測凹槽還貫穿位于所述第一表面或所述第二表面上的所述薄膜；未被所述觀測凹槽貫穿的薄膜上間隔設置有多個貫穿該薄膜的通孔，所述通孔與所述觀測凹槽相對應，以通過各所述通孔觀測樣品。本發明的多孔薄膜觀測窗口，可以通過所設置的通孔，觀測延伸出該通孔或架于該通孔上方的部分樣品，實現對樣品的高分辨率成像。

技術領域

本發明涉及微納米表征技術領域，具體涉及一種多孔薄膜觀測窗口。

背景技術

微納米表征技術在科學研究中起著最為直觀基礎的作用，受到廣泛科研人員的極度重視。對于納米材料及生物樣品如病毒、細胞，許多表征手段如TEM(透射電子顯微鏡)等需要一種能使電子束透過的支撐薄膜。而X-射線設備需要優質耐壓及耐受高低能量X射線的透過率支撐載膜，支撐載膜需要滿足超薄、耐高溫、耐高壓的要求，以保證X-射線的透射率和X-射線設備的真空要求。生物領域方面的樣品如病毒、細胞等等的觀測表征對于周圍環境的變化較為敏感，易造成破損。因而在微納米表征手段中，以上幾點對于承載體有著許多方面的限制，現今市面上存在的銅網碳膜載體，雖然能滿足大部分的觀測需求，仍有許多不足的地方，如無法實現高分辨率成像、背景噪音大、對生物樣品親和性較差、難以定位等等。

發明內容

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一，提出了一種多孔薄膜觀測窗口。

為了實現上述目的，本發明的提供了一種多孔薄膜觀測窗口，包括：

襯底，其包括相對設置的第一表面和第二表面；

預定厚度的薄膜，其設置在所述第一表面和所述第二表面上，所述薄膜的形狀和尺寸與所述襯底的形狀和尺寸一致；

所述襯底上還設置有貫穿所述第一表面和所述第二表面的觀測凹槽；并且，所述觀測凹槽還貫穿位于所述第一表面或所述第二表面上的所述薄膜；

未被所述觀測凹槽貫穿的薄膜上間隔設置有多個貫穿該薄膜的通孔，所述通孔與所述觀測凹槽相對應，以通過各所述通孔觀測樣品。

可選地，未被所述觀測凹槽貫穿的薄膜上還設置有多個坐標標識，各所述坐標標識對應一個或多個所述通孔。

可選地，所述多個通孔呈陣列排布，并且，所述通孔的尺寸小于所述樣品的尺寸。

可選地，被所述觀測凹槽所貫穿的所述薄膜劃分成四個象限區域，各象限區域內均陣列分布有多個所述通孔。

可選地，各象限區域內劃分有四個子象限區域，各子象限區域內均陣列分布有多個所述通孔，并且，各子象限區域內均設置有至少一個所述坐標標識。

可選地，各子像素區域內的各所述通孔之間的距離為0.1～100μm。

可選地，各所述通孔的直徑為0.1～100μm。

可選地，所述觀測凹槽的尺寸為0.05～20mm。

可選地，所述薄膜的預定厚度為1-500nm；和/或，

所述薄膜的制作材料包括硅、氮化硅、氧化硅和碳化硅中的任意一者。

可選地，所述襯底的厚度為50-1000um；和/或，

所述襯底為N型或P型單晶硅。