[發(fā)明專利]多孔薄膜觀測窗口在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810245516.0 | 申請日： | 2018-03-23 |
| 公開（公告）號： | CN108169234A | 公開（公告）日： | 2018-06-15 |
| 發(fā)明（設計）人： | 胡慧珊;溫賽賽;馬碩;王新亮 | 申請（專利權）人： | 蘇州原位芯片科技有限責任公司 |
| 主分類號： | G01N21/84 | 分類號： | G01N21/84;G01N21/01;G01N23/22 |
| 代理公司： | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人： | 李明 |
| 地址： | 215123 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 通孔 薄膜 第二表面 第一表面 觀測 多孔薄膜 觀測窗口 襯底 貫穿 高分辨率成像 尺寸一致 觀測樣品 間隔設置 相對設置 延伸 | ||
1.一種多孔薄膜觀測窗口，其特征在于，包括：
襯底，其包括相對設置的第一表面和第二表面；
預定厚度的薄膜，其設置在所述第一表面和所述第二表面上，所述薄膜的形狀和尺寸與所述襯底的形狀和尺寸一致；
所述襯底上還設置有貫穿所述第一表面和所述第二表面的觀測凹槽；并且，所述觀測凹槽還貫穿位于所述第一表面或所述第二表面上的所述薄膜；
未被所述觀測凹槽貫穿的薄膜上間隔設置有多個貫穿該薄膜的通孔，所述通孔與所述觀測凹槽相對應，以通過各所述通孔觀測樣品。
2.根據(jù)權利要求1所述的多孔薄膜觀測窗口，其特征在于，未被所述觀測凹槽貫穿的薄膜上還設置有多個坐標標識，各所述坐標標識對應一個或多個所述通孔。
3.根據(jù)權利要求2所述的多孔薄膜觀測窗口，其特征在于，所述多個通孔呈陣列排布，并且，所述通孔的尺寸小于所述樣品的尺寸。
4.根據(jù)權利要求3所述的多孔薄膜觀測窗口，其特征在于，被所述觀測凹槽所貫穿的所述薄膜劃分成四個象限區(qū)域，各象限區(qū)域內均陣列分布有多個所述通孔。
5.根據(jù)權利要求4所述的多孔薄膜觀測窗口，其特征在于，各象限區(qū)域內劃分有四個子象限區(qū)域，各子象限區(qū)域內均陣列分布有多個所述通孔，并且，各子象限區(qū)域內均設置有至少一個所述坐標標識。
6.根據(jù)權利要求5所述的多孔薄膜觀測窗口，其特征在于，各子像素區(qū)域內的各所述通孔之間的距離為0.1～100μm。
7.根據(jù)權利要求5所述的多孔薄膜觀測窗口，其特征在于，各所述通孔的直徑為0.1～100μm。
8.根據(jù)權利要求1至7中任意一項所述的多孔薄膜觀測窗口，其特征在于，所述觀測凹槽的尺寸為0.05～20mm。
9.根據(jù)權利要求1至7中任意一項所述的多孔薄膜觀測窗口，其特征在于，所述薄膜的預定厚度為1-500nm；和/或，
所述薄膜的制作材料包括硅、氮化硅、氧化硅和碳化硅中的任意一者。
10.根據(jù)權利要求1至7中任意一項所述的多孔薄膜觀測窗口，其特征在于，所述襯底的厚度為50-1000um；和/或，
所述襯底為N型或P型單晶硅。
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